專利名稱：表面光學(xué)層的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種顯示裝置，且特別是有關(guān)于一種表面光學(xué)層的制造方法。
背景技術(shù)：
在穿透型顯示器中，由于其內(nèi)部光源會(huì)向外射出，因此若不使內(nèi)部光源擴(kuò)散，而令其繼續(xù)直線行進(jìn)，則使用者在目視顯示器時(shí)，會(huì)感到由內(nèi)部光源造成的刺眼現(xiàn)象，因而顯示器的表面多會(huì)涂布有一層抗眩膜，以將自顯示器內(nèi)部光源射出的光線擴(kuò)散。另一方面，在外部光線照射至顯示器表面時(shí)，若不使外部光線擴(kuò)散，而令其反射，則會(huì)在使用者目視顯示器時(shí)受鏡面反射光干擾，讓使用者感到刺眼，因此抗眩膜除了要足以使顯示器內(nèi)部光源射出的光線擴(kuò)散外，還必須要具備使顯示器外部入射的光線的正反射影響降低的效果。
目前已有許多探討抗眩膜的技術(shù)與專利文獻(xiàn)，如美國(guó)專利第5998013號(hào)所揭露的擴(kuò)散外部光線的抗眩膜，此抗眩膜具有散布于樹脂的透光微粒，并借由透光微粒于抗眩膜表面聚集形成的凹凸形狀使光線擴(kuò)散。而且，現(xiàn)有技術(shù)皆是采用改變抗眩膜表面的凹凸形狀的方式，例如增大透光微粒的粒徑或是調(diào)整透光微粒的摻雜密度，來(lái)改變抗眩膜對(duì)外部光線的擴(kuò)散率或是其本身的霧度、清晰度與光澤度等光學(xué)性質(zhì)。
但是，一旦改變抗眩膜中透光微粒的粒徑或摻雜密度，則涂布此抗眩膜的制程參數(shù)，例如涂布速度、烘烤溫度與時(shí)間等，也必須跟著變動(dòng)。然而，在實(shí)際上，客戶往往會(huì)在抗眩膜配方以及涂布制程參數(shù)決定后，要求制造商調(diào)整抗眩膜的規(guī)格，此時(shí)，以傳統(tǒng)作法而言，則必須先更動(dòng)抗眩膜的配方，然后再多次嘗試并調(diào)整其涂布制程的參數(shù)后，才能得到符合客戶要求規(guī)格的抗眩膜。此傳統(tǒng)作法不但浪費(fèi)成本，而且耗費(fèi)人力并拖長(zhǎng)產(chǎn)品量產(chǎn)的準(zhǔn)備時(shí)間，因此為一種不經(jīng)濟(jì)的抗眩膜制造方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種抗眩膜，應(yīng)用于顯示器中以擴(kuò)散光線，使觀察者在目視顯示器時(shí)不致于感到刺眼，從而增加顯示器的可視性。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種抗眩膜的制造方法，僅改變抗眩膜的曝光制程步驟，并保持其原始配方以及涂布制程參數(shù)，以提高抗眩膜的光學(xué)性質(zhì)可隨客戶需求而調(diào)整的機(jī)動(dòng)性。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種表面光學(xué)層的制造方法，以極簡(jiǎn)易的方式取代現(xiàn)有技術(shù)的復(fù)雜制程，以節(jié)省制造成本與研發(fā)人力，并且縮短產(chǎn)品量產(chǎn)的準(zhǔn)備時(shí)間。
根據(jù)上述目的，本發(fā)明提供一種表面光學(xué)層的制造方法，首先將具有數(shù)個(gè)透光微粒的透光樹脂材料涂布于一光學(xué)薄板，然后先以一第一功率值的紫外光曝光該透光樹脂材料，再以一第二功率值的紫外光硬化該透光樹脂材料，其中該第二功率值大該第一功率值。這樣，即可在不變更表面光學(xué)層的原始配方以及涂布制程參數(shù)的情況下，調(diào)整曝光硬化的紫外光強(qiáng)度來(lái)得到不同光學(xué)性質(zhì)的表面光學(xué)層。
依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例，此表面光學(xué)層為一抗眩膜、抗反射膜或是其它需利用紫外光硬化的光學(xué)薄膜。在涂布該透光樹脂材料后，還包括烘烤該光學(xué)薄板的步驟，以去除透光樹脂材料中的溶劑，例如甲苯或異丙醇等揮發(fā)性材料。透光樹脂材料的材質(zhì)包含一光固化樹脂，而透光微粒的材質(zhì)則包含二氧化硅。光學(xué)薄板為一偏光板，此光學(xué)薄板以一三醋酸纖維素層與該抗眩膜相接觸。在此較佳實(shí)施例中，紫外光的波長(zhǎng)小于400納米，且紫外光的第二功率值與第一功率值的比值范圍介于500至3000之間，而其較佳范圍則介于500至1000之間。
本發(fā)明以至少兩種不同功率的紫外光來(lái)曝光硬化表面光學(xué)層，以取代現(xiàn)有用以調(diào)整表面光學(xué)層光學(xué)性質(zhì)的復(fù)雜制程。因此，制造商在保持原始配方以及涂布制程參數(shù)的前提下，僅改變表面光學(xué)層的紫外光曝光強(qiáng)度就可改變其光學(xué)性質(zhì)，如此可輕易地提高表面光學(xué)層在制造時(shí)隨客戶需求而機(jī)動(dòng)調(diào)整的能力與便利性。另外，本發(fā)明由于方法簡(jiǎn)單且易于實(shí)施，因此可大幅地節(jié)省制造成本與研發(fā)人力，并且縮短產(chǎn)品量產(chǎn)的準(zhǔn)備時(shí)間。
