專利名稱：鑲嵌薄片及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鑲嵌薄片及其制造方法。
背景技術：
鑲嵌薄片(或者鑲嵌薄膜)是在鑲嵌成型或者注塑成型等中適用于成型物的表面，并體現各種裝飾效果的薄膜或者薄片。鑲嵌薄片的例子包括如同注塑兼可飾薄片，鑲嵌或者注塑成型的同時在成型物的表面上能夠賦予裝飾層的注塑兼可飾薄片。鑲嵌薄片舉例適用于各種汽車用室內裝橫材料或者家電產品的外殼等，也適用于中心筋膜、車窗開關或者控制箱等汽車裝飾、后視鏡、側面造型或者保險杠帽等汽車外裝橫材料、手機或者筆記本電腦等各種電子產品或者家電產品的外殼等各種用途。一般情況下，鑲嵌薄片以凹版印刷等各種方式具備各種紋路，形成有能夠具體表現金屬質感的裝飾層。不過，通過如上述現有方式形成的裝飾層來說，其效果比實際金屬 (例如鉻及不銹鋼等)小很多，具有給人一個造作感的問題。因此，最近開始有了通過真空蒸鍍等的金屬蒸鍍技術，開始使用根據各薄膜體現各種金屬質感的方法。不過，以真空蒸鍍方法形成的金屬蒸鍍層來說，因與被著劑-合成樹脂基材的粘接性降低，具有薄片的耐久性惡化的問題。而且，現有方式來說，薄片表面的耐久性及成型性等物性及金屬蒸鍍層上的均衡性降低，鑲嵌薄片適用于薄片時具有產生裂紋 (crack)的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于，提供一種鑲嵌薄片及其制造方法。本發(fā)明的技術解決方案在于本發(fā)明是為解決上述課題的手段，提供一種鑲嵌薄片，其包括透明薄膜，其一面上形成細線層；金屬蒸鍍層，其形成在所述透明薄膜的細線層；支撐薄片，其形成在金屬蒸鍍層上。本發(fā)明是為解決上述課題的手段，提供一種鑲嵌薄片的制造方法，其包括第一步驟，在透明薄膜的一面形成細線層；第二步驟，在第一步驟中國形成的細線層的表面上形成金屬蒸鍍層；第三步驟，在第二步驟形成的金屬蒸鍍層上形成支撐薄片。本發(fā)明的技術效果在于本發(fā)明提供一種背面形成細線層的透明薄膜及包括在上述細線層形成的金屬蒸鍍層的鑲嵌薄片及其制造方法。本發(fā)明的鑲嵌薄片，因為細線形成在透明薄膜的背面上，體現優(yōu)秀的表面物性、耐久性及成型性。而且，本發(fā)明中根據需要，在金屬蒸鍍層的形成適用濺射方法，所以不限制素材的情況下也可以制造出包括各種金屬的蒸鍍層。而且，根據本發(fā)明可以形成均衡的金屬蒸鍍層及薄膜的蒸鍍層，與透明薄膜的附著力優(yōu)秀，可以提供一種成型時不會產生裂紋的金屬蒸鍍層。因此，本發(fā)明的薄膜適用于鑲嵌成型物或者注塑成型物，具有優(yōu)秀金屬質感等的外觀效果，完好維持像表面物性、成型性、耐劃傷性、耐沖擊性、耐熱性、耐磨損性、耐藥品性及耐光性等所有物性。


圖1 3是根據本發(fā)明各種太陽的鑲嵌薄片的截面圖。
具體實施例方式本發(fā)明涉及一種鑲嵌薄片，其包括透明薄膜，其一面上形成細線層；金屬蒸鍍層，其形成在所述透明薄膜的細線層；支撐薄片，其形成在金屬蒸鍍層上。以下，對本發(fā)明的鑲嵌薄片進行詳細說明。本發(fā)明的鑲嵌薄片適用于鑲嵌成型或者注塑成型等，在成型物的表面可以賦予裝飾效果。本發(fā)明的鑲嵌薄片來說，舉例可以適用于成型同時可飾方法，可以使用為鑲嵌或者注塑成型的同時在成型物的表面上賦予裝飾層的成型兼可飾薄膜等中。本發(fā)明的一實施方式中，上述鑲嵌薄片可以具有舉例附圖1中表示的構造。即，發(fā)明的鑲嵌薄片1可包括從下部開始依次形成的支撐薄片14、金屬蒸鍍層13、細線層12及透明薄膜11。如圖1所示，本發(fā)明的鑲嵌薄片中，具有裝飾效果的細線層(以下，也稱[內部細線層])形成在透明薄膜的背面上。上述內容中，透明薄膜的背面指的是，鑲嵌薄片適用于成型物時，向成型物外部的透明薄膜的反面。