本申請(qǐng)涉及清潔領(lǐng)域,尤其涉及一種清潔裝置及清潔機(jī)器人。
背景技術(shù):
1、相關(guān)技術(shù)中,清潔裝置工作在支撐面上,其清潔件可繞定軸旋轉(zhuǎn),以對(duì)支撐面進(jìn)行清潔,但其清潔件位置相對(duì)于裝置支架固定,對(duì)于靠近墻面的位置,清潔件難以清潔到位,產(chǎn)生清潔盲區(qū)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此,本申請(qǐng)實(shí)施例期望提供一種清潔裝置及清潔機(jī)器人,使用清潔件相對(duì)于裝置支架可以移動(dòng)的方案,以減少清潔盲區(qū)。
2、本申請(qǐng)實(shí)施例第一方面提供一種清潔裝置,包括:
3、支架,所述支架具有第一止擋結(jié)構(gòu);
4、清潔組件,包括清潔件和機(jī)架,所述清潔件可滾動(dòng)地設(shè)置于所述機(jī)架上;所述機(jī)架掛接于所述支架上,且能相對(duì)所述支架沿第一方向移動(dòng);所述機(jī)架具有第二止擋結(jié)構(gòu),所述第一止擋結(jié)構(gòu)位于所述第二止擋結(jié)構(gòu)的上方,用于與所述第二止擋結(jié)構(gòu)止擋配合;以及
5、驅(qū)動(dòng)組件,用于驅(qū)動(dòng)所述機(jī)架沿第一方向移動(dòng),其中,所述第一方向平行于所述清潔件的軸線(xiàn)。
6、一些實(shí)施例中,所述支架包括板體,所述板體的局部向上凸出并限定出第一凸出部,所述第一凸出部沿所述第一方向延伸,且在所述第一凸出部的底側(cè)形成凹槽,所述第一凸出部的頂部限定出所述第一止擋結(jié)構(gòu),所述機(jī)架的局部向上凸出并限定出第二凸出部,所述第二凸出部的頂部限定出所述第二止擋結(jié)構(gòu),所述第二凸出部伸入所述凹槽。
7、一些實(shí)施例中,所述清潔裝置包括至少一個(gè)中間件,設(shè)置于第一止擋結(jié)構(gòu)和/或所述第二止擋結(jié)構(gòu),且至少部分位于所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu)沿高度方向之間,以間隔所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu);所述中間件用于降低所述機(jī)架和所述支架之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)的阻力。
8、一些實(shí)施例中,所述中間件設(shè)置于所述第一止擋結(jié)構(gòu)。
9、一些實(shí)施例中,所述中間件的數(shù)量為多個(gè),至少部分所述中間件沿所述第一方向間隔布置。
10、一些實(shí)施例中,所述中間件為滾動(dòng)件,以使得所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu)通過(guò)所述滾動(dòng)件滾動(dòng)配合。
11、一些實(shí)施例中,所述滾動(dòng)件包括滾輪或軸承,所述滾動(dòng)件的軸線(xiàn)垂直于所述第一方向。
12、一些實(shí)施例中,所述第一止擋結(jié)構(gòu)具有安裝槽,所述滾動(dòng)件可轉(zhuǎn)動(dòng)地容置于所述安裝槽。
13、一些實(shí)施例中,所述支架包括沿所述第一方向延伸的滑槽,所述機(jī)架包括掛接部,所述掛接部穿設(shè)于所述滑槽中且與所述機(jī)架連接,所述掛接部掛接于所述支架位于所述滑槽的頂側(cè)的周?chē)Y(jié)構(gòu)上。
14、一些實(shí)施例中,所述滑槽的數(shù)量至少為兩條,且沿第二方向間隔布置,所述第一止擋結(jié)構(gòu)位于相鄰兩個(gè)所述滑槽之間,所述第二方向與所述第一方向垂直,且與高度方向垂直。
15、一些實(shí)施例中,所述清潔件包括滾筒,所述滾筒可滾動(dòng)地設(shè)置于所述機(jī)架上;
16、所述清潔組件還包括電機(jī)和傳動(dòng)件,所述電機(jī)和所述傳動(dòng)件均設(shè)置于所述滾筒內(nèi),所述電機(jī)連接所述機(jī)架,所述傳動(dòng)件連接所述滾筒,所述電機(jī)的動(dòng)力輸出軸與所述傳動(dòng)件連接,以驅(qū)動(dòng)所述清潔件滾動(dòng)。
17、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的清潔裝置,清潔件可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在機(jī)架上,機(jī)架沿高度方向的位置相對(duì)于支架穩(wěn)定,清潔組件相對(duì)于支架的位置,可以根據(jù)當(dāng)前清潔裝置所處的場(chǎng)景,在驅(qū)動(dòng)組件的作用下沿第一方向調(diào)整,以減少清潔盲區(qū)。
