專利名稱：剃刀刀片架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于接納剃刮助劑的具有保持構(gòu)件的濕剃剃刀刀片架，所述保持構(gòu)件具有前壁，所述前壁從所述保持構(gòu)件的基座朝向剃刀刀片架的剃刮平面延伸。
背景技術(shù)：
濕剃剃刀多年以來已演變成包括多個(gè)刀片、防護(hù)件和具有潤(rùn)滑條的頂蓋，它們?nèi)?部旨在在提高剃刮的貼面性的同時(shí)也提供舒適的剃刮體驗(yàn)。在由Gillette Company生產(chǎn)和銷售的剃刀刀片架中，通常在刀片架的后面處，在刀片之后提供潤(rùn)滑條。此類潤(rùn)滑條可包括皮膚調(diào)理劑以改善外觀和剃刮者在完成剃刮行程時(shí)的感覺。潤(rùn)滑條可包括剃刮增強(qiáng)產(chǎn)品例如潤(rùn)滑劑。包括潤(rùn)滑條的剃刀刀片架是已知的，所述潤(rùn)滑條由包含聚環(huán)氧乙烷(PEO)的聚苯乙烯(PS)的多孔剛性基質(zhì)形成。這些潤(rùn)滑條通常直接搭扣配合到刀片架的框架中。PS的剛性結(jié)構(gòu)用來在剃刀刀片架的后面提供皮膚支撐表面以防止皮膚被下推擠到刀片上和刀片之間。然而，隨著時(shí)間的過去，PEO從PS基質(zhì)中濾出，從而只留下基質(zhì)。在掠過皮膚時(shí)，由于缺乏潤(rùn)滑和所述基質(zhì)引起的刮擦感的緣故，留下的多孔結(jié)構(gòu)可導(dǎo)致剃刮 不舒適。此外，通過多次剃刮，基質(zhì)的尺寸通常顯著改變，首先體積上隨著潤(rùn)滑條被暴露于水中而增大，并且隨后隨著PEO的濾出而尺寸減小。當(dāng)使用剃刀刀片架時(shí),這種尺寸上的變化可影響剃刮的總動(dòng)力，使得在許多次剃刮之后，剃刀刀片架使用起來不那么舒適。本發(fā)明試圖提供一種替代裝置，所述裝置將剃刮助劑放置在剃刀刀片架上并同時(shí)在剃刮過程中額外地提供更加一致的動(dòng)力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種濕剃刀片架，所述濕剃刀片架包括a)外殼，所述外殼具有位于所述外殼前端處的防護(hù)件和位于所述外殼后端處的頂蓋，b) 一個(gè)或更多個(gè)細(xì)長(zhǎng)刀片，所述刀片位于所述防護(hù)件和頂蓋之間并且在基本上平行于所述防護(hù)件的一段的方向上延伸，其中相應(yīng)刀片的刀刃位于在所述防護(hù)件和所述頂蓋之間延伸的剃刮平面上，位于所述頂蓋中的剃刮助劑保持構(gòu)件，所述保持構(gòu)件具有布置成接納剃刮助劑的基座，和位于所述保持構(gòu)件鄰近所述刀片的一側(cè)處的前壁，所述前壁從所述保持構(gòu)件的基座朝向所述剃刮平面延伸。保持構(gòu)件提供了其上能夠放置剃刮助劑的平臺(tái)。這允許剃刮助劑的種類/形式上的靈活性。在使用時(shí)，預(yù)期設(shè)置在剃刀刀片架上的剃刮助劑的量將減少。保持構(gòu)件的前壁在刀片幾何形狀方面提供最小量的一致性。


以下將參照附圖以舉例的方式來描述本發(fā)明的實(shí)施方案，其中圖I為濕剃剃刀的一種可能實(shí)施方案的前視圖。圖2為圖I中所示剃刀刀片架的一種可能實(shí)施方案的橫截x-x的示意性剖面?zhèn)纫晥D。圖3為圖2中所示剃刀刀片架的一個(gè)可供選擇的實(shí)施方案的剖面圖。圖4為如圖1-3的剃刀中所示的保持構(gòu)件的一個(gè)實(shí)施方案的透視圖。圖5 (a)、(b)和6 (a)、(b)、(c)顯示圖4中所示的保持構(gòu)件的可供選擇的實(shí)施方
