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      一種適用于擦拭的毛巾布的制作方法

      文檔序號(hào):40205920發(fā)布日期:2024-12-06 16:23閱讀:10來源:國(guó)知局
      一種適用于擦拭的毛巾布的制作方法

      本技術(shù)涉及一種毛巾,尤其是適用于擦拭的毛巾布。


      背景技術(shù):

      1、傳統(tǒng)的擦拭物有海綿材料,具有柔軟特性以及強(qiáng)大的吸水特性,對(duì)于但是污漬攜帶能力不強(qiáng)。傳統(tǒng)毛巾布通過毛圈對(duì)物體表面擦拭,能夠攜帶少量的污漬,亟待一種能夠攜帶大量污漬的適于擦拭的毛巾布。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種適用于擦拭的毛巾布,包括基布以及位于基布上的毛圈,毛圈高毛圈區(qū)域以及矮毛圈區(qū)域,高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域逐行交替設(shè)置,高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域逐列交替設(shè)置;毛圈為加捻后的小辮子毛圈。高毛圈區(qū)域以及矮毛圈區(qū)域可以采用多次編織制成。

      2、作為適用于擦拭的毛巾布的優(yōu)選方案之一,高毛圈區(qū)域?yàn)?.5cm邊長(zhǎng)至3.5cm大小的方塊,同時(shí)由于高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域交替設(shè)置,因此矮毛圈區(qū)域大小與高毛圈區(qū)域相同。

      3、作為適用于擦拭的毛巾布的優(yōu)選方案之一,除經(jīng)編意外毛巾布也可采用緯編工藝編織,采用兩種不同收縮性能的毛圈線編織而成,高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域采用相同弧長(zhǎng)的毛圈,高毛圈區(qū)域矮毛圈區(qū)域?yàn)椴煌湛s特性的材料。

      4、作為適用于擦拭的毛巾布的優(yōu)選方案:毛巾布為單面毛圈或者雙面毛圈。

      5、本實(shí)用新型有益效果在于:采用高低交錯(cuò)的毛圈,使得擦拭面形成凸面與與凹面,擦拭過程中毛圈攜帶部分污漬,高毛圈邊緣還能攜帶部分污漬,裹挾性能;加工方便,采用緯編方案能夠?qū)崿F(xiàn)兩種毛圈線同步編織,再進(jìn)行染色加工后毛圈呈現(xiàn)不同的收縮特性形成高矮毛圈區(qū)域。



      技術(shù)特征:

      1.一種適用于擦拭的毛巾布,包括基布(1)以及位于基布(1)上的毛圈(2),其特征在于:所述的毛圈(2)包括高毛圈區(qū)域(3)以及矮毛圈區(qū)域(4),高毛圈區(qū)域(3)與矮毛圈區(qū)域(4)逐行交替設(shè)置,所述高毛圈區(qū)域(3)與矮毛圈區(qū)域(4)逐列交替設(shè)置。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于擦拭的毛巾布,其特征在于:所述毛圈(2)為加捻后的小辮子毛圈(2)。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于擦拭的毛巾布,其特征在于:所述高毛圈區(qū)域(3)為1.5cm邊長(zhǎng)至3.5cm大小的方塊。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于擦拭的毛巾布,其特征在于:所述高毛圈區(qū)域(3)與矮毛圈區(qū)域(4)采用相同弧長(zhǎng)的毛圈,所述高毛圈區(qū)域(3)矮毛圈區(qū)域(4)為不同收縮特性的材料。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于擦拭的毛巾布,其特征在于:所述毛巾布為單面毛圈。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于擦拭的毛巾布,其特征在于:所述毛巾布為雙面毛圈。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及毛巾領(lǐng)域,具體為一種適用于擦拭的毛巾布,包括基布以及位于基布上的毛圈,毛圈高毛圈區(qū)域以及矮毛圈區(qū)域,高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域逐行交替設(shè)置,高毛圈區(qū)域與矮毛圈區(qū)域逐列交替設(shè)置;毛圈為加捻后的小辮子毛圈。高毛圈區(qū)域以及矮毛圈區(qū)域可以采用多次編織制成。本技術(shù)采用高低交錯(cuò)的毛圈,使得擦拭面形成凸面與與凹面,擦拭過程中毛圈攜帶部分污漬,高毛圈邊緣還能攜帶部分污漬,裹挾性能;加工方便,采用緯編方案能夠?qū)崿F(xiàn)兩種毛圈線同步編織,再進(jìn)行染色加工后毛圈呈現(xiàn)不同的收縮特性形成高矮毛圈區(qū)域。

      技術(shù)研發(fā)人員:羅嘉楠,陸正華,虞雅增
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:寧波綠色紡織品有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20240407
      技術(shù)公布日:2024/12/5
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