半導(dǎo)體設(shè)備的門的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種用于半導(dǎo)體設(shè)備上的門。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體工藝中，對(duì)生產(chǎn)的環(huán)境要求極高。為了獲得這種極高要求的生產(chǎn)環(huán)境，通常半導(dǎo)體設(shè)備會(huì)被放置在凈化室中。凈化室的生產(chǎn)成本和維護(hù)成本都非常高，并且凈化室的生產(chǎn)成本和維護(hù)成本直接與凈化室的面積成正比，因此在日常的應(yīng)用中，凈化室的面積會(huì)被盡可能地縮小以降低其使用成本。
[0003]當(dāng)半導(dǎo)體設(shè)備被置于凈化室中，半導(dǎo)體設(shè)備會(huì)占據(jù)凈化室中的絕大多數(shù)占地面積。出于成本的考慮，凈化室的面積會(huì)盡量與半導(dǎo)體設(shè)備的大小相匹配，這樣造成的結(jié)果就是在放置了半導(dǎo)體設(shè)備之后，凈化室中留下的空間很小，使得操作人員在其中走動(dòng)和操作都很不方便。
[0004]如果縮小半導(dǎo)體設(shè)備的體積，又會(huì)使得半導(dǎo)體設(shè)備的內(nèi)部容納空間減小，影響各種半導(dǎo)體部件的安裝。因此如何在半導(dǎo)體設(shè)備的占地面積和凈化室的面積之間取得平衡，是半導(dǎo)體設(shè)備的設(shè)計(jì)者面臨的難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明旨在提出一種半導(dǎo)體設(shè)備的門，適用于凈化室內(nèi)的半導(dǎo)體設(shè)備，能提高凈化室內(nèi)空間的使用效率。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，提出一種半導(dǎo)體設(shè)備的門，半導(dǎo)體設(shè)備置于凈化室內(nèi)，門安裝在半導(dǎo)體設(shè)備的一個(gè)側(cè)面上，門的底部高于地面，門包括:門板和擴(kuò)展腔，擴(kuò)展腔由門板向外突出。
[0007]在一個(gè)實(shí)施例中，擴(kuò)展腔呈半圓柱形。
[0008]在一個(gè)實(shí)施例中，擴(kuò)展腔是經(jīng)變形的半圓柱形，半圓柱形的底部向上形成斜面。
[0009]在一個(gè)實(shí)施例中，門安裝在半導(dǎo)體設(shè)備的側(cè)面的上端。
[0010]在一個(gè)實(shí)施例中，門的底部距離地面1.6?1.9米。
[0011]在一個(gè)實(shí)施例中，門還包括把手和鎖，把手和鎖安裝在門板上。
[0012]本發(fā)明的半導(dǎo)體設(shè)備的門充分利用了凈化室內(nèi)的立體空間，利用擴(kuò)展腔來(lái)擴(kuò)大半導(dǎo)體設(shè)備的內(nèi)部空間，但又不增加半導(dǎo)體設(shè)備的占地面積。同時(shí)，通過(guò)對(duì)擴(kuò)展腔形狀的設(shè)計(jì)，使得操作人員在凈化室內(nèi)的走動(dòng)和操作都更加方便和安全。
【附圖說(shuō)明】
[0013]本發(fā)明上述的以及其他的特征、性質(zhì)和優(yōu)勢(shì)將通過(guò)下面結(jié)合附圖和實(shí)施例的描述而變的更加明顯，在附圖中相同的附圖標(biāo)記始終表示相同的特征，其中:
[0014]圖la、lb和Ic揭示了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的門的結(jié)構(gòu)圖。
[0015]圖2a、2b和2c揭示了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的門的安裝位置示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]首先參考圖la、lb和Ic所示，揭示了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的門的結(jié)構(gòu)圖，其中圖1a是正面視圖、圖1b是側(cè)面視圖而圖1c是立體視圖。
[0017]如圖所示，該門100包括:門板102和擴(kuò)展腔104，擴(kuò)展腔104由門板102向外突出。在一個(gè)實(shí)施例中，擴(kuò)展腔104呈半圓柱形。在圖示的實(shí)施例中，擴(kuò)展腔104是經(jīng)變形的半圓柱形，半圓柱形的底部向上形成斜面。在圖示的實(shí)施例中，門100還包括把手106和鎖108，把手106和鎖108安裝在門板102上。
