烹飪器具的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種烹飪器具，包括本體，本體的底壁內(nèi)具有凹腔，凹腔內(nèi)填充有小于凹腔的容積的流體狀導(dǎo)熱介質(zhì)，凹腔的下表面具有加熱區(qū)域，導(dǎo)熱介質(zhì)覆蓋加熱區(qū)域，當(dāng)本體傾斜0至15度時，導(dǎo)熱介質(zhì)仍能覆蓋加熱區(qū)域。本申請解決了現(xiàn)有技術(shù)中當(dāng)烹飪器具的本體傾斜時烹飪器具導(dǎo)熱不均的問題。
【專利說明】
烹飪器具
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及廚具設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種烹飪器具。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，烹飪器具的本體的底壁的下表面是平面，導(dǎo)熱介質(zhì)在重力作用下作用下均布在底壁的下表面與底壁的上表面圍成的腔體內(nèi)。
[0003]當(dāng)本體傾斜時，導(dǎo)熱介質(zhì)必然會在重力作用下向低位流動，位置較高區(qū)域無導(dǎo)熱介質(zhì)，較高區(qū)域的導(dǎo)熱只能依靠熱傳導(dǎo)實現(xiàn)，導(dǎo)致底壁受熱不均勻，底壁的不同部分的導(dǎo)熱不均勻，影響食物的口感。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型的主要目的在于提供一種烹飪器具，以解決現(xiàn)有技術(shù)中當(dāng)烹飪器具的本體傾斜時烹飪器具導(dǎo)熱不均的問題。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種烹飪器具，包括本體，本體的底壁內(nèi)具有凹腔，凹腔內(nèi)填充有小于凹腔的容積的流體狀導(dǎo)熱介質(zhì)，凹腔的下表面具有加熱區(qū)域，導(dǎo)熱介質(zhì)覆蓋加熱區(qū)域，當(dāng)本體傾斜O(jiān)至15度時，導(dǎo)熱介質(zhì)仍能覆蓋加熱區(qū)域。
[0006]進(jìn)一步地，烹飪器具還包括加熱管，加熱管設(shè)置在下表面的外側(cè)，且加熱管對加熱區(qū)域進(jìn)行加熱。
[0007]進(jìn)一步地，加熱區(qū)域的正投影面積大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。
[0008]進(jìn)一步地，凹腔是真空腔。
[0009]進(jìn)一步地，導(dǎo)熱介質(zhì)的體積占凹腔的容積為8%至25%。
[0010]進(jìn)一步地，導(dǎo)熱介質(zhì)為三氧硅化物。
[0011 ]進(jìn)一步地，烹飪器具是烤盤或平底鍋。
[0012]進(jìn)一步地，本體的烹飪腔的深度扭大于等于I毫米且小于等于150毫米。
[0013]進(jìn)一步地，本體的底壁具有圍成凹腔的待加熱面和傳熱面，待加熱面為下表面，待加熱面包括:環(huán)形面段，環(huán)形面段與傳熱面在豎直方向上的第一距離出大于等于I毫米且小于等于100毫米；由環(huán)形面段的內(nèi)側(cè)邊緣向遠(yuǎn)離本體的烹飪腔的方向伸出的突出面段，突出面段相對于環(huán)形面段突出的第二距離H3大于等于I毫米且小于等于200毫米。
[0014]進(jìn)一步地，環(huán)形面段與傳熱面平行。
[0015]進(jìn)一步地，突出面段呈碗狀或盤狀。
[0016]進(jìn)一步地，本體的底壁具有圍成凹腔的待加熱面和傳熱面，待加熱面為下表面，下表面向遠(yuǎn)離本體的烹飪腔的方向突出，待加熱面與傳熱面之間在豎直方向上的第三距離H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。
[0017]進(jìn)一步地，下表面具有圓弧面段。
[0018]進(jìn)一步地，下表面包括:位于加熱區(qū)域處的平面段；由平面段的周緣傾斜向上延伸的環(huán)形面段。
[0019]應(yīng)用本實用新型的技術(shù)方案，本體的底壁內(nèi)具有用于容納導(dǎo)熱介質(zhì)的凹腔，導(dǎo)熱介質(zhì)覆蓋加熱區(qū)域，當(dāng)本體傾斜O(jiān)至15度時，導(dǎo)熱介質(zhì)仍能覆蓋加熱區(qū)域。這樣，即使本體傾斜，導(dǎo)熱介質(zhì)也仍會覆蓋加熱區(qū)域，避免加熱區(qū)域處因沒有導(dǎo)熱介質(zhì)而導(dǎo)致受熱不均，提高了烹飪器具的導(dǎo)熱和傳熱可靠性，從而有利于提高食物烹煮的鮮味。
【附圖說明】