案。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明一般來講對(duì)用于濕剃系統(tǒng)中的剃刀刀片架是適用的。圖I顯示由連接到柄部14的剃刀刀片架12形成的濕剃剃刀10。剃刀刀片架12由外殼16形成，所述外殼具有前壁18、后壁20以及橫交于所述前壁18和后壁20并介于二者之間設(shè)置的第一和第二相對(duì)的側(cè)壁22、24。具有鋒利切刃28的多個(gè)刀片26中的兩個(gè)被安裝在外殼16內(nèi)并在所述第一和第二相對(duì)的側(cè)壁22、24之間延伸。在第一刀片62和最后一個(gè)刀片64的切刃28之間的切線限定在防護(hù)件和頂蓋之間的剃刮平面A(如圖2和3所示)。在圖I的實(shí)施方案中顯示了四個(gè)刀片，然而，應(yīng)當(dāng)理解，在外殼16內(nèi)部可安裝更多或更少的刀片。剃刀刀片架12還具有位于刀片前面的防護(hù)件30和位于刀片后面的頂蓋32。在所示的實(shí)施方案中，所述防護(hù)件被設(shè)置在外殼的前壁上，并且所述頂蓋被設(shè)置在外殼的后壁上。然而，應(yīng)當(dāng)理解，在一個(gè)可供選擇的實(shí)施方案中，防護(hù)件可與外殼分開成型并且被直接安裝到剃刀刀片架14上，或者成型為完全分開的組件并位于柄部和剃刀刀片架之間。圖2顯示橫截圖I的剃刀刀片架的x-x的示意性橫截面?zhèn)纫晥D。頂蓋32由其上可設(shè)置剃刮助劑35的保持構(gòu)件34形成。保持構(gòu)件34具有基座36和位于所述保持構(gòu)件鄰近刀片的一側(cè)處的前壁38。在圖2所示的實(shí)施方案中，保持構(gòu)件34被顯示用于接納剃刮助劑的單一 L形結(jié)構(gòu)。然而，應(yīng)當(dāng)理解，保持構(gòu)件34可分段進(jìn)行成型，導(dǎo)致仍然具有基座36和前壁38的兩個(gè)或更多個(gè)保持構(gòu)件。保持構(gòu)件34在各實(shí)施方案中被顯示為位于外殼16內(nèi)的分開的物品。然而，應(yīng)當(dāng)理解，保持構(gòu)件34在可供選擇的實(shí)施方案中可與外殼16整體形成。前壁38的邊緣40相對(duì)于剃刮平面的位置控制皮膚凸起的量，其在最后一個(gè)刀片64和前壁38之間將是可能的。在各實(shí)施方案中，邊緣40可在剃刮平面A下方為距離d，介于0臟、0. 05臟、0. I臟、0. 15、0. 2臟和0. 3臟、0. 35mm、0. 4mm之間，同時(shí)仍通過跟著最后一個(gè)刀片64的皮膚凸起減輕對(duì)于剃刀刀片架的使用者所引起的不舒適程度。圖2顯示其中d為0并且邊緣40位于剃刮平面A中的一個(gè)實(shí)施方案。圖3顯示其中d為約0. 4mm并且邊緣40位于剃刮平面下方的一個(gè)實(shí)施方案?，F(xiàn)在參見圖3，前壁38的高度h由剃刀刀片架的深度D所限定。在各實(shí)施方案中，高度h介于0. 5mm、Imm或I. 5mm和2mm、2. 5mm或3mm之間。對(duì)皮膚凸起的影響也由前壁38的邊緣40與最后一個(gè)刀片64的刀刃68的接近度而部分地確定。在各實(shí)施方案中，所述邊緣可具有遠(yuǎn)離最后一個(gè)刀片64的邊緣68的距離y,其介于0. 4mm、0. 5mm、0. 6mm至0. 7mm、
0.8mm、0. 9mm 之間。剃刮助劑35被設(shè)置在保持構(gòu)件34上，如圖2和3所示。剃刮助劑35可為剃刮前或剃刮后助劑，其例如旨在在剃刮行程結(jié)束時(shí)改善剃刮者遭遇的外觀和感覺。舉例來講，剃刮助劑可為疏水性油或脂質(zhì)型材料(其通過與表面直接磨蝕而被遞送到進(jìn)行剃刮的表面)或者親水的水溶性材料(其通過溶解而被遞送)?？墒褂玫奶旯沃鷦┌ㄒ韵旅绹?guó)專利中所公開的那些7，069，658,6, 944，952,6, 594，904,6, 182，365,6, 185，822,6, 298，558 和5，113，585。使用保持構(gòu)件34將增加可放置在剃刀刀片架上的剃刮助劑35的選擇上的靈活性。