專(zhuān)利名稱(chēng)：一種引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于水電站的排砂系統(tǒng)，特別是引水渠入口處的排砂構(gòu)造。
背景技術(shù)：
通常的高水頭水電站引水渠入口處都有砂礫沉積區(qū)，當(dāng)上游水流所夾帶的砂礫沉積到一定量后，開(kāi)啟引水渠旁的沖砂閘，流過(guò)沖砂閘的水流將附近沉積處的砂礫順勢(shì)沖入下游。但這種沖沙方法效果差，在離沖砂閘稍遠(yuǎn)的沉積處的砂礫，因水流沖力不足，不易被沖走，引水渠附近沉留的砂礫仍然較多。這些砂礫易進(jìn)入引水渠而到達(dá)水輪機(jī)，影響水輪機(jī)壽命。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服引水渠入口處沉積的砂礫不易排除干凈，影響水輪機(jī)使用壽命的缺點(diǎn)，本發(fā)明在引水閘和沖砂閘的上游一側(cè)砂礫沉積區(qū)域，設(shè)置了沉砂槽。其技術(shù)方案是一種引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，由主河道攔水壩、分水堤、引水堤、右側(cè)河堤、引水道、引水閘、沖砂道、沖砂閘、主河道攔砂堰、沉砂槽、沖砂蓋板、引砂蓋板組成。主河道攔水壩的右側(cè)與分水堤連接，其左側(cè)與左側(cè)河堤連接，分水堤的上游端與右側(cè)河堤之間連接有主河道攔砂堰，分水堤的中段與右側(cè)河堤之間平行構(gòu)筑有引水堤，引水堤的上游端與分水堤之間有沖砂閘，沖砂閘的下游側(cè)是沖砂道。引水堤的上游端與右側(cè)河堤之間有引水閘，引水閘的下游側(cè)是引水道。引水閘和沖砂閘的上游一側(cè)有L形沉砂槽，沉砂槽的一端起始右側(cè)河堤，并與引水閘的方向平行設(shè)置，其槽底從右側(cè)河堤的起始端起逐漸向左端傾斜加深，與引水閘平行設(shè)置的沉砂槽段上面間隔固定有引砂蓋板；沉砂槽的左端，結(jié)束于分水堤與沖砂閘處，形成L形沉砂槽，其槽底向沖砂閘傾斜加深，通向沖砂閘的沉砂槽段上面固定有沖砂蓋板。
由于在引水閘上游的砂礫沉積區(qū)設(shè)置了沉砂槽及傾斜有間隔的引砂蓋板，當(dāng)水流經(jīng)過(guò)引水閘時(shí)，其中的砂礫被沉積在沉砂槽內(nèi)。當(dāng)開(kāi)啟引水渠旁的沖砂閘時(shí)，流過(guò)沉砂槽的水流通過(guò)沖砂閘將沉砂排入下游河道，達(dá)到了自動(dòng)排砂的目的，保證了進(jìn)入水輪機(jī)的水流中含砂量極少，提高了水輪機(jī)的壽命。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
圖1為本發(fā)明的系統(tǒng)示意圖(圖中對(duì)左側(cè)河道作了省略，未畫(huà)出。)圖2為圖1的A-A剖面示意圖。
圖3為圖1的B-B剖面示意圖。
圖4為圖1的C-C剖面示意圖。
圖5為圖1的D-D剖面示意圖。
圖6為圖1的E-E剖面示意圖。
附圖中1、主河道攔水壩，2、分水堤，3、引水堤，4、右側(cè)河堤，5、引水道，6、引水閘，7、沖砂閘，8、沉砂槽，9、沖砂蓋板，10、引砂蓋板，11、主河道攔砂堰，12、沖砂閘下游水位，13、引水閘下游水位，14、沉砂槽中的沉砂，15、主河道沉砂，16、沖砂道。
具體實(shí)施例方式
如圖1所示，本系統(tǒng)由主河道攔水壩1、分水堤2、引水堤3、右側(cè)河堤4、引水道5、引水閘6、沖砂道16、沖砂閘7、主河道攔砂堰11、沉砂槽8、沖砂蓋板9、引砂蓋板10組成。主河道攔水壩1的右側(cè)與分水堤2連接、主河道攔水壩1的左側(cè)與左側(cè)河堤連接，圖中對(duì)左側(cè)河道作了省略，未畫(huà)出。分水堤2的上游端與右側(cè)河堤4之間連接有傾斜的很長(zhǎng)的主河道攔砂堰11，分水堤2的中段與右側(cè)河堤4之間平行構(gòu)筑有引水堤3，引水堤3的上游端與分水堤2之間有沖砂閘7，沖砂閘7的下游側(cè)是沖砂道16。引水堤3的上游端與右側(cè)河堤4之間有引水閘6，引水閘6的下游側(cè)是引水道5。引水閘6及沖砂閘7的上游一側(cè)有L形沉砂槽8，沉砂槽8的一端起始右側(cè)河堤4，并與引水閘6的方向平行設(shè)置，其槽底從右側(cè)河堤4的起始端起逐漸向左端傾斜加深，與引水閘6平行設(shè)置的沉砂槽段上面間隔固定有引砂蓋板10。沉砂槽8的左端，結(jié)束于分水堤2與沖砂閘7處，形成L形沉砂槽8，其槽底向沖砂閘7傾斜加深，通向沖砂閘7的沉砂槽段上面固定有沖砂蓋板9。引砂蓋板10之間的間隔縫隙方向傾斜于引水閘6，并朝向沖砂閘7。沉砂槽8與引水閘6平行，沉砂槽8底部最低處在沖砂閘7門(mén)口，使砂礫易從沖砂閘7排出。主河道攔砂堰11的高度低于主河道攔水壩1的上游水面，可攔截砂石而不阻礙水流。
