專利名稱：調(diào)高自調(diào)坡球形支座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于橋梁支座技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種調(diào)高自調(diào)坡球形支座。
背景技術(shù)：
在橋梁建造過程中，由于橋梁往往具有一定的坡度，使用普通支座需要設(shè)置楔塊才能保證梁體的作用力豎直作用在橋墩上。為此出現(xiàn)了自調(diào)坡球形支座，其結(jié)構(gòu)包括上座板、上襯板、下襯板和帶有橡膠板的底盆，上座板和上襯板間設(shè)置有平面不銹鋼板和平面耐磨滑板構(gòu)成的摩擦副，上襯板和下襯板之間為球面接觸，下襯板的頂部高出底盆盆沿。自調(diào)坡球形支座雖然能適應一定坡度，但是上襯板被上座板包裹，使得支座調(diào)整坡度較小，使用受到很大限制，且其高度不能調(diào)節(jié)。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題就是提供一種調(diào)整坡度大、高度能調(diào)節(jié)的調(diào)高自調(diào)坡球形支座。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的技術(shù)方案為包括上座板、上襯板、下襯板和帶有橡膠板的底盆，上座板和上襯板間設(shè)置有平面不銹鋼板和平面耐磨滑板構(gòu)成的摩擦副，上襯板和下襯板之間為球面接觸，下襯板的頂部高出底盆盆沿，所述上襯板的底部低出上座板底沿，底盆設(shè)置有調(diào)壓通道。其附加技術(shù)特征為所述的上襯板和下襯板之間設(shè)置有球面耐磨滑板。本實用新型所提供的調(diào)高自調(diào)坡球形支座，與現(xiàn)有技術(shù)相比，上襯板的底部低出上座板底沿。這樣，上座板與底盆之間距離較大，支座調(diào)整坡度加大，使用范圍更寬。而底盆設(shè)置有調(diào)壓通道，在支座安裝好后，向調(diào)壓通道內(nèi)灌注調(diào)高注劑，可對支座高度進行調(diào)整。 上襯板和下襯板之間設(shè)置有球面耐磨滑板，使得支座轉(zhuǎn)動靈活。

圖1為本實用新型調(diào)高自調(diào)坡球形支座橫橋向的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為調(diào)高自調(diào)坡球形支座順橋向的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型所提供的調(diào)高自調(diào)坡球形支座的具體結(jié)構(gòu)和原理做進一步說明。如圖1、2所示，本實用新型調(diào)高自調(diào)坡球形支座包括上座板1、上襯板2、下襯板3 和帶有橡膠板4的底盆5，上座板1和上襯板2間設(shè)置有平面不銹鋼板6和平面耐磨滑板7 構(gòu)成的摩擦副，上襯板2和下襯板3之間為球面接觸，上襯板2和下襯板3之間設(shè)置有球面耐磨滑板8，下襯板3的頂部高出底盆5盆沿，上襯板2的底部低出上座板1底沿，底盆5設(shè)置有調(diào)壓通道9。
3[0011] 本實用新型所提供的調(diào)高自調(diào)坡球形支座，下襯板3的頂部高出底盆5盆沿，上襯板2的底部低出上座板1底沿，上座板1與底盆5之間距離較大，支座調(diào)整坡度加大，使用范圍更寬。而底盆5設(shè)置有調(diào)壓通道9，在支座安裝好后，向調(diào)壓通道9內(nèi)灌注調(diào)高注劑，可對支座高度進行調(diào)整。上襯板2和下襯板3之間設(shè)置有球面耐磨滑板8，使得支座轉(zhuǎn)動靈活。
權(quán)利要求1.調(diào)高自調(diào)坡球形支座，包括上座板、上襯板、下襯板和帶有橡膠板的底盆，上座板和上襯板間設(shè)置有平面不銹鋼板和平面耐磨滑板構(gòu)成的摩擦副，上襯板和下襯板之間為球面接觸，下襯板的頂部高出底盆盆沿，其特征在于所述上襯板的底部低出上座板底沿，底盆設(shè)置有調(diào)壓通道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)高自調(diào)坡球形支座，其特征在于所述的上襯板和下襯板之間設(shè)置有球面耐磨滑板。
專利摘要本實用新型屬于橋梁支座技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種調(diào)高自調(diào)坡球形支座。主要技術(shù)特征為包括上座板、上襯板、下襯板和帶有橡膠板的底盆，上座板和上襯板間設(shè)置有平面不銹鋼板和平面耐磨滑板構(gòu)成的摩擦副，上襯板和下襯板之間為球面接觸，下襯板的頂部高出底盆盆沿，所述上襯板的底部低出上座板底沿，底盆設(shè)置有調(diào)壓通道。本實用新型所提供的調(diào)高自調(diào)坡球形支座，上座板與底盆之間距離較大，支座調(diào)整坡度加大，使用范圍更寬。而底盆設(shè)置有調(diào)壓通道，在支座安裝好后，向調(diào)壓通道內(nèi)灌注調(diào)高注劑，可對支座高度進行調(diào)整。
文檔編號E01D19/04GK202000254SQ20102066800
公開日2011年10月5日 申請日期2010年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月20日
發(fā)明者宋振旺, 宋振浩, 宋振輝, 張肖松, 李紅坡 申請人:衡水市桃城區(qū)鑫歸機械加工廠