18、本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種清潔機(jī)器人,包括:
19、主機(jī)身;以及
20、如上述任意實(shí)施例所述的清潔裝置,所述支架與所述主機(jī)身連接。
21、一些實(shí)施例中,所述第一方向垂直于所述清潔機(jī)器人的直線(xiàn)移動(dòng)方向。
22、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的清潔裝置,清潔件相對(duì)于主機(jī)身的位置,可以根據(jù)當(dāng)前清潔裝置所處的場(chǎng)景,在驅(qū)動(dòng)組件的作用下沿第一方向調(diào)整,以減少清潔盲區(qū)。
1.一種清潔裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔裝置,其特征在于,所述支架包括板體,所述板體的局部向上凸出并限定出第一凸出部,所述第一凸出部沿所述第一方向延伸,且在所述第一凸出部的底側(cè)形成凹槽,所述第一凸出部的頂部限定出所述第一止擋結(jié)構(gòu),所述機(jī)架的局部向上凸出并限定出第二凸出部,所述第二凸出部的頂部限定出所述第二止擋結(jié)構(gòu),所述第二凸出部伸入所述凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔裝置,其特征在于,所述清潔裝置包括至少一個(gè)中間件,設(shè)置于第一止擋結(jié)構(gòu)和/或所述第二止擋結(jié)構(gòu),且至少部分位于所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu)沿高度方向之間,以間隔所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu);所述中間件用于降低所述機(jī)架和所述支架之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)的阻力。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔裝置,其特征在于,所述中間件設(shè)置于所述第一止擋結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔裝置,其特征在于,所述中間件的數(shù)量為多個(gè),至少部分所述中間件沿所述第一方向間隔布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔裝置,其特征在于,所述中間件為滾動(dòng)件,以使得所述第一止擋結(jié)構(gòu)和所述第二止擋結(jié)構(gòu)通過(guò)所述中間件滾動(dòng)配合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清潔裝置,其特征在于,所述滾動(dòng)件包括滾輪或軸承,所述滾動(dòng)件的軸線(xiàn)垂直于所述第一方向。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清潔裝置,其特征在于,所述第一止擋結(jié)構(gòu)具有安裝槽,所述滾動(dòng)件可轉(zhuǎn)動(dòng)地容置于所述安裝槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔裝置,其特征在于,所述支架包括沿所述第一方向延伸的滑槽,所述機(jī)架包括掛接部,所述掛接部穿設(shè)于所述滑槽中且與所述機(jī)架連接,所述掛接部掛接于所述支架位于所述滑槽的頂側(cè)的周?chē)Y(jié)構(gòu)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清潔裝置,其特征在于,所述滑槽的數(shù)量至少為兩條,且沿第二方向間隔布置,所述第一止擋結(jié)構(gòu)位于相鄰兩個(gè)所述滑槽之間,所述第二方向與所述第一方向垂直,且與高度方向垂直。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的清潔裝置,其特征在于,所述清潔件包括滾筒,所述滾筒可滾動(dòng)地設(shè)置于所述機(jī)架上;
12.一種清潔機(jī)器人,其特征在于,包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的清潔機(jī)器人,其特征在于,所述第一方向垂直于所述清潔機(jī)器人的直線(xiàn)移動(dòng)方向。