本發(fā)明是以引水道5在主河道攔水壩1的右側(cè)為例，由于具體的地理因素，當(dāng)引水道5需要建筑在主河道攔水壩1的左側(cè)時(shí)，這里的引水道5在主河道攔水壩1的右側(cè)布局也可改為對(duì)稱(chēng)的左側(cè)布局。主河道攔水壩1的功能是抬升水位、儲(chǔ)水和泄洪，能保持上游水面高度基本不變。
本發(fā)明沉砂排砂的工作原理如下上游來(lái)的水流和砂子被主河道攔水壩1阻攔，使水位升高，漲水時(shí)，洪水溢過(guò)攔水壩1上的泄洪口泄洪，使主河道攔水壩1上游的水位保持在一定的高度。主河道攔砂堰11使大量的砂礫15被攔截，沉積在主河道攔砂堰11前，因此進(jìn)入到引水道5入口處的砂礫已大幅削減。在引水閘6和沖砂閘7的前方開(kāi)設(shè)的沉砂槽8，起收集砂礫的作用。當(dāng)砂礫隨水流移動(dòng)到沉砂槽8處時(shí)，經(jīng)沉砂槽8上的引砂蓋板10的阻擋，砂礫從引砂蓋板10的縫隙進(jìn)入沉砂槽8中，這樣，就使得即將進(jìn)入引水閘6和引水道5的砂礫被除去。當(dāng)沉砂槽8中的砂礫集聚到一定量時(shí)，開(kāi)啟沖砂閘7，此時(shí)沖砂閘7的開(kāi)啟高度被限止到閘門(mén)下沿與沉砂槽8上的沖砂蓋板9上平面高度一致，即圖3中A處虛線的位置。這樣，水只有通過(guò)沉砂槽8向沖砂閘7流動(dòng)。大量的水穿過(guò)引砂蓋板10之間的縫隙進(jìn)入沉砂槽8內(nèi)，使槽內(nèi)的砂礫14被水流沖刷而順利進(jìn)入沖砂道16排向下游。由于這種構(gòu)造的沉砂區(qū)在沉砂槽8內(nèi)，槽內(nèi)受水流沖刷，所以排砂干凈、徹底，而且排砂所用水量不必很大。
在豐水期，如果將沖砂閘7的高度開(kāi)啟在一個(gè)較低的適當(dāng)位置，始終保持有一股水流沖刷沉砂槽8內(nèi)的砂礫14，就可以實(shí)現(xiàn)排砂自動(dòng)化。
權(quán)利要求
1.一種引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，由主河道攔水壩、分水堤、引水堤、右側(cè)河堤、引水道、引水閘、沖砂道、沖砂閘、主河道攔砂堰組成；其特征在于該構(gòu)造還有沉砂槽、沖砂蓋板、引砂蓋板；主河道攔水壩的右側(cè)與分水堤連接、其左側(cè)與左側(cè)河堤連接，分水堤的上游端與右側(cè)河堤之間連接有主河道攔砂堰，分水堤的中段與右側(cè)河堤之間平行構(gòu)筑有引水堤，引水堤的上游端與分水堤之間有沖砂閘，沖砂閘的下游側(cè)是沖砂道；引水堤的上游端與右側(cè)河堤之間有引水閘，引水閘的下游側(cè)是引水道；引水閘和沖砂閘的上游一側(cè)有L形沉砂槽，沉砂槽的一端起始右側(cè)河堤，并與引水閘的方向平行設(shè)置，其槽底從右側(cè)河堤的起始端起逐漸向左端傾斜加深，與引水閘平行設(shè)置的沉砂槽段上面間隔固定有引砂蓋板；沉砂槽的左端，結(jié)束于分水堤與沖砂閘處，形成L形沉砂槽，其槽底向沖砂閘傾斜加深，通向沖砂閘的沉砂槽段上面固定有沖砂蓋板；以上所述構(gòu)造系統(tǒng)的布局，同樣可以對(duì)稱(chēng)地布局于河道左側(cè)，原理一樣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，其特征在于所述引砂蓋板之間的間隔縫隙方向傾斜于引水閘，并朝向沖砂閘。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，其特征在于所述沉砂槽與引水閘平行，沉砂槽底部最低處在沖砂閘門(mén)口，使砂礫易從沖砂閘排出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，其特征在于所述主河道攔砂堰的高度低于主河道攔水壩的上游水面。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種水電站引水渠排砂構(gòu)造系統(tǒng)，由主河道攔水壩、分水堤、引水堤、右側(cè)河堤、引水道、引水閘、沖砂道、沖砂閘、主河道攔砂堰、沉砂槽、沖砂蓋板、引砂蓋板組成。分水堤、引水堤將河道分為主河道、沖砂道和引水道。引水閘和沖砂閘的上游一側(cè)有L形沉砂槽，沉砂槽的一端起始右側(cè)河堤，并與引水閘的方向平行設(shè)置，其槽底從右側(cè)河堤的起始端起逐漸向左端傾斜加深，與引水閘平行設(shè)置的沉砂槽段上面間隔固定有引砂蓋板；沉砂槽的左端，結(jié)束于分水堤與沖砂閘處，形成L形沉砂槽，其槽底向沖砂閘傾斜加深，通向沖砂閘的沉砂槽段上面固定有沖砂蓋板。該系統(tǒng)排砂干凈、徹底，實(shí)現(xiàn)排砂自動(dòng)化。
文檔編號(hào)E02B9/02GK1952269SQ200510021910
公開(kāi)日2007年4月25日 申請(qǐng)日期2005年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月21日
發(fā)明者劉永言 申請(qǐng)人:成都希望電子研究所