本發(fā)明中在透明薄膜的背面形成這種細線層，所以能夠提供一種表面物性、表面耐久性、耐劃傷性、耐磨損性、耐化學性及耐光性等優(yōu)秀且能夠體現優(yōu)秀的金屬質感等的鑲嵌薄片。本發(fā)明中能夠使用的透明薄膜，其具體種類在本領域廣為使用，具有透明性的薄膜不受特別限制。本發(fā)明中，舉例上述透明薄膜可以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。如上述透明薄膜，舉例可以將對應的熱塑性樹脂等與添加劑等混合在一起制造原料之后，適用于擠壓、沖床或者鑄造程序的制造。本發(fā)明中上述透明薄膜的厚度，舉例可以是約5 μ m 500 μ m的范圍。如果本發(fā)明中透明薄膜的厚度過分薄時，具有不容易形成細線層或者機械韌度降低的擔憂，所以根據情況形成后述的表面處理層時，具有薄膜上出現熱變形的擔憂。而且，上述透明薄膜的厚度過分變厚時，具有薄膜的成型性或者卷取加工性降低的擔憂。不過，上述透明薄膜的厚度只不過是本發(fā)明的一例。即，考慮到本發(fā)明中鑲嵌薄片所適用的用途或者要體現的細線模板等，可以調節(jié)上述透明薄膜的厚度。本發(fā)明的鑲嵌薄片包括上述透明薄膜的一面上形成的細線層。本發(fā)明中所使用的用語[細線]指的是，透明薄膜上形成的具有所定深度及寬度的非常細的線(Scratch)； [細線層]指的是，如上述內容的細線形成的各種模板。上述內容中細線的長度、寬度及形成數量等不受特限制，考慮到要體現的模板，對此可以適當抑制。本發(fā)明中，舉例上述細線的深度為0. Iym 1.0 μπι，其平均寬度可以在超過Ομπι，5 ym以下的范圍內形成。
本發(fā)明中上述細線層在最終鑲嵌薄片中，在透明薄膜表面的反面，即背面形成。本發(fā)明中所使用的用語[透明薄膜的表面]指的是，本發(fā)明的鑲嵌薄片適用于成型物的時候， 朝向外部的透明薄膜的面，[透明薄膜的背面]指的是，適用于上述表面的反面-成型物時， 與成型物相對的面。像這樣，因細線層形成在透明薄膜的背面，適用于成型物時觸覺上不能感覺曲折， 所以能夠提高薄膜的表面物性，而且還能提高表面耐久性、耐劃傷性、耐磨損性、耐化學性等的特性。本發(fā)明中，上述細線層由選自發(fā)絲發(fā)紋、羽毛紋、薄云紋、梳子紋、波浪紋及樹枝紋樣形成的群組的一個以上的紋樣形成。不過，上述細線模板只不過是本發(fā)明的一例，根據本發(fā)明的目的，對于上述紋樣可以進行多種變更。本發(fā)明中在透明薄膜上形成細線層的方法不受特別限制，在本領域可以通過一般適用的方法形成。本發(fā)明中，舉例可以使用微細的研磨部件形成的研磨材料(ex，織物)，以細線紋樣為目的進行Scratch加工來形成。本發(fā)明的鑲嵌薄片包括在上述細線層上形成的金屬蒸鍍層。本發(fā)明中上述金屬蒸鍍層，可以向透明薄膜上形成的細線層的表面使用各種蒸鍍法，舉例真空蒸鍍法或者濺射法來形成。上述內容中真空蒸鍍法指的是，在真空狀態(tài)下加熱物質(金屬)并蒸發(fā)后，將其蒸發(fā)物質放入被蒸鍍體的表面上，形成蒸鍍層的方法。而且，濺射方法指的是，真空中放入惰性氣體(ex，氬氣)，在基板和目標(ex，金屬)之間加入電壓，負離子化的惰性氣體與目標進行沖突，通過彈出的目標物質在基板上形成蒸鍍膜的方法。濺射方法中，在維持真空的房間內注入惰性氣體后，發(fā)生等離子體，在目標中濺射出局(sputtering out)的原子或者分子到達基板上形成蒸鍍膜。濺射方法適用的素材只局限在熔點較低的鋁銅等，所以與真空蒸鍍法相比較時具有能夠使用各種素材的優(yōu)點。而且，濺射方法來說，可以形成薄膜的蒸鍍膜的情況下也能形成整體上均衡的金屬蒸鍍層。