一種研磨材料的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及金屬研磨技術領域，更具體地說，涉及一種研磨材料。
【背景技術】
[0002]在研磨藍寶石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化鎵、砷化鎵、砷化銦、磷化銦等硬脆材料的過程中，一般會使用到研磨材料和研磨用組合物。對于在研磨硬盤用玻璃基板、液晶顯示面板的玻璃基板、光掩模用合成石英基板等基板的用途中使用的研磨用組合物，為了提高研磨后的基板的品質(zhì)，強烈要求研磨后的基板的表面粗糙度小以及研磨后的基板上如劃痕那樣的表面缺陷少。另外，為了縮短研磨操作所耗費的時間，還要求基板的研磨速度(去除速度)高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明要解決的技術問題在于，針對現(xiàn)有技術的上述缺陷，提供一種研磨材料。
[0004]本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是:
構(gòu)造一種研磨材料，包括氧化鋯顆粒和鈰鹽；其中，按重量計，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為7-5:3-5;所述氧化鋯顆粒具有I?10m2/g的比表面積，所述氧化鋯顆粒具有0.2 μπι以下的平均一次粒徑；在每ImL含有I %質(zhì)量的氧化鋯顆粒的水分散液中，所述氧化鋯顆粒之中具有4 μπι以上的二次粒徑的顆粒的個數(shù)為20000000個以下。
[0005]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述研磨材料還包括鋯鹽。
[0006]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為 7-5:2-4:1。
[0007]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為7:3。
[0008]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為 7:2:1。
[0009]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為6:4。
[0010]本發(fā)明所述的研磨材料，其中，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為 6:3:1。
[0011]本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的研磨材料更加適合用于藍寶石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化鎵、砷化鎵、砷化銦、磷化銦等硬脆材料的研磨中。
【具體實施方式】
[0012]為了使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的部分實施例，而不是全部實施例?；诒景l(fā)明的實施例，本領域普通技術人員在沒有付出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明的保護范圍。
[0013]本發(fā)明較佳實施例的研磨材料，包括氧化鋯顆粒和鈰鹽；其中，按重量計，氧化鋯顆粒和鈰鹽的組合比例為7-5:3-5;氧化鋯顆粒具有I?10m2/g的比表面積，氧化鋯顆粒具有0.2 μπι以下的平均一次粒徑；在每ImL含有I %質(zhì)量的氧化鋯顆粒的水分散液中，氧化鋯顆粒之中具有4μπι以上的二次粒徑的顆粒的個數(shù)為20000000個以下。本實施例的研磨材料更加適合用于藍寶石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化鎵、砷化鎵、砷化銦、磷化銦等硬脆材料的研磨中。
[0014]氧化鋯顆粒既可以是由立方晶系、正方晶系、單斜晶系等結(jié)晶質(zhì)氧化鋯形成的顆粒，也可以是由非晶質(zhì)氧化鋯形成的顆粒。作為研磨材料優(yōu)選的是正方晶系、單斜晶系的氧化鋯。氧化鋯顆粒也可包含鈣、鎂、鉿、釔、硅等。其中，氧化鋯顆粒的純度優(yōu)選盡量高，具體而言，優(yōu)選為99 %以上，更優(yōu)選為99.5 %以上，進一步優(yōu)選為99.8 %以上。隨著氧化鋯顆粒的純度在99 %以上的范圍內(nèi)變高，基于研磨用組合物的硬脆材料的研磨速度提高。在該方面，若氧化鋯顆粒的純度為99 %以上，進一步而言為99.5 %以上，更進一步而言為99.8 %以上，則變得容易使基于研磨用組合物的硬脆材料的研磨速度提高到在實用上特別適宜的水平。