例如，在當(dāng)前市場(chǎng)上的一些剃刀刀片架中，化學(xué)品必須被浸潰在結(jié)構(gòu)化基質(zhì)中，例如聚環(huán)氧乙烷浸潰在聚苯乙烯基質(zhì)或海綿中。在本文所述的實(shí)施方案中，保持構(gòu)件34提供所述結(jié)構(gòu)，并且可將各種各樣的化學(xué)物質(zhì)沉積在保持構(gòu)件34的基座36上。在各實(shí)施方案中，剃刮助劑呈固體或半固體狀態(tài)并且優(yōu)選地是可被傾倒到保持構(gòu)件上并且隨后凝固的材料、可被壓制到保持構(gòu)件上的材料、或者可被預(yù)加工并被結(jié)合到保持構(gòu)件上的材料。在如圖3所示的實(shí)施方案中，剃刮助劑35可比前壁38的高度更厚，使得剃刮助劑35的頂部表面52突出在保持構(gòu)件34的前壁38的邊緣40之上。在圖2所示的實(shí)施方案中，頂部表面52與前壁的邊緣一致。對(duì)于某些剃刮助劑材料例如PE0，有可能當(dāng)剃刮助劑與水相互作用時(shí)，其體積可增大，因此使剃刮助劑的頂部表面52從其初始位置升高。在所有·的實(shí)施方案中，預(yù)期隨著剃刀刀片架的重復(fù)使用，剃刮助劑將被沉積在進(jìn)行剃刮的表面上并且剃刮助劑的體積將減小。不管剃刮助劑的頂部表面52的初始位置如何，當(dāng)它后退到前壁38的邊緣40的水平之下時(shí)，前壁38與刀片保持幾何形狀，從而限制最后一個(gè)刀片與保持構(gòu)件之間的皮膚凸起量。保持構(gòu)件34的基座36具有大致矩形的或橢圓形的形狀，并且一般橫跨剃刀刀片架的寬度w(如圖I中所示)延伸。在圖2和3所示的各實(shí)施方案中，前壁38和保護(hù)構(gòu)件34的基座36被顯示彼此垂直。然而，應(yīng)當(dāng)理解，可將前壁38設(shè)置成與基座36成不同的角度。此外，基座36被顯示基本上平行于剃刀刀片架的頂部表面58。然而，應(yīng)當(dāng)理解，所述基座可被設(shè)定成與剃刀刀片架的頂部表面52成某一角度。為了將剃刮助劑35固定在保持構(gòu)件34上，保持構(gòu)件34可具有如圖4所示的側(cè)壁61、63和圖5(a)和(b)所示的后壁66。為了確保使用期間有可能將剃刮助劑沉積在皮膚上，側(cè)壁61、63的高度小于前壁38的高度。圖6(c)顯示側(cè)壁，所述側(cè)壁具有從保持構(gòu)件的前端70至保持構(gòu)件34的后端72逐漸降低的高度。側(cè)壁可具有直的頂部邊緣，是彎曲的，或者高度上以臺(tái)階方式降低。作為另外一種選擇，側(cè)壁可沿著保持構(gòu)件的兩側(cè)僅部分地延伸，如圖4所示。后壁66被顯示在圖5(b)中具有前壁38的高度大約一半，以使剃刮助劑與剃刮表面之間甚至在剃刮助劑開始消退之后仍然接觸。作為另外一種選擇和/或此外(如圖6(a) ,6(b)和6 (C)所示)，保持構(gòu)件的基座可設(shè)有凹陷(80)、脊(82)、突出部(84)或凹槽(86)以保持剃刮助劑的定位，所述剃刮助劑隨后被設(shè)置在保持構(gòu)件中。例如，圖5(a)和5(b)顯示各實(shí)施方案，其中基座36具有部分或全部貫穿基座36的一個(gè)或更多個(gè)凹陷80。剃刮助劑可被按壓制或嵌入到凹陷80中，使得所述凹陷80提供錨點(diǎn)。當(dāng)剃刮助劑變濕或被加熱時(shí)這是尤其有用的，因?yàn)樘旯沃鷦┛勺兊霉饣蛉彳洝Ｗ鳛榱硗庖环N選擇，為了錨固剃刮助劑，保持構(gòu)件的基座可設(shè)有突出部或凹槽，可將剃刮助劑嵌入或壓制到所述突出部或凹槽上。例如，圖6(a)、6(b)和6 (c)顯示各實(shí)施方案，其中保持構(gòu)件34的基座36設(shè)有刺突84或脊82，可將剃刮助劑壓制或嵌入到所述刺突84或脊82上。保持構(gòu)件可由具有約50、60或70至約90、110或120的肖氏硬度A的半剛性聚合材料制成。在一些實(shí)施方案中，保持構(gòu)件可由與外殼相同的材料模塑，例如NorylTM(聚苯醚(PPO)和聚苯乙烯的共混物)。