本發(fā)明屬于清潔設(shè)備,特別是涉及一種基站。
背景技術(shù):
1、基站是用于對清潔機(jī)器人的拖擦件進(jìn)行清潔或?yàn)榍鍧崣C(jī)器人提供充電服務(wù)的設(shè)備。
2、目前市面上有一些清潔設(shè)備(清潔機(jī)器人)會在基站的清洗槽上清潔自己的拖擦件,但是清潔設(shè)備長期清理拖擦件之后,會在清洗槽上沉積一些垃圾,由于基站本體過于笨重不利于搬運(yùn)和清洗,且基站內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜清潔不方便,所以會加大清潔難度,降低用戶體驗(yàn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:針對現(xiàn)有的基站內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜,導(dǎo)致清潔不方便、清潔難度大的技術(shù)問題,提供一種基站。
2、為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提供一種基站,包括基站底座及清洗槽,所述清洗槽設(shè)置在所述基站底座上方,所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)液結(jié)構(gòu)、排液結(jié)構(gòu)、以及凸起部,所述凸起部用于對清潔機(jī)器人的拖擦件進(jìn)行刮擦去污;
3、所述基站底座與所述清洗槽之間形成有污水收集腔,所述排液結(jié)構(gòu)包括過濾孔洞,所述過濾孔洞與所述污水收集腔連通;
4、所述清洗槽與所述基站底座可拆卸連接。
5、可選地,所述過濾孔洞設(shè)置在所述清洗槽的底部;
6、所述進(jìn)液結(jié)構(gòu)包括噴水口。
7、可選地,所述基站還包括噴水管及吸水管,所述噴水管以及所述吸水管設(shè)置在所述污水收集腔內(nèi),所述噴水管的出口連接所述噴水口,所述吸水管的入口與所述污水收集腔連通,所述噴水管用于提供清洗用水至所述噴水口,所述吸水管用于將污水從所述污水收集腔中抽走。
8、可選地,所述清洗槽的壁面上設(shè)置有與所述污水收集腔連通的壁面過濾流水口;
9、在豎直方向上,所述壁面過濾流水口的入水口高于所述過濾孔洞的入水口;
10、所述壁面過濾流水口的入水口投影到豎直方向上的長度大于0。
11、可選地,所述壁面過濾流水口沿水平方向貫通所述清洗槽的壁面;
12、所述過濾孔洞沿豎直方向貫通所述清洗槽的底部。
13、可選地,所述基站還包括用于防止水溢出所述基站的防溢裝置;
14、所述防溢裝置包括控制裝置和至少一個防溢觸片;
15、所述防溢觸片電連接所述控制裝置;
16、在所述基站內(nèi)的水位漲至所述防溢觸片的高度并與所述防溢觸片接觸時,所述控制裝置發(fā)出警報(bào)和/或控制所述基站停止向所述進(jìn)液結(jié)構(gòu)供水。
17、可選地,所述防溢觸片設(shè)置在所述污水收集腔內(nèi);
18、在豎直方向上,所述防溢觸片位于所述基站底座的溢出水位的下方且位于所述基站底座的水位最低點(diǎn)上方。
19、可選地,所述清洗槽上設(shè)置有防溢流水口,所述防溢流水口的位置低于清洗槽的溢出水位;
20、所述防溢觸片設(shè)置在所述基站底座的側(cè)壁的內(nèi)表面,所述防溢流水口與防溢觸片相對設(shè)置;
21、當(dāng)清洗用水通過所述防溢流水口從清洗槽流向污水收集腔時,清洗用水與所述防溢觸片接觸。
22、可選地,所述防溢觸片設(shè)置在所述清洗槽的側(cè)壁的內(nèi)表面;
23、在豎直方向上,所述防溢觸片位于所述清洗槽的溢出水位的下方且位于所述清洗槽的槽體最低點(diǎn)上方;其中,所述清洗槽的溢出水位和所述基站底座的溢出水位相同。
24、可選地,所述進(jìn)液結(jié)構(gòu)還包括進(jìn)液部件,所述進(jìn)液部件設(shè)置在所述清洗槽上,所述噴水口設(shè)置在所述進(jìn)液部件上;
25、在清洗所述拖擦件時,所述凸起部和所述拖擦件接觸,所述進(jìn)液部件和所述拖擦件之間存在間隙。
26、可選地,所述排液結(jié)構(gòu)包括壁面過濾流水口,所述壁面過濾流水口設(shè)置在所述清洗槽的壁面上;
27、所述壁面過濾流水口的入水口投影到豎直方向上的長度大于0。
28、可選地,所述清洗槽與所述基站底座間隙配合,并通過限位結(jié)構(gòu)定位安裝。
29、可選地,所述清洗槽安裝于所述基站上時,所述清洗槽向水平方向以及向下的位移受到限制,所述清洗槽向上的位移不受限制;和/或,
30、所述清洗槽的側(cè)壁的外表面設(shè)有第一限位結(jié)構(gòu),所述基站底座的側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)有第二限位結(jié)構(gòu),所述第一限位結(jié)構(gòu)與所述第二限位結(jié)構(gòu)相互限位,以限制所述清洗槽在水平方向的運(yùn)動;和/或,
31、所述基站底座或所述清洗槽上設(shè)置有支撐于所述基站底座和所述清洗槽之間,并用于限制所述清洗槽向下運(yùn)動的支撐件,以限制所述清洗槽向下的位移。
32、本發(fā)明另一實(shí)施例還提供了一種基站,包括箱體、基站底座以及清洗槽,所述箱體和所述基站底座形成腔體結(jié)構(gòu),所述清洗槽位于所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi);其中,
33、所述清洗槽設(shè)置在所述基站底座上方,所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)液結(jié)構(gòu)、排液結(jié)構(gòu)、及凸起部,所述凸起部用于對清潔機(jī)器人的拖擦件進(jìn)行刮擦去污;
34、所述基站底座與所述清洗槽之間形成有污水收集腔,所述排液結(jié)構(gòu)包括過濾孔洞,所述過濾孔洞與所述污水收集腔連通;
