本技術(shù)屬于家用電器,具體地說,是涉及一種清潔基座及清潔設(shè)備。
背景技術(shù):
1、市面上的洗地機等清潔設(shè)備,在清潔地面后,清潔主機放置在清潔基座上進行清潔和烘干。
2、由于清潔設(shè)備長期使用過程中容易滋生細菌,現(xiàn)有清潔基座在對清潔滾筒進行清潔時,其出風位置比較單一,對清潔滾筒的表面覆蓋不全面,清潔滾筒烘干時間長,如果清洗不徹底或者烘干不徹底,很容易造成細菌滋生,導致清潔滾筒發(fā)霉損壞。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本實用新型的目的在于提供一種清潔基座及清潔設(shè)備,以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的清潔基座在對清潔滾筒清洗過程中,清洗或者烘干不徹底、烘干時間長,容易導致細菌滋生、清潔滾筒發(fā)霉等問題。
2、為實現(xiàn)上述實用新型目的,本實用新型采用下述技術(shù)方案予以實現(xiàn):
3、在一個方面,本實用新型提出了一種清潔基座,其包括:
4、底座,其內(nèi)形成有安裝腔,所述底座的上表面形成有支撐面和清潔槽,所述支撐面用于支撐清潔主機,所述清潔槽的底部設(shè)置有導熱部;
5、干燥組件,其包括設(shè)置在所述安裝腔內(nèi)的風機、與所述風機連接的風道以及設(shè)置在所述風道外側(cè)的加熱件,所述加熱件至少部分與所述導熱部接觸連接;
6、其中,所述底座上形成有進風部和出風部,所述進風部與所述風機連通,所述出風部與所述風道連通,所述出風部位于清潔槽遠離支撐面的一側(cè),用于向所述清潔槽輸出干燥氣流。
7、在本申請的一些實施例中,所述安裝腔內(nèi)形成有加熱區(qū),所述加熱區(qū)位于所述清潔槽的下方,所述風道在所述加熱區(qū)內(nèi)形成有曲折段。
8、在本申請的一些實施例中,所述加熱件包覆在所述曲折段的外側(cè),所述底座上設(shè)置有充電組件,所述充電組件用于外接電源,所述充電組件與所述加熱件電連接和所述風機電連接。
9、在本申請的一些實施例中,所述導熱部為設(shè)置在所述清潔槽底部的金屬導熱板,所述加熱件為石墨烯加熱板。
10、在本申請的一些實施例中,所述清潔槽遠離所述支撐面的一側(cè)形成有限位弧面,所述出風部為形成在所述限位弧面上沿著直線排列的多個出風口,各所述出風口朝向所述清潔槽。
11、在本申請的一些實施例中,所述風道的末端形成有與所述清潔槽平行的直線段,所述直線段上間隔設(shè)置有與所述風道的輸風通道連通的排風部,各所述排風部一一對應(yīng)延伸至對應(yīng)所述出風口內(nèi),所述輸風通道內(nèi)的干燥氣流經(jīng)過各所述排風部從對應(yīng)所述出風口輸出。
12、在本申請的一些實施例中,各所述排風部上形成有朝向所述清潔槽的斜切口。
13、在本申請的一些實施例中,所述支撐面上形成有輪槽,用于放置行走輪。
14、在本申請的一些實施例中,所述進風部為形成在所述底座上的進風口,所述進風口上設(shè)置有格柵。
15、在另一個方面,本實用新型還提出了一種清潔設(shè)備,包括清潔主體,所述清潔主機的下方設(shè)置有清潔滾筒,其還包括上述任一所涉及的清潔基座。
16、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的優(yōu)點和積極效果是:
17、本申請所涉及的清潔基座及清潔設(shè)備,清潔基座內(nèi)設(shè)置有安裝腔,安裝腔內(nèi)設(shè)置有干燥組件,干燥組件中的風道外設(shè)置有加熱件,清潔基座上的清潔槽內(nèi)設(shè)置有導熱部,加熱件除了給風道內(nèi)輸送的干燥氣流進行加熱之外,還可以通過導熱部對清潔槽內(nèi)的清潔滾筒加熱,使得清潔滾筒在洗滌過程中以及加熱過程中均處于加熱狀態(tài),有利于提高清潔滾筒的清潔效果,且有利于縮短烘干時間,提高烘干的速度。
18、結(jié)合附圖閱讀本實用新型的具體實施方式后,本實用新型的其他特點和優(yōu)點將變得更加清楚。
1.一種清潔基座,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基座,其特征在于,
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔基座,其特征在于,
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基座,其特征在于,
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基座,其特征在于,
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔基座,其特征在于,
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清潔基座,其特征在于,
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基座,其特征在于,
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基座,其特征在于,
10.一種清潔設(shè)備,包括清潔主體,所述清潔主機的下方設(shè)置有清潔滾筒,其特征在于,還包括上述權(quán)利要求1-7任一項所涉及的清潔基座。