作為另外一種選擇，保持構(gòu)件可由熱塑性彈性體(TPEs)或橡膠形成，其實(shí)例包括但不限于硅酮、天然橡膠、丁基橡膠、腈橡膠、丁苯橡膠、丁苯聚乙烯(SBS)TPE、苯乙烯丁二烯(SEBS)TPE。保持構(gòu)件由充分耐磨的材料制成，使得甚至在多次使用后，保持構(gòu)件的前壁仍保持其相對(duì)于剃刮平面的初始幾何形狀。保持構(gòu)件的至少前壁由在正常剃刮條件下不可侵蝕的材料形成。不可侵蝕的材料包括在正常剃刮條件下不會(huì)侵蝕或變形的那些材料，例如被放置在溫水槽(在50°C)中I分鐘，隨后在一個(gè)5 " X 2 "的全粒面皮革條上摩擦20次，用2PSI的壓力施加到樣本材料上，包括不可溶解的材料，其中在不攪動(dòng)條件下按重量計(jì)小于5%的樣本溶解在IOOmL的25°C水槽中。水不溶性材料被詳述于美國(guó)專利公開6，449，839中。在如圖2和3所示的各實(shí)施方案中，前壁的邊緣40具有倒圓的輪廓以避免給使用·剃刀刀片架的人帶來不適，特別是當(dāng)剃刮助劑的頂部表面消退到前壁的邊緣水平下方時(shí)。如圖I所示，本發(fā)明的濕剃剃刀刀片架可被安裝在柄部14上，意圖是當(dāng)?shù)镀?6的鋒利刀刃28已經(jīng)變鈍時(shí)，整個(gè)剃刀應(yīng)當(dāng)被丟棄。作為另外一種選擇，本發(fā)明的濕剃刀片架可分離地安裝到柄部14上，以便當(dāng)?shù)镀度?8失去了高效剃刮所需的鋒利度時(shí)可在柄部14上置換刀片架。在典型的剃刀架中，刀片26通常由外殼12承載，所述外殼一般為模制塑料框架，并且刀片26可被支撐以在剃刮期間，在由皮膚施加到刀片26上的力的作用下，獨(dú)立于彼此或彼此一致地在所述框架內(nèi)移動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，為了在外殼內(nèi)被支撐，刀片26被固定地安裝在刀片保持構(gòu)件中的狹槽內(nèi)。在另一種情況下，刀片可被浮動(dòng)安裝在外殼內(nèi)。在這里，所述多個(gè)刀片由一個(gè)或更多個(gè)彈簧支承的刀片保持構(gòu)件來支撐，其中允許此類刀片對(duì)在剃刮期間所受到的力作出響應(yīng)。在本發(fā)明的每個(gè)實(shí)施方案中，用任何給定濕剃剃刀刀片架所獲得的舒適程度受到剃刮幾何形狀的顯著影響，所述幾何形狀為皮膚接觸組件的相對(duì)定位情況。剃刮幾何形狀的重要參數(shù)包括刀片暴露量，其為切刃的尖端突出于某個(gè)平面以上或回縮在其以下的距離，所述平面相切于隨后的在切刃前面及隨后的在切刃后面的皮膚接觸部分；刀片正切角(也稱為刀片剃刮角)，其為刀片平面偏斜于與防護(hù)件和頂蓋表面相切的平面(切面)的角度；和刀片跨度，其為切刃與緊鄰在切刃前面的皮膚接觸元件所間隔開的距離，如在相切于切刃和其前面的皮膚接觸元件的平面中所觀察到的那樣。本發(fā)明中可使用漸進(jìn)刀片暴露量，如美國(guó)專利公開6，212，777中所詳述。本文所公開的量綱和數(shù)值不應(yīng)被理解為嚴(yán)格限于所引用的精確值。相反，除非另外指明，每個(gè)上述量綱旨在表示所述值以及該值附近的功能等效范圍。例如，所公開的量綱“40_”旨在表示“約40_”。
權(quán)利要求
1.一種濕剃刀片架(12)，所述濕剃刀片架包括 a)外殼(16),所述外殼具有位于所述外殼前端處的防護(hù)件(18)和位于所述外殼后端處的頂蓋(20)， b)兩個(gè)或更多個(gè)細(xì)長(zhǎng)刀片(26)，所述細(xì)長(zhǎng)刀片位于所述防護(hù)件(18)和頂蓋(20)之間，并且在基本上平行于所述防護(hù)件的一段的方向上延伸，其中相應(yīng)刀片的刀刃(28)位于在所述防護(hù)件(18)和所述頂蓋(20)之間延伸的剃刮平面(A)中； c)位于所述頂蓋(20)中的剃刮助劑保持構(gòu)件(34)，所述保持構(gòu)件(34)具有布置成接納剃刮助劑(35)的基座(36)和位于所述保持構(gòu)件(34)鄰近所述刀片的一側(cè)處的前壁(38)，所述前壁(38)從所述保持構(gòu)件(34)的基座(36)朝向所述剃刮平面(A)延伸。
