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      真空吸附式工作平臺結構的制作方法

      文檔序號:2330139閱讀:470來源:國知局
      專利名稱:真空吸附式工作平臺結構的制作方法
      技術領域
      本實用新型涉及一種真空吸附式工作平臺結構,特別是涉及一種利用真空 吸附方式固定工件的工作平臺結構。
      背景技術
      工作平臺主要用于放置工件,以便利于工件的加工,公知的工作平臺已有利用真空吸附的方式固定工件,如公告于公元2003年3月1日的中國臺灣專 利公告編號第522912號即公開有一種《真空吸附式工作平臺》,其具有一基 座,該基座中具有一容室,并于容室上覆蓋一平臺,基座受平臺抵靠而于該抵 靠面的基座上至少設有一通 L,該通孔分別連通至鎖設于基座的接頭,各接頭 則分別以一導管連接至一抽氣泵,于通孔周緣設有一環(huán)槽,環(huán)槽供一O形環(huán)設 置,且O形環(huán)略高出環(huán)槽頂緣;該平臺由一頂板及一底板相迭構成,該頂、底 板中央分別設有貫孔,另,頂板板面上具有多數(shù)貫穿的氣孔,該底板頂面對應 該頂板上的氣孔設有內凹的導氣槽,對應基座的通孔位置該底板于導氣槽內設 一穿孔,使通孔與導氣槽相連通。上述公知的真空吸附式工作平臺,其僅于該底板頂面設有二導氣槽,該二 導氣槽為簡陋的設計,且每一導氣槽需對應該頂板上許多的氣孔,無法有效的 對于頂板上的所有氣孔提供平均的真空吸力,故各氣孔真空吸力大小不一,難 以達到較佳的吸附效果。再者,上述公知的真空吸附式工作平臺,其平臺的頂板及底板僅有四角利 用螺絲鎖固于基座上,結合較不牢固,且鎖固力較不平均,使平臺難以具有較 佳的平面度,且密封性較差,容易發(fā)生漏氣的情況。本實用新型人有感上述缺失的可改善,乃特潛心研究并配合學理的運用, 終于提出一種設計合理且有效改善上述缺失的本實用新型。發(fā)明內容本實用新型所要解決的主要問題在于,提供一種真空吸附式工作平臺結 構,其能提供平均的真空吸力,可達到較佳的吸附效果。本實用新型的另一目的,在于提供一種真空吸附式工作平臺結構,其鎖固 力較平均,使平臺具有較佳的平面度,且密封性較佳,不會發(fā)生漏氣的情況。為了實現(xiàn)上述的目的,本實用新型提供一種真空吸附式工作平臺結構,包 括 一下本體,該下本體內設有多個流道,該下本體頂面設置有多個溝槽,所 述溝槽沿縱向及橫向延伸,所述流道與所述溝槽相通;以及一上本體,該上本 體與該下本體鎖固結合,該上本體設置有多個吸氣 L,所述吸氣孔貫穿該上本 體頂面及底面,所述吸氣孔與所述溝槽相對應。所述下本體四側邊各設一有長形凹槽,該凹槽下緣各形成有一固定部。所述下本體內的多個流道包含有第一流道及第二流道,所述第一流道沿水 平向延伸,所述第一流道沿縱向及橫向的設于該下本體內部,所述第二流道設 于對應于第一流道的溝槽中,所述第二流道沿垂直向延伸,所述第二流道由所 述溝槽貫穿至所述第一流道。所述第一流道由所述下本體一側貫穿至相對的另一側,所述第一流道兩端 分別形成有開口,并連接有塞體。所述流道連接有一控制閥及一抽氣泵。所述流道連接有一泄氣閥。所述流道連接有一壓力表。所述下本體頂面形成有一凹陷區(qū),該上本體底面形成有一突出部,該突出 部邊緣設有倒角,該上本體的突出部配合于該下本體的凹陷區(qū)。所述吸氣孔沿垂直向貫穿,所述吸氣孔由該上本體頂面貫穿至該突出部底面。所述吸氣孔各包含有一小孔及一大孔分設于上部及下部。所述下本體設有多個第一鎖固孔,所述第一鎖固孔以陣列方式間隔的設置 于該下本體上,該上本體設有多個與第一鎖固孔相對應的第二鎖固孔,該上本 體與該下本體以多個鎖固件鎖固結合,所述鎖固件上各套設有一O形環(huán),所述鎖固件穿過該下本體的第一鎖固孔,螺接于該上本體的第二鎖固孔。 所述吸氣孔以陣列方式間隔的排列于該上本體。 所述上本體設有多個定位孔,所述定位孔選擇性的插設有定位銷。