[0020]構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本實用新型的進(jìn)一步理解，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0021]圖1示出了根據(jù)本實用新型的第一個可選實施例的烹飪器具的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2示出了根據(jù)本實用新型的第二個可選實施例的烹飪器具的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖3示出了根據(jù)本實用新型的第三個可選實施例的烹飪器具的結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0024]圖4示出了根據(jù)本實用新型的第四個可選實施例的烹飪器具的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]其中，上述附圖包括以下附圖標(biāo)記:
[0026]10、底壁；11、凹腔；12、下表面；121、加熱區(qū)域；122、平面段；123、環(huán)形面段；124、突出面段;13、傳熱面;20、導(dǎo)熱介質(zhì)；30、烹飪腔;40、加熱管。
【具體實施方式】
[0027]需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細(xì)說明本實用新型。
[0028]應(yīng)該指出，以下詳細(xì)說明都是例示性的，旨在對本申請?zhí)峁┻M(jìn)一步的說明。除非另有指明，本文使用的所有技術(shù)和科學(xué)術(shù)語具有與本申請所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的相同含義。
[0029]在本實用新型中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下、頂、底”通常是針對附圖所示的方向而言的，或者是針對部件本身在豎直、垂直或重力方向上而言的；同樣地，為便于理解和描述，“內(nèi)、外”是指相對于各部件本身的輪廓的內(nèi)、外，但上述方位詞并不用于限制本實用新型。
[0030]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中當(dāng)烹飪器具的本體傾斜時烹飪器具導(dǎo)熱不均的問題，本實用新型提供了一種烹飪器具。
[0031]如圖1至圖4所示，烹飪器具包括本體，本體的底壁10內(nèi)具有凹腔11，凹腔11內(nèi)填充有小于凹腔11的容積的流體狀導(dǎo)熱介質(zhì)20，凹腔11的下表面12具有加熱區(qū)域121，導(dǎo)熱介質(zhì)20覆蓋加熱區(qū)域121，當(dāng)本體傾斜O(jiān)至15度時，導(dǎo)熱介質(zhì)20仍能覆蓋加熱區(qū)域121。
[0032]由上述的方案可知，本體的底壁10內(nèi)具有用于容納導(dǎo)熱介質(zhì)20的凹腔11，導(dǎo)熱介質(zhì)20覆蓋加熱區(qū)域121，當(dāng)本體傾斜O(jiān)至15度時，導(dǎo)熱介質(zhì)仍能覆蓋加熱區(qū)域121。這樣，即使本體傾斜，導(dǎo)熱介質(zhì)20也仍會覆蓋加熱區(qū)域121，避免加熱區(qū)域121處因沒有導(dǎo)熱介質(zhì)20而導(dǎo)致受熱不均，提高了烹飪器具的導(dǎo)熱和傳熱可靠性，從而有利于提高食物烹煮的鮮味。
[0033]在圖1至圖4所示的【具體實施方式】中，本體為鍋體。
[0034]可選地，導(dǎo)熱介質(zhì)20的體積占凹腔11的容積為8%至25%。且最大不超過30%。這樣，在保證導(dǎo)熱介質(zhì)20充分覆蓋加熱區(qū)域121的前提下，還節(jié)約了導(dǎo)熱介質(zhì)20的使用成本，有利于烹飪器具的輕量化設(shè)置，提高用戶滿意度，降低操作難度。
[0035]可選地，導(dǎo)熱介質(zhì)20為三氧硅化物。
[0036]進(jìn)一步可選地，三氧硅化物由氧化物、超氧化物以及硅化物構(gòu)成。
[0037]其中，當(dāng)導(dǎo)熱介質(zhì)20為三氧硅化物時，由于三氧硅化物本身具有受熱可膨脹的特點，因而當(dāng)導(dǎo)熱介質(zhì)20受熱后，會逐漸膨脹，以致充滿整個凹腔11內(nèi)。這樣，有利于提高烹飪器具的導(dǎo)熱均勻性，保證底壁10上各處的傳熱一致性。
[0038]為了保證導(dǎo)熱介質(zhì)20受熱膨脹后能夠占用凹腔11的整個空間，可選地，凹腔11是真空腔。
[0039]上述結(jié)構(gòu)的烹飪器具是烤盤或平底鍋。