2.如權(quán)利要求I所述的刀片架，其中所述前壁(38)延伸到所述剃刮平面(A)中。
3.如權(quán)利要求I或權(quán)利要求2所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)的至少前壁(38)由不可侵蝕的材料形成。
4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)的至少前壁(38)由半剛性聚合材料形成。
5.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述前壁(38)的邊緣(40)具有倒圓的輪廓。
6.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)的基座(36)具有設(shè)置在所述基座中的一個(gè)或更多個(gè)凹陷或凹槽。
7.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)的基座(36)具有設(shè)置在所述基座上的一個(gè)或更多個(gè)突出部或脊。
8.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)還具有設(shè)置在所述前壁(38)的任一端處并且從所述保持構(gòu)件(34)的基座(36)延伸的側(cè)壁(61、63)。
9.如權(quán)利要求8所述的刀片架，其中所述側(cè)壁(61、63)低于所述前壁。
10.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述保持構(gòu)件(34)還具有位于所述保持構(gòu)件(34)距所述刀片(26)最遠(yuǎn)的一端處的后壁(66)。
11.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，所述刀片架還包括位于所述保持構(gòu)件的基座上的剃刮助劑(35)。
12.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述剃刮助劑(35)為疏水性油或脂質(zhì)型材料。
13.如權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的刀片架，其中所述剃刮助劑(35)為親水的水溶性材料。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種具有外殼的濕剃刀片架，所述外殼具有位于所述外殼前端處的防護(hù)件和位于所述外殼后端處的頂蓋。所述刀片架還具有位于防護(hù)件和頂蓋之間并且在基本上平行于防護(hù)件的一段的方向上延伸的兩個(gè)或更多個(gè)細(xì)長(zhǎng)刀片，其中相應(yīng)刀片的刀刃位于在防護(hù)件和頂蓋之間延伸的剃刮平面中。剃刮助劑保持構(gòu)件位于頂蓋中。保持構(gòu)件具有布置成接納剃刮助劑的基座和位于保持構(gòu)件鄰近所述刀片的一側(cè)處的前壁。前壁從保持構(gòu)件的基座朝向剃刮平面延伸。
文檔編號(hào)B26B21/44GK102791446SQ201180013847
公開日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2011年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月15日
發(fā)明者M·J·奎欽, M·格斯特, S·P·克拉克 申請(qǐng)人:吉列公司