而且，適用濺射方法時，可以形成對被蒸鍍體的附著力優(yōu)秀的蒸鍍層，鑲嵌薄片附加適用于鑲嵌或者注塑成型等的過程中，也可以防止蒸鍍層上出現裂紋等缺陷的情況。本發(fā)明中上述金屬蒸鍍層，可以包括由選自不銹鋼、鋁銅、鉻、鎳、錫及銅形成的群組的一個以上。而且，本發(fā)明中上述金屬蒸鍍層的厚度等不受特別的限制，考慮到實現目的的效果也可以選擇。本發(fā)明中，舉例上述金屬蒸鍍層的厚度可以控制在50a 500a、IOOa 500a或者200a 500a范圍內。本發(fā)明的鑲嵌薄片上所包括的支撐薄片的種類不受特別的限制。即，本發(fā)明中作為眾人所知的支撐薄片，熱量流動性優(yōu)秀，通過鑲嵌或者注塑程序過程或者其后，如果不是高熱情況下誘發(fā)露出下部樹脂并燃燒成黑色的焦黑(gateburn)現象，任何種類都可使用。本發(fā)明中，舉例支撐薄片可以使用丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物(ABC， Acrylonitrile Butadiene Styrene)薄片、聚氯乙烯(PVC,polyvinylchloride)薄片或者乙烯醋酸乙烯酯(EVA，ethylene vinylacetate)樹脂薄片，根據需要可以使用上述中具有 2個以上薄片的疊層薄膜。本發(fā)明中，上述支撐薄片的厚度可以是ΙΟΟμπι ΙΟΟΟΟμπι。本發(fā)明中，如果支撐薄片的厚度不到100 μ m，則具有鑲嵌薄片的成型性降低或者成型過程中產生焦黑現象的擔憂；但超過10，000 μ m時，具有卷取加工性等降低的擔憂。不過，上述支撐薄片的厚度只不過是本發(fā)明的一例，本發(fā)明中可以根據需要，對上述支撐薄片的厚度進行多種變更。本發(fā)明的一實施方式中，如圖2所示，上述支撐薄片14可以將粘接層A作為媒介， 附著在金屬蒸鍍層13上。這時，能夠使用的粘接層的種類不受特別的限制，可以使用在本領域眾人所知的各種聚酯粘接劑、聚氨酯粘接劑、聚酰胺粘接劑、醋酸乙烯酯粘接劑或者丙烯酸粘接劑。本發(fā)明中，粘接上述支撐薄片及金屬蒸鍍層時可以使用溶劑型粘接劑(或者溶劑浸潤型粘接劑)或者薄膜型粘接劑。本發(fā)明中，使用溶劑型粘接劑時，將上述各粘接性樹脂浸潤在合適的溶劑上制造粘接劑后，使用凹版鍍敷方式等將其鍍敷在金屬蒸鍍層上，重新進行與支撐薄片合并的程序。而且，本發(fā)明中使用薄膜型粘接劑時，可以將前述包括各粘接性樹脂的粘接劑適用于擠壓程序等，制造薄膜上粘接劑，在金屬蒸鍍層或者支撐薄片上也可以適用層壓方法。本發(fā)明的鑲嵌薄片包括粘接層時，其厚度可以是0. 1 μ m 500 μ m。本發(fā)明中，如果粘接層的厚度為0. Iym以下，則粘接染色薄膜等的附加薄膜時，具有支撐薄膜及金屬蒸鍍層的界面粘接力降低的擔憂，超過500μπι時因為發(fā)生模塊化(blocking)現象，具有卷取加工性等降低的擔憂。本發(fā)明的鑲嵌薄片如圖3所示，還可包括上述透明薄膜的表面-透明薄膜的細線層和反面形成的表面處理層，可以像這樣通過表面處理層可以進一步改善薄膜的成型性及表面物性。而且，上述表面處理層還可起著改善鑲嵌薄片的耐久性及延伸率特性的作用。像這種表面處理層可以使用在本領域眾人所知的表面處理素材來形成。具體來說，上述表面處理層可包括選自丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚酯樹脂及氟基樹脂形成的群組的一個以上，優(yōu)選的可包括丙烯酸樹脂，但不被其所限制。上述內容中各樹脂的具體類型不受特別限制，可以在本領域中適當被眾人所知的表面處理素材中考慮到發(fā)明的目的可適當選擇。本發(fā)明中，使用如上述素材形成表面處理層的方法不受特別的限制。本發(fā)明中，舉例可以通過將上述各樹脂成分及其他添加劑放在適當的溶劑上進行溶解及分散，并制造涂層液，也可以將其使用涂布機等手段在透明薄膜上進行鍍敷后，使用烘干的方法形成表面