      所述上本體與該下本體之間設置有一密封墊片。本實用新型具有以下有益的效果該下本體內部設有多個流道,且于該下 本體頂面設有縱橫交錯設置的溝槽,所述吸氣孔與該下本體頂面的溝槽相對 應,可利用流道及溝槽的導引,使所述吸氣孔吸力平均,能提供平均的真空吸 力,可達到較佳的吸附效果。再者,該上本體及該下本體之間以陣列方式間隔設置的鎖固件鎖固結合, 其結合較牢固,且鎖固力較平均,使平臺具有較佳的平面度,且密封性較佳, 不會發(fā)生漏氣的情況。為使能更進一步了解本實用新型的特征及技術內容,請參閱以下有關本實 用新型的詳細說明與附圖,然而所附圖式僅提供參考與說明用,并非用來對本 實用新型加以限制。


      圖1為本實用新型工作平臺結構的立體分解圖;圖2為本實用新型工作平臺結構的立體組合圖;圖3為本實用新型工作平臺結構的剖視圖;圖4為本實用新型工作平臺結構的剖視圖;圖5為本實用新型工作平臺結構的使用狀態(tài)示意圖。其中,附圖標記-1下本體u 凹槽12固定部13第一流道14控制閥15 泄氣閥16壓力表19 塞體20凹陷區(qū)21 溝槽22第二流道23第一鎖固孔5上本體51突出部52倒角53吸氣孔531小孔532大孔54第二鎖固孔55定位孔56定位銷57密封墊片 58鎖固件59 O形環(huán) 7工件9薄膜具體實施方式
      請參閱圖1及圖2,本實用新型公開了一種真空吸附式工作平臺結構,其 包括一下本體1及一上本體5,其中該下本體1以金屬或其它材料制成,其大 致呈長方體或其它形狀,該下本體l四側邊各設有一長形凹槽ll,該凹槽ll 下緣各形成有一固定部12,以方便利用夾具夾持固定,使該工作平臺得以固 定于適當位置。另,可于該下本體l四側邊向外延伸形成凸耳(圖略),以便 利用凸耳固定于適當位置。如圖3及圖4所示,該下本體1內部設有多個第一流道13,所述第一流 道13沿水平向貫穿,所述第一流道13沿縱向及橫向延伸于下本體1內部,以 形成縱橫交錯的設置。所述第一流道13由下本體1 一側貫穿至相對的另一側, 所述第一流道13兩端分別形成有開口,并于所述開口分別連接一控制閥14、 一泄氣閥15及一壓力表16,該控制閥14可進一步連接一抽氣泵(圖略), 以便利用該抽氣泵進行抽氣的動作,使工作平臺內部形成真空狀態(tài)。該泄氣閥 15則可用以泄除工作平臺內部的真空狀態(tài)。該壓力表16可用以顯示工作平臺 內部的真空壓力。所述第一流道13兩端其它未使用的開口則螺接一塞體19 予以封閉該下本體1頂面形成有一凹陷區(qū)20,該下本體1頂面設置有多個溝 槽21,所述溝槽21沿縱向及橫向延伸的凹設于凹陷區(qū)20上,以形成縱橫交錯的設置,每一溝槽21由凹陷區(qū)20—側延伸至相對的另一側。對應于第一流 道13的溝槽21中設有多個第二流道22,所述第二流道22沿垂直向延伸,所 述第二流道22由溝槽21貫穿至第一流道13,所述等第一流道13、第二流道 22與溝槽21形成相通狀態(tài)。該下本體1并設有多個第一鎖固孔23,所述第一鎖固孔23以陣列方式間 隔的分布于整個下本體1上,所述第一鎖固孔23需與第一流道13、第二流道 22及溝槽21錯開,以避免漏氣。所述第一鎖固孔23為魚眼孔,其沿垂直向 貫穿,所述第一鎖固孔23貫穿至下本體1頂面及底面。該上本體5以金屬或其它材料制成,其呈與下半體1相對應的長方體或其
