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      一種陶瓷吸盤的制作方法

      文檔序號(hào):40232467發(fā)布日期:2024-12-06 16:53閱讀:13來(lái)源:國(guó)知局
      一種陶瓷吸盤的制作方法

      本技術(shù)涉及吸盤,具體是一種陶瓷吸盤。


      背景技術(shù):

      1、硅片在生產(chǎn)過(guò)程中,需要使用到吸盤實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片的吸附固定,常見(jiàn)的吸盤材質(zhì)為陶瓷,有助于增加使用壽命,現(xiàn)有的陶瓷吸盤在對(duì)硅片進(jìn)行吸附時(shí),由于其吸附面與硅片貼合面積過(guò)大而容易導(dǎo)致在對(duì)硅片進(jìn)行下料時(shí),硅片不易脫離吸盤或吸盤吸力過(guò)大會(huì)讓硅片的表面會(huì)造成一定破損,影響硅片的生產(chǎn)質(zhì)量。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種陶瓷吸盤,以解決背景技術(shù)中的技術(shù)問(wèn)題。

      2、為實(shí)現(xiàn)前述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:

      3、一種陶瓷吸盤,包括吸盤主體,所述吸盤主體的左側(cè)為吸附部,所述吸附部上設(shè)有內(nèi)凹的第一容納槽,所述第一容納槽對(duì)應(yīng)的吸附部?jī)?nèi)側(cè)設(shè)有用于抽真空的第一通槽,所述第一容納槽內(nèi)設(shè)有凸起的若干組支撐臺(tái),若干組所述支撐臺(tái)橫向間隔排布在第一容納槽內(nèi),所述支撐臺(tái)的頂端面不低于吸盤主體的頂端面,所述第一容納槽底部設(shè)有數(shù)個(gè)吸附孔,所述吸附孔與第一通槽相通,所述吸盤主體的右側(cè)設(shè)有抽氣孔,所述吸盤主體的右側(cè)內(nèi)沿著橫向設(shè)有第二通槽與抽氣孔相通,所述第二通槽的另一端與第一通槽相通。

      4、所述支撐臺(tái)包括第一支撐塊和第二支撐塊,所述第一支撐塊和第二支撐塊上下間隔對(duì)稱在第一容納槽內(nèi),所述第一支撐塊和第二支撐塊結(jié)構(gòu)相同。

      5、所述吸盤主體的左側(cè)向外延伸凸起有梳齒部,所述梳齒部包括若干根凸條,所述凸條的表面設(shè)有內(nèi)凹的第二容納槽,所述第二容納槽與第一容納槽相通,所述凸條內(nèi)設(shè)有第三通槽,所述第三通槽與第一通槽相通。

      6、所述吸附孔設(shè)在支撐臺(tái)的左側(cè)和/或右側(cè),若干所述吸附孔在同一水平線上。

      7、所述吸盤主體的右側(cè)上下兩端設(shè)有定位槽。

      8、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)的一種陶瓷吸盤,在吸盤的吸附部設(shè)有若干槽位,減少吸盤主體與硅片的接觸面積,減少發(fā)生硅片的一部分與吸盤主體吸附,硅片的另一部分分離的情況,保證硅片分離的效率,防止硅片無(wú)法及時(shí)脫離吸盤主體等異常,確保硅片的生產(chǎn)質(zhì)量,同時(shí),本申請(qǐng)的吸盤結(jié)構(gòu)降低對(duì)吸附面的平面度要求,降低了加工難度,使加工方便,且由于其挖空多個(gè)槽位,讓吸盤的整體重量降低,方便對(duì)其安裝。



      技術(shù)特征:

      1.一種陶瓷吸盤,其特征在于:包括吸盤主體,所述吸盤主體的左側(cè)為吸附部,所述吸附部上設(shè)有內(nèi)凹的第一容納槽,所述第一容納槽對(duì)應(yīng)的吸附部?jī)?nèi)側(cè)設(shè)有用于抽真空的第一通槽,所述第一容納槽內(nèi)設(shè)有凸起的若干組支撐臺(tái),若干組所述支撐臺(tái)橫向間隔排布在第一容納槽內(nèi),所述支撐臺(tái)的頂端面不低于吸盤主體的頂端面,所述第一容納槽底部設(shè)有數(shù)個(gè)吸附孔,所述吸附孔與第一通槽相通,所述吸盤主體的右側(cè)設(shè)有抽氣孔,所述吸盤主體的右側(cè)內(nèi)沿著橫向設(shè)有第二通槽與抽氣孔相通,所述第二通槽的另一端與第一通槽相通。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷吸盤,其特征在于:所述支撐臺(tái)包括第一支撐塊和第二支撐塊,所述第一支撐塊和第二支撐塊上下間隔對(duì)稱在第一容納槽內(nèi),所述第一支撐塊和第二支撐塊結(jié)構(gòu)相同。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶瓷吸盤,其特征在于:所述吸盤主體的左側(cè)向外延伸凸起有梳齒部,所述梳齒部包括若干根凸條,所述凸條的表面設(shè)有內(nèi)凹的第二容納槽,所述第二容納槽與第一容納槽相通,所述凸條內(nèi)設(shè)有第三通槽,所述第三通槽與第一通槽相通。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種陶瓷吸盤,其特征在于:所述吸附孔設(shè)在支撐臺(tái)的左側(cè)和/或右側(cè),若干所述吸附孔在同一水平線上。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陶瓷吸盤,其特征在于:所述吸盤主體的右側(cè)上下兩端設(shè)有定位槽。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)提供的一種陶瓷吸盤,包括吸盤主體,吸盤主體的左側(cè)為吸附部,吸附部上設(shè)有內(nèi)凹的第一容納槽,第一容納槽對(duì)應(yīng)的吸附部?jī)?nèi)側(cè)設(shè)有用于抽真空的第一通槽,第一容納槽內(nèi)設(shè)有凸起的若干組支撐臺(tái),若干組支撐臺(tái)橫向間隔排布在第一容納槽內(nèi),支撐臺(tái)的頂端面不低于吸盤主體的頂端面,第一容納槽底部設(shè)有數(shù)個(gè)吸附孔,吸附孔與第一通槽相通,吸盤主體的右側(cè)設(shè)有抽氣孔,吸盤主體的右側(cè)內(nèi)沿著橫向設(shè)有第二通槽與抽氣孔相通,第二通槽的另一端與第一通槽相通。本申請(qǐng)的一種陶瓷吸盤,減少吸盤主體與硅片的接觸面積,防止硅片無(wú)法及時(shí)脫離吸盤主體等異常,確保硅片的生產(chǎn)質(zhì)量。

      技術(shù)研發(fā)人員:郭曉慶
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:東莞市頂捷陶瓷科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20240416
      技術(shù)公布日:2024/12/5
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