專利名稱：一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于給水設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前氣體頂壓給水設(shè)備的氣壓水罐的補(bǔ)水方式是采用磁翻轉(zhuǎn)液位計(jì)與低液位開(kāi)關(guān)共同控制的方式，當(dāng)磁翻轉(zhuǎn)液位計(jì)與低液位開(kāi)關(guān)檢測(cè)到氣壓水罐中的水位下降，補(bǔ)水泵向氣壓水罐中補(bǔ)水，因低液位開(kāi)關(guān)安裝在氣壓水罐罐體底部，如氣壓水罐產(chǎn)生滲漏或漏氣會(huì)導(dǎo)致其對(duì)水位控制不當(dāng)，造成控制失靈。
發(fā)明內(nèi)容為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備，包括氣壓水罐、氣瓶組管路、氣瓶組、補(bǔ)水泵、水管和液位控制裝置，氣瓶組通過(guò)氣瓶組管路與氣壓水罐連通，水管與氣壓水罐底部連通，補(bǔ)水泵設(shè)置在水管上，液位控制裝置位于氣壓水罐內(nèi)，其特征在于所述液位控制裝置為全液位控制裝置。所述液位控制裝置為浮球式全液位控制裝置。本實(shí)用新型的有益效果為:使用全液位控制裝置替代磁翻轉(zhuǎn)液位計(jì)與低液位開(kāi)關(guān)，及時(shí)氣壓水罐產(chǎn)生滲漏或漏氣，全液位控制裝置也能對(duì)氣壓水罐進(jìn)行控制。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明:圖中，1、氣壓水;2、氣瓶組管路；3、氣瓶組；4、補(bǔ)水栗；5、水管；6、液位控制裝置。如圖1所示，氣瓶組3通過(guò)氣瓶組管路2與氣壓水罐I連通，水管5與氣壓水罐I底部連通，補(bǔ)水泵4設(shè)置在水管5上，液位控制裝置6位于氣壓水罐I內(nèi)，所述液位控制裝置6為全液位控制裝置。以上對(duì)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本實(shí)用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備，包括氣壓水罐(I)、氣瓶組管路(2)、氣瓶組(3)、補(bǔ)水泵(4)、水管(5)和液位控制裝置(6)，氣瓶組(3)通過(guò)氣瓶組管路(2)與氣壓水罐(I)連通，水管(5 )與氣壓水罐(I)底部連通，補(bǔ)水泵(4 )設(shè)置在水管(5 )上，液位控制裝置(6 )位于氣壓水罐(I)內(nèi)，其特征在于所述液位控制裝置(6 )為全液位控制裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備，其特征在于所述液位控制裝置(6)為浮球式全液位控制裝置。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種全液位控制的氣體頂壓給水設(shè)備，包括氣壓水罐、氣瓶組管路、氣瓶組、補(bǔ)水泵、水管和液位控制裝置，氣瓶組通過(guò)氣瓶組管路與氣壓水罐連通，水管與氣壓水罐底部連通，補(bǔ)水泵設(shè)置在水管上，液位控制裝置位于氣壓水罐內(nèi)，其特征在于所述液位控制裝置為全液位控制裝置。本實(shí)用新型的有益效果為使用全液位控制裝置替代磁翻轉(zhuǎn)液位計(jì)與低液位開(kāi)關(guān)，及時(shí)氣壓水罐產(chǎn)生滲漏或漏氣，全液位控制裝置也能對(duì)氣壓水罐進(jìn)行控制。
文檔編號(hào)E03B11/06GK202969468SQ201220601118
公開(kāi)日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月14日
發(fā)明者董玉亮 申請(qǐng)人:天津今譽(yù)源科技發(fā)展有限公司