      它形狀,該上本體5底面形成有一與下本體1的凹陷區(qū)20相對應的突出部51 , 該突出部51邊緣并設有倒角52。該上本體5設置有多個吸氣孔53,所述吸氣 孔53以陣列方式間隔的排列于突出部51上,并與該下本體1頂面的溝槽21 相對應,所述吸氣孔53沿垂直向貫穿,所述吸氣孔53由該上本體5頂面貫穿 至突出部51底面。每一吸氣孔53包含有一小孔531及一大孔532分設于上部 及下部。該上本體5并設有多個第二鎖固孔54,所述第二鎖固孔54以陣列方式間 隔的分布于整個上本體5上,所述第二鎖固孔54與所述第一鎖固孔23相對應。 所述第二鎖固孔54為盲孔型式的螺孔,所述第二鎖固孔54下端貫穿至上本體 5的突出部51底面。該上本體5頂面還可凹設有多個定位孔55,所述定位孔55可選擇性的插 設定位銷56 (如圖5所示),所述定位銷56突出于上本體5頂面,可便于工 件抵靠定位,使工件可準確的定位于該上本體5頂面。該上本體5由上而下的組合于該下本體1,并令該上本體5的突出部51 配合于該下本體1的凹陷區(qū)20,該突出部51邊緣的倒角52可方便突出部51 快速及準確的置入凹陷區(qū)20,并于突出部51外圍套設有一密封墊片57,該密 封墊片57介于上本體5與下本體1之間,用以增進密封性,以避免漏氣。該上本體5與該下本體1之間以多個鎖固件58予以鎖固結合,所述鎖固 件58為螺絲,且于每一鎖固件58上各套設有一0形環(huán)59,所述鎖固件58由 下而上穿過下本體1的第一鎖固孔23,而后螺接于上本體5的第二鎖固孔54, 使該上本體5與該下本體1鎖固結合為一體;通過上述的組成以形成本實用新 型的真空吸附式工作平臺結構。如圖5所示,本實用新型的工作平臺欲使用時,可將工件7放置于上本體 5頂面上,該工件7位于對應的吸氣孔53上方,并利用薄膜9或薄片貼附于 其它不需使用的吸氣孔53上方,以封閉不需使用的吸氣孔53。而后啟動該抽 氣泵進行抽氣的動作,使工作平臺內部的空氣得以經由第一流道13、第二流 道22、溝槽21及吸氣孔53抽出,如此上本體5上的吸氣孔53即可產生真空 吸力,將工件7吸附固定于工作平臺上。本實用新型的真空吸附式工作平臺結構,至少具有優(yōu)點如下1、該下本體1內部設有多個流道13、 22,且于該下本體1頂面設有縱橫
      交錯設置的溝槽21,所述吸氣孔53并與該下本體1頂面的溝槽21相對應, 可利用流道13、 22及溝槽21的導引,使所述吸氣孔53吸力平均,能提供平 均的真空吸力,可達到較佳的吸附效果。2、 該上本體5與該下本體1之間以陣列方式間隔設置的鎖固件58鎖固結合,其結合較牢固,且鎖固力較平均,使平臺具有較佳的平面度,且密封性較 佳,不會發(fā)生漏氣的情況。3、 該上本體5與該下本體1之間以突出部51及凹陷區(qū)20配合,此凹凸 配合的構造,可用以增進密封性,有效的防止漏氣,且具有良好的定位效果。4、 該上本體5與該下本體1之間設有密封墊片57,可用以增進密封性, 有效的防止漏氣。5、 該上本體5與該下本體1之間以多個鎖固件58鎖固結合,且于每一鎖 固件58上各套設有0形環(huán)59,可防止第一鎖固孔23漏氣。6、 該上本體5頂面插設有定位銷56,可便于工件抵靠定位,使工件可準 確的定位于該上本體5上。7、 吸氣孔53采大、小孔的設計,可方便進入吸氣孔53內的雜物的排除。 以上所述僅為本實用新型的較佳實施例,并非用以局限本實用新型的專利保護范圍,故凡運用本實用新型說明書及附圖內容所做的等效變化,均同理皆 包含于本實用新型的權利保護范圍內。
      權利要求1、一種真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,包括一下本體,該下本體內設有多個流道,該下本體頂面設置有多個溝槽,所述溝槽沿縱向及橫向延伸,所述流道與所述溝槽相通;以及一上本體,該上本體與該下本體鎖固結合,該上本體設置有多個吸氣孔,所述吸氣孔貫穿該上本體頂面及底面,所述吸氣孔與所述溝槽相對應。
      2、 如權利要求l所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該下本 體四側邊各設一有長形凹槽,該凹槽下緣各形成有一固定部。
