吸附平臺(tái)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的吸附平臺(tái)，其目的在于不使極薄的板片狀工件的表面產(chǎn)生凹凸的情況下，整面齊平地加以抽吸。吸附平臺(tái)（1），以設(shè)定于保持面（1A）的吸附部抽吸并吸附極薄的板片狀工件。本發(fā)明的吸附平臺(tái)具有吸附溝（10）、多個(gè)下孔（20）以及多個(gè)連通溝（30）。吸附溝（10）形成于保持面（1A）的吸附部，以多個(gè)縱向溝（11）及多個(gè)橫向溝（12）而形成為格子狀。多個(gè)下孔（20）形成于與保持面（1A）相反側(cè)的面（1B）中對(duì)應(yīng)于吸附部的區(qū)域的適當(dāng)處，且形成在吸附溝（10）的正下方。多個(gè)連通溝（30）以與吸附溝（10）大致相同的溝寬，沿著吸附溝（10）形成，連接于多個(gè)下孔（20）的各自的上端，使下孔與吸附溝連通。
【專利說明】吸附平臺(tái)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于吸附工件的吸附平臺(tái)，特別涉及適于吸附厚度為100 μ m等級(jí)的薄板玻璃或薄膜等極薄的板片狀工件的吸附平臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)，已知有用吸附平臺(tái)吸附作為處理對(duì)象的工件，以實(shí)施規(guī)定處理的工件處理裝置(例如，參考專利文獻(xiàn)I。)。作為工件的具體例，可列舉:半導(dǎo)體基板、液晶顯示裝置用的玻璃基板、光掩膜用的玻璃基板、光盤用基板等片狀且矩形的工件。
[0003]圖6為表示現(xiàn)有技術(shù)的吸附平臺(tái)的俯視圖。如圖6所示，吸附平臺(tái)101的上表面為工件(未圖示)的保持面101A，在該保持面IOlA的中央部，設(shè)定有用以吸附工件的矩形的吸附部。吸附部具有吸附溝110。吸附溝110通過多個(gè)縱向溝111及多個(gè)橫向溝112而形成為格子狀。這種吸附溝110可通過使用鉆石切割機(jī)的切削加工等輕易地形成。
[0004]圖7為圖6的被點(diǎn)劃線圍住的VII部份的放大圖。如圖7所示，從與吸附平臺(tái)101的保持面IOlA相反的一側(cè)的面(下表面)101B，到對(duì)應(yīng)于吸附部的區(qū)域的適當(dāng)部位處，通過鉆孔加工而在吸附溝110的正下方形成多個(gè)圓形的下孔120。
[0005]圖8為從圖6的箭頭方向觀察的VII1-VIII線剖面圖。各個(gè)下孔120以不貫穿吸附平臺(tái)101的深度(請(qǐng)參考圖8中符號(hào)Dl)，自吸附平臺(tái)101的下表面形成。在下孔120的下部，氣密地安裝有襯套102，用以連接真空泵(未圖示)。
[0006]另外，在吸附部中的加工有多個(gè)下孔120的各個(gè)位置，通過鉆孔加工形成有從吸附平臺(tái)101的上表面貫通至下孔120的連通孔130。通過連通孔130，各個(gè)下孔120與吸附溝110實(shí)現(xiàn)連通。
[0007]連通孔130通過從預(yù)先形成于保持面IOlA的吸附溝110上實(shí)施鉆孔加工而形成。因此，連通孔130的孔徑的極限，為Immcp或0.8 _ φ的程度。吸附溝110的溝寬通常為比上述值更小的尺寸。尤其在專門用于吸附厚度為100 μ m等級(jí)的薄片玻璃或薄膜等極薄的板片狀工件的吸附平臺(tái)，基于在吸附部確保與工件的接觸面積的觀點(diǎn)，吸附溝110的溝寬為0.2 mm左右的也不少見，連通孔130的孔徑就會(huì)高達(dá)吸附溝110的溝寬的4?5倍的程度。也就是說，在連通孔130位置處，吸附溝110的溝寬會(huì)局部地變大。
[0008]當(dāng)對(duì)這樣的吸附平臺(tái)101的吸附部上吸附上述極薄的板片狀工件時(shí)，工件的表面被吸附成，在連通孔130之處產(chǎn)生點(diǎn)狀凹陷的變形。
[0009]吸附平臺(tái)設(shè)置于對(duì)吸附平臺(tái)的保持面所保持的工件的表面實(shí)施規(guī)定處理的設(shè)備上。作為此種處理裝置的一例，有涂布裝置。涂布裝置具有狹縫噴嘴，該狹縫噴嘴與吸附平臺(tái)的保持面平行地行進(jìn)，由此狹縫噴嘴對(duì)工件表面噴吐涂布液，從而以特定的膜厚進(jìn)行涂布。