[0040]如圖1至圖4所示的實施例中，烹飪器具是烤盤。烹飪器具還包括加熱管40，加熱管40設(shè)置在下表面12的外側(cè)，且加熱管40對加熱區(qū)域121進(jìn)行加熱。這樣，即使本體傾斜后，只要傾斜角度不超過15度，導(dǎo)熱介質(zhì)20仍會完全覆蓋加熱區(qū)域121，而加熱管40，也會不斷對覆蓋在加熱區(qū)域121上的導(dǎo)熱介質(zhì)20進(jìn)行加熱，從而有利于提高烹飪器具的加熱、導(dǎo)熱、傳熱可靠性，進(jìn)而優(yōu)化了烹飪器具的烹飪效果。
[0041]可選地，加熱區(qū)域121的正投影面積大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。當(dāng)加熱區(qū)域121是圓面積區(qū)域時，此時，加熱區(qū)域121的直徑D范圍為1.26至300毫米。
[0042]為了保證烹飪器具的烹飪效果，本體的烹飪腔30的深度出大于等于I毫米且小于等于150毫米。具有上述深度的烹飪腔30能夠滿足烹飪菜肴的需求，有利于提高烹飪器具的烹飪效率。
[0043]需要說明的是，待加熱面，也就是下表面12的形狀是沒有限制的，可以是平面、弧形面或斜面等。下面將給出不同的實施例以說明。
[0044]圖3和圖4示出的【具體實施方式】的技術(shù)構(gòu)思相似。
[0045]如圖3和圖4所示，本體的底壁10具有圍成凹腔11的待加熱面和傳熱面13，待加熱面為下表面12，下表面12向遠(yuǎn)離本體的烹飪腔30的方向突出，待加熱面與傳熱面13之間在豎直方向上的第三距離H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。
[0046]具體而言，在圖3所示的【具體實施方式】中，下表面12具有圓弧面段。這樣的烹飪器具便于加工制造。
[0047]具體而言，在圖4所示的【具體實施方式】中，下表面12包括位于加熱區(qū)域121處的平面段122和由平面段122的周緣傾斜向上延伸的環(huán)形面段123。且所述平面段122與傳熱面13平行。這樣的烹飪器具具有放置穩(wěn)定性好，易于加工的特點。
[0048]圖1和圖2示出的【具體實施方式】的技術(shù)構(gòu)思相似。本體的底壁10具有圍成凹腔11的待加熱面和傳熱面13，待加熱面為下表面12，待加熱面包括環(huán)形面段123和由環(huán)形面段123的內(nèi)側(cè)邊緣向遠(yuǎn)離本體的烹飪腔30的方向伸出的突出面段124，突出面段124相對于環(huán)形面段123突出的第二距離H3大于等于I毫米且小于等于200毫米，環(huán)形面段123與傳熱面13在豎直方向上的第一距離出大于等于I毫米且小于等于100毫米。由圖中可以看出，突出面段124的最底部作為加熱區(qū)域121。且突出面段124作為凹腔11的最低部，以用于留存制冷劑。
[0049]如圖1和圖2所示，環(huán)形面段123與傳熱面13平行。這樣，易于保持烹飪器具的放置穩(wěn)定性，且使烹飪器具外形美觀。
[0050]這里的最低部形狀沒有限制，可以是方形凹臺、圓形凹臺、半球面凹臺或者不規(guī)則形狀凹臺。
[0051 ] 如圖1和圖2所示，突出面段124呈碗狀或盤狀。
[0052]具體而言，在圖1所示的【具體實施方式】中，突出面段124形成的最低部呈圓形凸臺狀。
[0053]具體而言，在圖2所示的【具體實施方式】中，突出面段124形成的最低部呈半球面凹臺狀。
[0054]在上述結(jié)構(gòu)的烹飪器具中，烹飪器具在傾斜O(jiān)至15度的狀況下，導(dǎo)熱介質(zhì)20不會從最低部中溢出。加熱管40只對待加熱面，也就是下表面12的最底部的加熱區(qū)域121加熱時，導(dǎo)熱介質(zhì)20開始吸熱膨脹，并向凹腔11的其它空間擴(kuò)散，進(jìn)而充滿整個凹腔11的密閉空間，從而實現(xiàn)均勻?qū)帷?br>[0055]本實用新型通過對凹腔11抽真空處理，使導(dǎo)熱介質(zhì)20在重力作用下集中放置在下表面的最低位置處，也就是加熱區(qū)域121內(nèi)。使得導(dǎo)熱介質(zhì)20在本體呈O至15°角度傾斜時也仍能覆蓋加熱區(qū)域121。
[0056]需要注意的是，這里所使用的術(shù)語僅是為了描述【具體實施方式】，而非意圖限制根據(jù)本申請的示例性實施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式，此外，還應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時，其指明存在特征、步驟、工作、器件、組件和/或它們的組合。