      3、 如權利要求l所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該下本 體內的多個流道包含有第一流道及第二流道,所述第一流道沿水平向延伸,所 述第一流道沿縱向及橫向的設于該下本體內部,所述第二流道設于對應于第一 流道的溝槽中,所述第二流道沿垂直向延伸,所述第二流道由所述溝槽貫穿至 所述第一流道。
      4、 如權利要求3所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述第 一流道由所述下本體一側貫穿至相對的另一側,所述第一流道兩端分別形成有 開口,并連接有塞體。
      5、 如權利要求l所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述流 道連接有一控制閥及一抽氣泵。
      6、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述流 道連接有一泄氣閥。
      7、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述流 道連接有一壓力表。
      8、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該下本體頂面形成有一凹陷區(qū),該上本體底面形成有一突出部,該突出部邊緣設有倒 角,該上本體的突出部配合于該下本體的凹陷區(qū)。
      9、 如權利要求8所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述吸氣孔沿垂直向貫穿,所述吸氣孔由該上本體頂面貫穿至該突出部底面。
      10、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述吸 氣孔各包含有一小孔及一大孔分設于上部及下部。
      11、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該下本 體設有多個第一鎖固孔,所述第一鎖固孔以陣列方式間隔的設置于該下本體 上,該上本體設有多個與第一鎖固孔相對應的第二鎖固孔,該上本體與該下本體以多個鎖固件鎖固結合,所述鎖固件上各套設有一o形環(huán),所述鎖固件穿過該下本體的第一鎖固孔,螺接于該上本體的第二鎖固孔。
      12、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,所述吸 氣孔以陣列方式間隔的排列于該上本體。
      13、 如權利要求l所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該上本 體設有多個定位孔,所述定位孔選擇性的插設有定位銷。
      14、 如權利要求1所述的真空吸附式工作平臺結構,其特征在于,該上本 體與該下本體之間設置有一密封墊片。
      專利摘要本實用新型涉及一種真空吸附式工作平臺結構,包括一下本體,該下本體內設有多個流道,該下本體頂面設置有多個溝槽,所述溝槽沿縱向及橫向延伸,所述流道與所述溝槽相通;以及一上本體,該上本體與該下本體鎖固結合,該上本體設置有多個吸氣孔,所述吸氣孔貫穿該上本體頂面及底面,所述吸氣孔與所述溝槽相對應。本實用新型的吸氣孔吸力平均,能提供平均的真空吸力,可達到較佳的吸附效果。該上本體及該下本體之間以陣列方式間隔設置的鎖固件鎖固結合,其結合較牢固,且鎖固力較平均,使平臺具有較佳的平面度,且密封性較佳,不會發(fā)生漏氣的情況。
      文檔編號B25H1/00GK201015850SQ200720005790
      公開日2008年2月6日 申請日期2007年2月16日 優(yōu)先權日2007年2月16日
      發(fā)明者沈彥平, 沈永才 申請人:沈永才
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