35、所述清洗槽與所述基站底座可拆卸連接。
36、可選地,所述基站底座包括底座凹槽、設(shè)置在所述底座凹槽側(cè)邊的凹槽壁、從所述底座凹槽的一側(cè)逐漸向下延伸的導(dǎo)向面以及設(shè)置在所述導(dǎo)向面兩側(cè)的導(dǎo)向板,所述箱體與凹槽壁及導(dǎo)向板連接;
37、所述腔體結(jié)構(gòu)在靠近所述導(dǎo)向面的一側(cè)包括基站入口,所述清潔機(jī)器人通過所述基站入口進(jìn)入所述基站,所述導(dǎo)向面用于引導(dǎo)所述清潔機(jī)器人進(jìn)入所述基站,設(shè)置在所述導(dǎo)向面兩側(cè)的所述導(dǎo)向板用于調(diào)整清潔機(jī)器人的行進(jìn)方向。
38、可選地,所述清洗槽包括槽體和把手,當(dāng)所述清洗槽位于所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi),所述槽體位于所述底座凹槽上,所述把手沿所述導(dǎo)向板向所述基站入口延伸;其中,
39、所述基站還包括支撐于所述基站底座和所述清洗槽之間,并用于限制所述清洗槽向下運(yùn)動的支撐件,所述支撐件布置于所述清洗槽和/或所述基站底座上。
40、本發(fā)明實(shí)施例提供的基站,拖擦件的垃圾被清洗槽上的凸起部從拖擦件上刮擦去除,且落入清洗槽上,污水通過排液結(jié)構(gòu)流入基站底座與清洗槽之間形成的污水收集腔中。清潔完成后,可以對清洗槽上的垃圾進(jìn)行清理,基站清潔方便且清潔難度小,提高了用戶體驗(yàn)。
1.一種基站,其特征在于,包括基站底座及清洗槽,所述清洗槽設(shè)置在所述基站底座上方,所述清洗槽上設(shè)有進(jìn)液結(jié)構(gòu)、排液結(jié)構(gòu)、以及凸起部,所述凸起部用于對清潔機(jī)器人的拖擦件進(jìn)行刮擦去污;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基站,其特征在于,所述過濾孔洞設(shè)置在所述清洗槽的底部;
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基站,其特征在于,所述基站還包括噴水管及吸水管,所述噴水管以及所述吸水管設(shè)置在所述污水收集腔內(nèi),所述噴水管的出口連接所述噴水口,所述吸水管的入口與所述污水收集腔連通,所述噴水管用于提供清洗用水至所述噴水口,所述吸水管用于將污水從所述污水收集腔中抽走。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基站,其特征在于,所述清洗槽的壁面上設(shè)置有與所述污水收集腔連通的壁面過濾流水口;
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基站,其特征在于,所述壁面過濾流水口沿水平方向貫通所述清洗槽的壁面;
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基站,其特征在于,所述基站還包括用于防止水溢出所述基站的防溢裝置;
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基站,其特征在于,所述防溢觸片設(shè)置在所述污水收集腔內(nèi);
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基站,其特征在于,所述清洗槽上設(shè)置有防溢流水口,所述防溢流水口的位置低于清洗槽的溢出水位;
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基站,其特征在于,所述防溢觸片設(shè)置在所述清洗槽的側(cè)壁的內(nèi)表面;
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基站,其特征在于,所述進(jìn)液結(jié)構(gòu)還包括進(jìn)液部件,所述進(jìn)液部件設(shè)置在所述清洗槽上,所述噴水口設(shè)置在所述進(jìn)液部件上;
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基站,其特征在于,所述排液結(jié)構(gòu)包括壁面過濾流水口,所述壁面過濾流水口設(shè)置在所述清洗槽的壁面上;
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基站,其特征在于,所述清洗槽與所述基站底座間隙配合,并通過限位結(jié)構(gòu)定位安裝。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基站,其特征在于,
14.一種基站,其特征在于,包括箱體、基站底座以及清洗槽,所述箱體和所述基站底座形成腔體結(jié)構(gòu),所述清洗槽位于所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi);其中,
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基站,其特征在于,所述基站底座包括底座凹槽、設(shè)置在所述底座凹槽側(cè)邊的凹槽壁、從所述底座凹槽的一側(cè)逐漸向下延伸的導(dǎo)向面以及設(shè)置在所述導(dǎo)向面兩側(cè)的導(dǎo)向板,所述箱體與凹槽壁及導(dǎo)向板連接;
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基站,其特征在于,所述清洗槽包括槽體和把手,當(dāng)所述清洗槽位于所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi),所述槽體位于所述底座凹槽上,所述把手沿所述導(dǎo)向板向所述基站入口延伸;其中,