[0010][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0011][專利文獻(xiàn)I]日本特開2005-85881號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]發(fā)明所要解決的問題
[0013]薄膜化已進(jìn)展到涂布裝置所能夠涂布的涂膜的膜厚在濕膜狀態(tài)下為I~1.5μπι的程度。因此，若在工件的表面，就算深度只有數(shù)μπι，只要點(diǎn)狀地形成了幾個(gè)凹陷，涂布液就會(huì)留存在該凹陷處，使得該部位在涂膜干燥后變厚，從而產(chǎn)生膜厚不均勻的問題。
[0014]本發(fā)明鑒于上述課題所開發(fā)，其目的在于，提供一種吸附平臺(tái)，其可以在不使極薄的板片狀工件表面產(chǎn)生凹凸的情況下，整面齊平地加以抽吸并吸附。
[0015]解決問題的技術(shù)手段
[0016]吸附平臺(tái)通過設(shè)定于保持面的吸附部來抽吸并吸附極薄的板片狀工件。本發(fā)明提供此種吸附平臺(tái)，其具有吸附溝、多個(gè)下孔以及多個(gè)連通溝。吸附溝形成于保持面的吸附部，以多個(gè)縱向溝及多個(gè)橫向溝而形成為格子狀。多個(gè)下孔形成于與保持面相反側(cè)的面中對(duì)應(yīng)于吸附部的區(qū)域處，且形成在吸附溝的正下方，此處所謂「對(duì)應(yīng)的區(qū)域處」的意義，不僅包括空間上正確對(duì)應(yīng)的區(qū)城處，還包括對(duì)應(yīng)的區(qū)城的適當(dāng)處。多個(gè)連通溝以與吸附溝實(shí)質(zhì)相同的溝寬，沿著吸附溝形成，連接于多個(gè)下孔的各自上端，使下孔與吸附溝連通，此處所謂「實(shí)質(zhì)相同的溝寬」的意義，不僅包括空間上正確相同的溝寬，還包括大致相同的溝寬。
[0017]根據(jù)此結(jié)構(gòu)，則不會(huì)在設(shè)定于吸附平臺(tái)的保持面內(nèi)的吸附部產(chǎn)生比吸附溝的溝寬還要大的開口。
[0018]發(fā)明效果
[0019]根據(jù)本發(fā)明，可以在不使極薄的板片狀工件的表面產(chǎn)生凹凸的情況下，整面齊平地對(duì)其加以吸附。通過在涂布裝置采用本發(fā)明的吸附平臺(tái)，可以在極薄的板片狀工件的表面，以均勻膜厚涂布涂布液。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為顯示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的吸附平臺(tái)的俯視圖。
[0021]圖2為圖1中以點(diǎn)劃線所圍出的II部份的放大圖。
[0022]圖3為圖1中，從箭頭方向觀察的III一 III線剖面圖。
[0023]圖4為圖1中，以點(diǎn)劃線所圍出的IV部份的放大圖。
[0024]圖5為圖1中，從箭頭方向觀察的V— V線剖面圖。
[0025]圖6為表示現(xiàn)有技術(shù)的吸附平臺(tái)的俯視圖。
[0026]圖7為圖6中，以點(diǎn)劃線所圍出的VII部份的放大圖。
[0027]圖8為圖6中，從箭頭方向觀察的VIII — VIII線剖面圖。
[0028]附圖標(biāo)記:
[0029]I…吸附平臺(tái)
[0030]IA…保持面
[0031]2…襯套
[0032]10…吸附溝
[0033]11…縱向溝
[0034]12…橫向溝
[0035]20…下孔[0036]30...連通溝
[0037]101…吸附平臺(tái)
[0038]IOlA…保持面
[0039]102…襯套
[0040]110…吸附溝
[0041]IIOA…保持面
[0042]111…縱向溝
[0043]112…橫向溝
[0044]120…下孔
[0045]130…連通孔
【具體實(shí)施方式】
[0046]以下，參考【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)。
[0047]圖1為表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的吸附平臺(tái)的俯視圖。如圖1所示，吸附平臺(tái)I的上表面為工件(不圖示)的保持面1A，在該保持面IA的中央部設(shè)定有用以吸附工件的矩形的吸附部。
[0048]吸附部具有吸附溝10。圖2為圖1中以點(diǎn)劃線所圍出的II部份的放大圖。圖3為圖1中，從箭頭方向觀察的III一 III線剖面圖。如圖2、圖3所示，吸附溝10通過多個(gè)縱向溝11及多個(gè)橫向溝12而形成為格子狀。另外，吸附部也可系分割為多個(gè)區(qū)塊，以區(qū)塊為單位來形成縱向溝11與橫向溝12，而使吸附部整體呈現(xiàn)與圖1相同的格子圖案。這樣的吸附溝10可通過使用鉆石切割機(jī)的切削加工輕易地形成。