[0018]參考圖2a、2b和2c所示，揭示了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的門的安裝TK意圖。其中圖2a是正面視圖、圖2b是側(cè)面視圖而圖2c是立體視圖。如圖所TJK，門100安裝在半導(dǎo)體設(shè)備200的一個(gè)側(cè)面上，半導(dǎo)體設(shè)備200是放置在凈化室內(nèi)的半導(dǎo)體設(shè)備。門100的底部高于地面，在圖示的實(shí)施例中，門100安裝在半導(dǎo)體設(shè)備200的側(cè)面的上端，門100的底部距離地面1.6?1.9米。如此設(shè)計(jì)，門100的擴(kuò)展腔104利用了凈化室中上部的空間，而半導(dǎo)體設(shè)備200的占地面積沒(méi)有變化。將門的底部設(shè)計(jì)為距離地面1.6?1.9米是為了凈化室中的操作人員留出走動(dòng)和操作的空間，因多數(shù)人的身高在1.6?1.9米的范圍內(nèi)，因此將門100設(shè)計(jì)在這個(gè)位置，既給操作人員留出空間，又充分利用了這部分立體空間。將擴(kuò)展腔104的底部設(shè)計(jì)為向上形成斜面也是為了操作人員的安全考慮，由于擴(kuò)展腔的位置基本是按照人的身高設(shè)計(jì)在1.6?1.9米的范圍內(nèi)，為了盡量降低可能對(duì)操作人員造成的傷害，擴(kuò)展腔104的底部被削除以形成向上斜面，降低碰撞的可能性。
[0019]本發(fā)明的半導(dǎo)體設(shè)備的門充分利用了凈化室內(nèi)的立體空間，利用擴(kuò)展腔來(lái)擴(kuò)大半導(dǎo)體設(shè)備的內(nèi)部空間，但又不增加半導(dǎo)體設(shè)備的占地面積。同時(shí)，通過(guò)對(duì)擴(kuò)展腔形狀的設(shè)計(jì)，使得操作人員在凈化室內(nèi)的走動(dòng)和操作都更加方便和安全。
[0020]上述實(shí)施例是提供給熟悉本領(lǐng)域內(nèi)的人員來(lái)實(shí)現(xiàn)或使用本發(fā)明的，熟悉本領(lǐng)域的人員可對(duì)上述實(shí)施例做出種種修改或變化而不脫離本發(fā)明的發(fā)明思想，因而本發(fā)明的保護(hù)范圍并不被上述實(shí)施例所限，而應(yīng)該是符合權(quán)利要求書提到的創(chuàng)新性特征的最大范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述半導(dǎo)體設(shè)備置于凈化室內(nèi)，所述門安裝在半導(dǎo)體設(shè)備的一個(gè)側(cè)面上，所述門的底部高于地面，所述門包括:門板和擴(kuò)展腔，所述擴(kuò)展腔由門板向外突出。2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述擴(kuò)展腔呈半圓柱形。3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述擴(kuò)展腔是經(jīng)變形的半圓柱形，半圓柱形的底部向上形成斜面。4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述門安裝在半導(dǎo)體設(shè)備的側(cè)面的上端。5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述門的底部距離地面1.6?1.9 米。6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體設(shè)備的門，其特征在于，所述門還包括把手和鎖，把手和鎖安裝在門板上。
【專利摘要】本發(fā)明揭示了一種半導(dǎo)體設(shè)備的門，半導(dǎo)體設(shè)備置于凈化室內(nèi)，門安裝在半導(dǎo)體設(shè)備的一個(gè)側(cè)面上，門的底部高于地面，門包括：門板和擴(kuò)展腔，擴(kuò)展腔由門板向外突出。本發(fā)明的半導(dǎo)體設(shè)備的門充分利用了凈化室內(nèi)的立體空間，利用擴(kuò)展腔來(lái)擴(kuò)大半導(dǎo)體設(shè)備的內(nèi)部空間，但又不增加半導(dǎo)體設(shè)備的占地面積。同時(shí)，通過(guò)對(duì)擴(kuò)展腔形狀的設(shè)計(jì)，使得操作人員在凈化室內(nèi)的走動(dòng)和操作都更加方便和安全。
【IPC分類】E06B5/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105134032
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410235834
【發(fā)明人】雷強(qiáng), 代迎偉, 張懷東, 王堅(jiān), 王暉
【申請(qǐng)人】盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
【公開(kāi)日】2015年12月9日
【申請(qǐng)日】2014年5月30日