一種樁側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種樁側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述測(cè)試裝置包括基準(zhǔn)樁、基準(zhǔn)梁、應(yīng)力計(jì)以及測(cè)試樁，兩根所述基準(zhǔn)樁豎向固設(shè)于土體中，所述基準(zhǔn)梁橫向架設(shè)固定于兩根所述基準(zhǔn)樁上；所述應(yīng)力計(jì)一端連接所述基準(zhǔn)梁，另一端連接所述測(cè)試樁，所述測(cè)試樁位于土體中。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，可利用場(chǎng)地工程樁進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試結(jié)束后將基準(zhǔn)梁和測(cè)試樁拆除，原基準(zhǔn)樁可繼續(xù)作為工程樁使用，施工簡單、成本低廉；利用該測(cè)試裝置進(jìn)行測(cè)試的方法為原位測(cè)試方法，可較準(zhǔn)確地實(shí)測(cè)擬建場(chǎng)地淺層軟弱土層樁側(cè)負(fù)摩阻力，為樁基工程設(shè)計(jì)提供可靠依據(jù)，進(jìn)而使設(shè)計(jì)更加合理、節(jié)約工程造價(jià)。
【專利說明】
一種樁側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于粧基工程技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)粧周的土因沉陷或固結(jié)產(chǎn)生大于粧身的沉降，粧側(cè)摩阻力由阻止粧下沉變?yōu)樽?dòng)粧下沉的力，也就是負(fù)摩阻力。負(fù)摩阻力問題廣泛存在于粧基工程中，對(duì)于工程粧需穿越較厚松散填土、自重濕陷性黃土、欠固結(jié)土層進(jìn)入相對(duì)較硬土層的場(chǎng)地，若處理不當(dāng)，將導(dǎo)致嚴(yán)重的粧基功能失效。
[0003]目前對(duì)于粧基負(fù)摩阻力的研究雖然在數(shù)值計(jì)算和理論研究方面均取得了較多成果，但粧基工程設(shè)計(jì)與施工中尚無較為準(zhǔn)確地獲取粧側(cè)負(fù)摩阻力的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試方法，負(fù)摩阻力取值大多根據(jù)《建筑粧基技術(shù)規(guī)范》(JGJ94-2008)第5.4.4條的有效應(yīng)力法或經(jīng)驗(yàn)值法計(jì)算和確定，而上述兩種方法獲取的負(fù)摩阻力通常無法隨工程場(chǎng)地地層條件不同，針對(duì)性取值。
[0004]因此，能夠較準(zhǔn)確地獲取粧側(cè)負(fù)摩阻力的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試裝置和方法有待提出。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的是根據(jù)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，提供一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，該測(cè)試裝置利用場(chǎng)地工程粧作為基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，將應(yīng)力計(jì)的上端固定于基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)上，并將其下端同埋設(shè)于土體中的測(cè)試粧相連接，以測(cè)試其粧側(cè)負(fù)摩阻力。
[0006]本實(shí)用新型目的實(shí)現(xiàn)由以下技術(shù)方案完成:
[0007]—種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述測(cè)試裝置包括基準(zhǔn)粧、基準(zhǔn)梁、應(yīng)力計(jì)以及測(cè)試粧，兩根所述基準(zhǔn)粧豎向固設(shè)于土體中，所述基準(zhǔn)梁橫向架設(shè)固定于兩根所述基準(zhǔn)粧上;所述應(yīng)力計(jì)一端連接所述基準(zhǔn)梁，另一端連接所述測(cè)試粧，所述測(cè)試粧位于土體中。
[0008]所述基準(zhǔn)粧底端深入至土體設(shè)計(jì)持力層、頂端高出于地表。
[0009 ] 所述測(cè)試粧底端深入至土體軟弱土層、頂端高出于地表。
[0010]所述應(yīng)力計(jì)以及所述測(cè)試粧豎向設(shè)置于兩根所述基準(zhǔn)粧連線的中點(diǎn)位置。
[0011]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，可利用場(chǎng)地工程粧進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試結(jié)束后將基準(zhǔn)梁和測(cè)試粧拆除，原基準(zhǔn)粧可繼續(xù)作為工程粧使用，施工簡單、成本低廉;利用該測(cè)試裝置進(jìn)行測(cè)試的方法為原位測(cè)試方法，可較準(zhǔn)確地實(shí)測(cè)擬建場(chǎng)地淺層軟弱土層粧側(cè)負(fù)摩阻力，為粧基工程設(shè)計(jì)提供可靠依據(jù)，進(jìn)而使設(shè)計(jì)更加合理、節(jié)約工程造價(jià)。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型中粧側(cè)負(fù)摩阻力測(cè)試裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]以下結(jié)合附圖通過實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的特征及其它相關(guān)特征作進(jìn)一步詳細(xì)說明，以便于同行業(yè)技術(shù)人員的理解:
[0014]如圖1，圖中標(biāo)記1-4分別為:基準(zhǔn)梁1、基準(zhǔn)粧2、應(yīng)力計(jì)3、測(cè)試粧4。
[0015]實(shí)施例:本實(shí)施例具體涉及一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，主要應(yīng)用于淺層有軟弱土層分布且采用粧基礎(chǔ)的工程，能夠較為準(zhǔn)確的測(cè)試獲得淺層軟弱土層粧側(cè)負(fù)摩阻力。
[0016]如圖1所示，本實(shí)施例中的測(cè)試裝置包括兩根基準(zhǔn)粧2、基準(zhǔn)梁1、應(yīng)力計(jì)3以及測(cè)試粧4，其中:
[0017]基準(zhǔn)粧2的粧型不限，本實(shí)施例中的兩根基準(zhǔn)粧2直接采用擬建場(chǎng)地預(yù)先施工的工程粧，基準(zhǔn)粧2的粧頂露出地面一定距離，粧底則深入至土體設(shè)計(jì)持力層(即堅(jiān)硬地層)，以確?；鶞?zhǔn)粧2穩(wěn)定且無沉降；
[0018]基準(zhǔn)梁I橫向設(shè)置且其兩端分別支承固定于兩根基準(zhǔn)粧2的粧頂，以同兩根基準(zhǔn)粧2共同構(gòu)成門形基準(zhǔn)結(jié)構(gòu)；
[0019]應(yīng)力計(jì)3豎向設(shè)置并同基準(zhǔn)梁I的下表面固定連接，具體位于兩根基準(zhǔn)粧2連線的中點(diǎn)位置，以使在測(cè)試時(shí)能夠使兩側(cè)基準(zhǔn)粧2平衡受力；
[0020]測(cè)試粧4采用小直徑預(yù)制粧，位于兩根基準(zhǔn)粧2連線的中點(diǎn)位置，其粧底深入至軟弱土層中的負(fù)摩阻力中心點(diǎn)位置，而粧頂則露出地面一定距離，于粧頂設(shè)置有一粧頭，該粧頭同應(yīng)力計(jì)3的下端相連接。
[0021]如圖1所示，應(yīng)用本實(shí)施例中的測(cè)試裝置進(jìn)行測(cè)試的方法包括如下步驟:
[0022](I)在擬建場(chǎng)地預(yù)先施工兩根工程粧作為基準(zhǔn)粧2，基準(zhǔn)粧2進(jìn)入設(shè)計(jì)持力層且其粧頂露出地面一定距離；
[0023](2)施工基準(zhǔn)梁I并將其兩端架設(shè)于兩根基準(zhǔn)粧2的粧頂以相互連接構(gòu)成基準(zhǔn)機(jī)構(gòu)；
[0024](3)在基準(zhǔn)梁I的下表面吊掛應(yīng)力計(jì)3;
[0025](4)在兩根基準(zhǔn)粧2的連線中點(diǎn)位置施工小直徑預(yù)制粧以作為測(cè)試粧4，測(cè)試粧4粧端壓至軟弱土層中負(fù)摩阻力中性點(diǎn)以下約20cm，為防止測(cè)試期間受粧端端阻力影響，測(cè)試結(jié)果偏小，故在測(cè)試粧4壓至預(yù)定位置后將其再提至負(fù)摩阻力中性點(diǎn)，形成吊腳粧；同時(shí)將測(cè)試粧4的上端同應(yīng)力計(jì)3連接；
[0026](5)通過長期觀測(cè)應(yīng)力計(jì)4讀數(shù)，以獲取場(chǎng)地淺層軟弱土層測(cè)試粧3的粧側(cè)負(fù)摩阻力數(shù)值；
[0027](6)待測(cè)試結(jié)束后，將基準(zhǔn)梁1、應(yīng)力計(jì)3以及測(cè)試粧4拆除，兩根基準(zhǔn)粧2則繼續(xù)作為工程粧使用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述測(cè)試裝置包括基準(zhǔn)粧、基準(zhǔn)梁、應(yīng)力計(jì)以及測(cè)試粧，兩根所述基準(zhǔn)粧豎向固設(shè)于土體中，所述基準(zhǔn)梁橫向架設(shè)固定于兩根所述基準(zhǔn)粧上;所述應(yīng)力計(jì)一端連接所述基準(zhǔn)梁，另一端連接所述測(cè)試粧，所述測(cè)試粧位于土體中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述基準(zhǔn)粧底端深入至土體設(shè)計(jì)持力層、頂端高出于地表。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述測(cè)試粧底端深入至土體軟弱土層、頂端高出于地表。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粧側(cè)負(fù)摩阻力的測(cè)試裝置，其特征在于所述應(yīng)力計(jì)以及所述測(cè)試粧豎向設(shè)置于兩根所述基準(zhǔn)粧連線的中點(diǎn)位置。
【文檔編號(hào)】E02D33/00GK205530394SQ201620093137
【公開日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年1月29日
【發(fā)明人】顧國榮, 郭星宇, 宋繼庭, 王克文, 楊硯宗, 朱雪周
【申請(qǐng)人】上海長凱巖土工程有限公司