[0049]圖4為圖1中以點(diǎn)劃線所圍出的IV部份的放大圖。如圖4所示，從吸附平臺(tái)I的與保持面IA相反側(cè)的面(下表面)1B，到對(duì)應(yīng)于吸附部的區(qū)域的適當(dāng)處(于本實(shí)施形態(tài)為12處)，以鉆孔加工而在吸附溝10 (于本實(shí)施形態(tài)系橫向溝12)的正下方形成有多個(gè)圓形的下孔20。
[0050]圖5為圖1中，從箭頭方向觀察的V—V線剖面圖。各下孔20以不貫穿吸附平臺(tái)I的范圍的深度(請(qǐng)參考圖5中的符號(hào)Dl)，自吸附平臺(tái)I的下表面形成。下孔20的下部，氣密地安裝有襯套2用以連接真空泵(未圖示)。
[0051]另外，在吸附部中的加工有多個(gè)下孔20的各個(gè)位置，形成有從吸附平臺(tái)I的上表面貫通至下孔20的連通溝30。通過連通溝30，下孔20與吸附溝10得以連通。
[0052]如圖4、圖5所示，連通溝30以與橫向溝12大致相同的溝寬，而沿著橫向溝12形成。連通溝30連接橫向溝12及下孔20的上端。通過連通溝30使各下孔20與吸附溝10連通。此外，連通溝30的溝寬，由于有時(shí)會(huì)因加工精度等而比橫向溝12的溝寬稍大，因此并不嚴(yán)格要求必須相同。
[0053]上述的連通溝30在使用鉆石切割機(jī)形成吸附溝10 (在本實(shí)施形態(tài)為橫向溝12)的工序，可以通過調(diào)整鉆石切割機(jī)的切削深度來形成。即，由于在吸附溝10的形成工序，可以同時(shí)制作連 通溝30，因此不需要如現(xiàn)有技術(shù)的連通孔130 (請(qǐng)參考圖7)那樣的另行進(jìn)行鉆孔加工的工序，從而提升吸附平臺(tái)的制造效率。
[0054]在本實(shí)施形態(tài)，雖然下孔20形成在橫向溝12的正下方且縱向溝11與橫向溝12的交點(diǎn)以外的部份，但下孔20也可形成于縱向溝11的正下方，也可形成在縱向溝11與橫向溝12的交點(diǎn)的正下方。而在縱向溝11與橫向溝12的交點(diǎn)的正下方形成下孔20時(shí)，也可在縱向溝11與橫向溝12的雙方形成連通溝30，使其在該交點(diǎn)呈十字交叉。
[0055]根據(jù)本發(fā)明，不會(huì)在設(shè)定于吸附平臺(tái)10的保持面IA內(nèi)的吸附部產(chǎn)生比吸附溝10的溝寬還要大的開口。由此，可以在不使極薄的板片狀工件的表面產(chǎn)生凹凸的情況下，整面齊平地加以吸附。通過在涂布裝置采用本發(fā)明的吸附平臺(tái)，可以在極薄的板片狀工件的表面，以均勻的膜厚涂布涂布液。
[0056]上述實(shí)施形態(tài)的說明，在各方面均僅屬于例示，并不應(yīng)視其為限定性的表述。本發(fā)明的范圍，并不以上述實(shí)施形態(tài)呈現(xiàn)，而以權(quán)利要求范圍呈現(xiàn)。并且，本發(fā)明的范圍，包含與權(quán)利要求范圍等同的意味及范圍內(nèi)的所有變更。
【權(quán)利要求】
1.一種吸附平臺(tái)，以設(shè)定于保持面的吸附部抽吸并吸附極薄的板片狀工件，其包含: 吸附溝，形成于所述保持面上的所述吸附部，通過多個(gè)縱向溝及多個(gè)橫向溝形成為格子狀； 多個(gè)下孔，形成于與該保持面相反的一側(cè)的面中對(duì)應(yīng)于該吸附部的區(qū)域處，且形成在所述吸附溝的正下方；以及 多個(gè)連通溝，以與所述吸附溝實(shí)質(zhì)相同的溝寬，沿著該吸附溝形成，連接于所述多個(gè)下孔的各自的上端，使該下孔與所述吸附溝連通。
2.如權(quán)利要求1所述的吸附平臺(tái)，其中，所述連通溝僅沿著所述縱向溝或所述橫向溝形成。
3.如權(quán)利要求2所述的吸附平臺(tái)，其中，所述連通溝形成于所述縱向溝與所述橫向溝的交點(diǎn)以外的部份。
【文檔編號(hào)】B25H1/00GK103567914SQ201310342008
【公開日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年8月7日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月9日
【發(fā)明者】田邊雅明 申請(qǐng)人:龍?jiān)浦晔綍?huì)社