[0015]上述研磨材料中，研磨材料還包括鋯鹽。優(yōu)選地，氧化鋯顆粒、鈰鹽和鋯鹽的組合比例為 7-5:2-4:1。
[0016]上述研磨材料中，優(yōu)選地，氧化鋯顆粒和鈰鹽的組合比例為7:3。
[0017]上述研磨材料中，優(yōu)選地，氧化鋯顆粒、鈰鹽和鋯鹽的組合比例為7:2:1。
[0018]上述研磨材料中，優(yōu)選地，氧化鋯顆粒和鈰鹽的組合比例為6:4。
[0019]上述研磨材料中，優(yōu)選地，氧化鋯顆粒、鈰鹽和鋯鹽的組合比例為6:3:1。
[0020]氧化鋯顆粒中的雜質(zhì)可以通過粉末X射線衍射法測定。使用例如RigakuCorporat1n制造的MiniFlex等粉末X射線衍射裝置測定的2 Θ為26.5°附近的衍射峰的強度優(yōu)選為200cps以下。更優(yōu)選2Θ為26.5°附近不出現(xiàn)衍射峰，這表示氧化鋯顆粒實質(zhì)上不含有作為雜質(zhì)的石英二氧化硅。另外，若使用粉末X射線衍射裝置，則能夠測定氧化鋯的微晶尺寸。優(yōu)選的是基于2 Θ為28.0°附近的衍射強度和31.0°附近的衍射強度算出的微晶尺寸均為以上、這表示氧化鋯的晶系為單斜晶系，且該微晶尺寸大。
[0021]氧化鋯顆粒的比表面積優(yōu)選為lm2/g以上，更優(yōu)選為2m2/g以上。另外，氧化鋯顆粒的比表面積優(yōu)選為15m2/g以下，更優(yōu)選為13m2/g以下，進一步優(yōu)選為9m2/g以下。若氧化鋯顆粒的比表面積為I?15m2/g的范圍，則變得容易使基于研磨用組合物的硬脆材料基板的研磨速度提高到在實用上適宜的水平。
[0022]應當理解的是，對本領域普通技術人員來說，可以根據(jù)上述說明加以改進或變換，而所有這些改進和變換都應屬于本發(fā)明所附權利要求的保護范圍。
【主權項】
1.一種研磨材料，包括氧化鋯顆粒和鈰鹽；其特征在于，按重量計，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為7-5:3-5 ;所述氧化鋯顆粒具有I?10m2/g的比表面積，所述氧化鋯顆粒具有0.2 μπι以下的平均一次粒徑；在每ImL含有I %質(zhì)量的氧化鋯顆粒的水分散液中，所述氧化鋯顆粒之中具有4 μ??以上的二次粒徑的顆粒的個數(shù)為20000000個以下。2.根據(jù)權利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述研磨材料還包括鋯鹽。3.根據(jù)權利要求2所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為7-5:2-4:1。4.根據(jù)權利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為7:3。5.根據(jù)權利要求3所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為7:2:1。6.根據(jù)權利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化鋯顆粒和所述鈰鹽的組合比例為6:4。7.根據(jù)權利要求3所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化鋯顆粒、所述鈰鹽和所述鋯鹽的組合比例為6:3:1。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種研磨材料，包括氧化鋯顆粒和鈰鹽；按重量計，氧化鋯顆粒和鈰鹽的組合比例為7-5：3-5；氧化鋯顆粒具有1～10m2/g？的比表面積，氧化鋯顆粒具有0.2μm以下的平均一次粒徑；在每1mL含有1%質(zhì)量的氧化鋯顆粒的水分散液中，氧化鋯顆粒之中具有4μm以上的二次粒徑的顆粒的個數(shù)為20000000個以下。本發(fā)明的研磨材料更加適合用于藍寶石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化鎵、砷化鎵、砷化銦、磷化銦等硬脆材料的研磨中。
【IPC分類】C01F17/00, C01G27/02, B24B37/00, C09K3/14, H01L21/304
【公開號】CN105524592
【申請?zhí)枴緾N201510417886
【發(fā)明人】沈麗華, 王林丹, 沈川江, 呂阿琴
【申請人】湖州華通研磨制造有限公司
【公開日】2016年4月27日
【申請日】2015年7月16日