為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。
附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式

詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見。
附圖中，

圖1為依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的流程圖以及圖2為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及功效，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，相信本發(fā)明的目的、特征與特點(diǎn)，應(yīng)當(dāng)可由此得到深入且具體的了解，然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。
本發(fā)明將具有數(shù)個(gè)透光微粒的透光樹脂材料涂布于一光學(xué)薄板，然后以至少兩種不同功率值的紫外光曝光并硬化該透光樹脂材料。當(dāng)先以較弱功率值的紫外光曝光時(shí)，此時(shí)透光樹脂材料尚未完全硬化，此步驟為改變表面光學(xué)層光學(xué)性質(zhì)的關(guān)鍵步驟，弱功率值的紫外光的曝光時(shí)間越長(zhǎng)，表面光學(xué)層的霧度越高，但卻仍可保持良好的透光度。
請(qǐng)參照?qǐng)D1，其繪示依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的一種流程圖，此較佳實(shí)施例以一抗眩膜為例。如圖1所示，本發(fā)明的制造方法先提供一透光樹脂材料，該透光樹脂材料中具有數(shù)個(gè)透光微粒(步驟102)。接著，涂布此透光樹脂材料于一光學(xué)薄板表面(步驟104)。然后，先以第一功率值的紫外光曝光透光樹脂材料(步驟106)，而后再以第二功率值的紫外光硬化透光樹脂材料(步驟108)，其中此第二功率值大于第一功率值。另外，在此較佳實(shí)施例中，在涂布透光樹脂材料于光學(xué)薄板之后，可加上烘烤該光學(xué)薄板的步驟(步驟105)，以去除透光樹脂材料中所含的溶劑，例如甲苯或異丙醇等揮發(fā)性材料。
如上所述，本發(fā)明僅調(diào)整曝光硬化的紫外光強(qiáng)度，就可改變抗眩膜的光學(xué)性質(zhì)，而不用變更抗眩膜的原始配方以及涂布制程參數(shù)。依照本發(fā)明的實(shí)施例的實(shí)驗(yàn)結(jié)果，紫外光的第二功率值與第一功率值的比值范圍介于500至3000之間，而其較佳范圍則介于500至1000之間。
在此較佳實(shí)施例中，透光樹脂材料的材質(zhì)包含一光固化樹脂，例如紫外光硬化型樹脂，而透光微粒的材質(zhì)則包含二氧化硅，以及紫外光的波長(zhǎng)小于400納米。另外，第一功率值設(shè)定約為120毫瓦，而第二功率值則設(shè)定約為80瓦，后者大約為前者的667倍。表一為現(xiàn)有技術(shù)的傳統(tǒng)曝光制程與本發(fā)明的兩階段曝光制程的光學(xué)性質(zhì)的比較表，其依序列舉出施以傳統(tǒng)曝光制程，以及分別加上120毫瓦紫外光曝光制程15秒、30秒與60秒的抗眩膜的清晰度、霧度與透光度等光學(xué)性質(zhì)的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，以說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式與效果。
表一現(xiàn)有技術(shù)的傳統(tǒng)曝光制程與本發(fā)明的兩階段曝光制程的光學(xué)性質(zhì)的比較。

由表一可知，利用本發(fā)明的制造方法所制成的抗眩膜，其清晰度以及霧度等光學(xué)性質(zhì)的確會(huì)被弱功率紫外光曝光步驟所影響而造成改變。當(dāng)弱功率紫外光的曝光時(shí)間越長(zhǎng)，則此抗眩膜的霧度越高，而其清晰度則越差。然而，值得注意的是，本發(fā)明的制造方法并不會(huì)影響抗眩膜的透光度，如表一所示。也就是說(shuō)，本發(fā)明不但可以用以調(diào)整顯示器的抗眩膜的霧度，而且并不會(huì)降低顯示器最重要的亮度與對(duì)比表現(xiàn)，為一實(shí)用且無(wú)負(fù)面效果的發(fā)明。
本發(fā)明在現(xiàn)有技術(shù)的強(qiáng)功率紫外光曝光制程中加入一道較弱功率的紫外光曝光制程，以取代必須更動(dòng)抗眩膜配方以及其涂布制程參數(shù)等費(fèi)時(shí)費(fèi)力的傳統(tǒng)技術(shù)。由于弱功率紫外光可使透光微粒慢慢的浮出于透光樹脂材料的表面，如此增加抗眩膜的表面粗糙度，以達(dá)到提升抗眩膜霧度的效果。