[0057]需要說明的是，本申請的說明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語“第一”、“第二”等是用于區(qū)別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解這樣使用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可以互換，以便這里描述的本申請的實施方式能夠以除了在這里圖示或描述的那些以外的順序?qū)嵤?br>[0058]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種烹飪器具，其特征在于，包括本體，所述本體的底壁(10)內(nèi)具有凹腔(11)，所述凹腔(11)內(nèi)填充有小于所述凹腔(11)的容積的流體狀導(dǎo)熱介質(zhì)(20)，所述凹腔(11)的下表面(12)具有加熱區(qū)域(121)，所述導(dǎo)熱介質(zhì)(20)覆蓋所述加熱區(qū)域(121)，當(dāng)所述本體傾斜O(jiān)至15度時，所述導(dǎo)熱介質(zhì)(20)仍能覆蓋所述加熱區(qū)域(121)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具，其特征在于，所述烹飪器具還包括加熱管(40)，所述加熱管(40)設(shè)置在所述下表面(12)的外側(cè)，且所述加熱管(40)對所述加熱區(qū)域(121)進(jìn)行加熱。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述加熱區(qū)域(121)的正投影面積大于等于5平方毫米且小于等于70686平方毫米。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述凹腔(11)是真空腔。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述導(dǎo)熱介質(zhì)(20)的體積占所述凹腔(11)的容積為8%至25%。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述導(dǎo)熱介質(zhì)(20)為三氧硅化物。7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述烹飪器具是烤盤或平底鍋。8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述本體的烹飪腔(30)的深度出大于等于I毫米且小于等于150毫米。9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述本體的底壁(10)具有圍成所述凹腔(11)的待加熱面和傳熱面(13)，所述待加熱面為所述下表面(12)，所述待加熱面包括: 環(huán)形面段(123)，所述環(huán)形面段(123)與所述傳熱面(13)在豎直方向上的第一距離H2大于等于I毫米且小于等于100毫米； 由所述環(huán)形面段(123)的內(nèi)側(cè)邊緣向遠(yuǎn)離所述本體的烹飪腔(30)的方向伸出的突出面段(124)，所述突出面段(124)相對于所述環(huán)形面段(123)突出的第二距離H3大于等于I毫米且小于等于200毫米。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪器具，其特征在于，所述環(huán)形面段(123)與所述傳熱面(13)平行。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烹飪器具，其特征在于，所述突出面段(124)呈碗狀或盤狀。12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪器具，其特征在于，所述本體的底壁(10)具有圍成所述凹腔(11)的待加熱面和傳熱面(13)，所述待加熱面為所述下表面(12)，所述下表面(12)向遠(yuǎn)離所述本體的烹飪腔(30)的方向突出，所述待加熱面與所述傳熱面(13)之間在豎直方向上的第三距離H4大于等于I毫米且小于等于100毫米。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的烹飪器具，其特征在于，所述下表面(12)具有圓弧面段。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的烹飪器具，其特征在于，所述下表面(12)包括: 位于所述加熱區(qū)域(121)處的平面段(122); 由所述平面段(122)的周緣傾斜向上延伸的環(huán)形面段(123)。
【文檔編號】A47J27/00GK205433287SQ201521127473
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2015年12月29日
【發(fā)明人】呂華, 馬超
【申請人】浙江蘇泊爾家電制造有限公司