圖2繪示本發(fā)明的一較佳實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)圖。具有數(shù)個(gè)透光微粒206的透光樹脂材料204涂布于光學(xué)薄板202表面，以作為光學(xué)薄板202的抗眩膜212。此光學(xué)薄板202為一偏光板，以一三醋酸纖維素層與該抗眩膜212相接觸。此時(shí)抗眩膜212的表面結(jié)構(gòu)特性可由表面粗糙度(surface roughness，Ra)以及表面顆粒平均距離(mean spacing of local peaks of the profile，S)兩種數(shù)值來(lái)表示，如圖2所示。表二依序列舉出提出傳統(tǒng)曝光制程，以及分別加上120毫瓦紫外光曝光制程15秒、30秒與60秒的表面粗糙度(Ra)以及表面顆粒平均距離(S)的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，以說(shuō)明本發(fā)明的制造方法確可用以改變抗眩膜的表面結(jié)構(gòu)。
表二現(xiàn)有技術(shù)的傳統(tǒng)曝光制程與本發(fā)明的兩階段曝光制程的表面性質(zhì)的比較。

由表二可知，利用本發(fā)明的制造方法所制成的抗眩膜，其表面粗糙度以及表面顆粒平均距離等表面結(jié)構(gòu)性質(zhì)的確會(huì)被弱功率紫外光曝光步驟所影響而造成改變。當(dāng)弱功率紫外光的曝光時(shí)間越長(zhǎng)，則此抗眩膜的表面粗糙度越大，而其表面顆粒平均距離則越小。
在此要說(shuō)明的是，除了抗眩膜外，本發(fā)明的制造方法尚可運(yùn)用于制造抗反射膜或是其它需利用紫外光硬化的光學(xué)薄膜。另外，本發(fā)明的步驟至少包含先以弱功率紫外光曝光透光樹脂材料，然后再以強(qiáng)功率紫外光硬化此透光樹脂材料等兩個(gè)紫外線曝光硬化步驟。然而，在整個(gè)曝光過(guò)程中，施以更多階段不同功率值的紫外線曝光硬化步驟，或是在透光樹脂材料完全硬化前，以強(qiáng)弱依序或不依序交替地加以曝光硬化等方法，皆應(yīng)視為符合本發(fā)明構(gòu)思的各種應(yīng)用，應(yīng)當(dāng)包含于本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
以上所述，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該制造方法至少包含提供一透光樹脂材料，該透光樹脂材料中具有數(shù)個(gè)透光微粒；涂布該透光樹脂材料于一光學(xué)薄板；以及分別以至少兩種不同功率值的紫外光照射該透光樹脂材料，借以曝光并硬化該透光樹脂材料。
2.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該透光樹脂材料的材質(zhì)包含一光固化樹脂。
3.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，所述透光微粒的材質(zhì)包含二氧化硅。
4.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該光學(xué)薄板為一偏光板。
5.如權(quán)利要求4所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該偏光板以一三醋酸纖維素層與該透光樹脂材料相接觸。
6.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該制造方法還包含在涂布該透光樹脂材料后，烘烤該光學(xué)薄板。
7.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，所述功率值中的最大值與最小值的比值范圍介于500至3000之間。
8.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，所述功率值中的最大值與最小值的較佳比值范圍介于500至1000之間。
9.如權(quán)利要求1所述的表面光學(xué)層的制造方法，其特征在于，該紫外光的波長(zhǎng)小于400納米。
全文摘要
本發(fā)明提供一種表面光學(xué)層的制造方法，先將具有數(shù)個(gè)透光微粒的透光樹脂材料涂布于一光學(xué)薄板，然后先以一第一功率值的紫外光曝光該透光樹脂材料，再以一第二功率值的紫外光硬化該透光樹脂材料，其中該第二功率值大于該第一功率值。這樣，即可在不變更表面光學(xué)層的原始配方以及涂布制程參數(shù)的情況下，調(diào)整曝光硬化的紫外光強(qiáng)度來(lái)得到不同光學(xué)性質(zhì)的表面光學(xué)層。
文檔編號(hào)B32B27/00GK1648692SQ200410002
公開日2005年8月3日 申請(qǐng)日期2004年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月19日
發(fā)明者洪維澤, 李東龍, 吳龍海, 賴大王 申請(qǐng)人:力特光電科技股份有限公司