處理層。本發(fā)明中，上述涂層液在前述各樹脂成分上還包括固化劑，根據需要也可適當包括消光劑。這時，所使用的固化劑的種類不受特別限制，考慮到所使用的樹脂及其樹脂上包括的交聯性官能基的種類可適當選擇，具體可以使用各種異氰酸酯固化劑或者胺基固化劑。而且，上述內容中消光劑是在表面處理層上賦予耐光性的成分，其具體內容也是不受特別限制，可以使用本領域中眾人所知的一般成分。本發(fā)明的一實施方式中，上述涂層液舉例可包括上述樹脂成分80重量份 130重量份及固化劑0. 01重量份 80重量份，需要包括消光劑時，其含量相對上述樹脂成分或者固化劑的含量，可包括為約0.01重量份 15重量份。而且，上述涂層液以樹脂成分為基準，可調制成具有約10重量％的固分離含量。特別是使用本發(fā)明中丙烯酸樹脂形成表面處理層的時候，上述涂層液可包括丙烯酸樹脂100重量份及固化劑(ex，異氰酸酯固化劑)0. 5 重量份 5重量份，根據需要上述丙烯酸樹脂或者固化劑的含量為基準，還可包括0. 5重量份 10重量份的消光劑，其固分離含量以丙烯酸樹脂為基準，可以形成在約30重量％ 50 重量％的范圍內。不過，上述涂層液的構成只不過是本發(fā)明的一例，考慮到本發(fā)明中物性目的，可以調節(jié)上述構成。本發(fā)明的鑲嵌薄片包括表面處理層時，其厚度可以形成在約0. 5 μ m 30 μ m的范圍。如果表面處理層的厚度不到0.5 μ m，則因表面處理層的形成，具有效果很小的擔憂；如果超過30 μ m,則具有成型性或者延伸率特性降低的擔憂。本發(fā)明涉及一種鑲嵌薄片的制造方法，其包括第一步驟，在透明薄膜的一面形成細線層；第二步驟，在細線層的表面形成金屬蒸鍍層；第三步驟，在第二步驟形成的金屬蒸鍍層上形成支撐薄片。本發(fā)明第一步驟中形成細線層的方法不受特別的限制，可以通過如前述使用一般的研磨材料研磨透明薄膜一面的過程進行制造。本發(fā)明中使用像研磨紙一樣的研磨材料形成上述細線層的時候，上述研磨材料的網眼(研磨部件(網)的大小)可以形成在約200 2000網眼的范圍內。將研磨材料的網眼控制在上述范圍內，使得細線模板在具有質感的范圍內的數量及深度。不過，上述研磨材料的網眼只不過是本發(fā)明的一例，考慮到本發(fā)明目的的效果，可以自由控制上述網眼的范圍。本發(fā)明中除了上述內容之外，可以不限制地適用眾人所知的細線層形成的各種方法，形成上述細線層。本發(fā)明的第二步驟是如上述形成的細線層上蒸鍍金屬來形成金屬蒸鍍層的步驟。 像這種金屬蒸鍍層像前述內容，可以通過真空蒸鍍或者濺射方法萊形成，優(yōu)選的使用該濺射方法。不過，本發(fā)明中，像鋁銅或者銅等，以熔點較低的金屬形成蒸鍍層的時候，可以適用真空蒸鍍方法。另一方面，上述內容中真空蒸鍍或者濺射方法的具體條件不受特別的限制， 考慮到所使用的金屬素材等，可以適當選擇。本發(fā)明的第三步驟是將如上述方式形成的金屬蒸鍍層附著在支撐薄片上的步驟。 這時，附著上述支撐薄片的方法不受特別限制，舉例可以使用本領域中眾人所知的一般的熱合板方法來附著。而且，根據需要可以按上述內容，在金屬蒸鍍層的表面上形成合適的溶劑型粘接層(或者溶劑浸潤型粘接層)或者薄膜型粘接層，將上述支撐薄片進行疊層后，加熱并層壓的方式附著支撐薄片。本發(fā)明的鑲嵌薄片的制造方法還可執(zhí)行在透明薄膜上形成表面處理層的步驟。上述表面處理層在透明薄膜形成細線層或者在形成面的反面形成。像這種形成表面處理層的方法不受特別的限制，可以通過適用前述涂層液涂敷及烘干處理來制造。而且，在上述過程中，涂層液的調配、涂敷及烘干程序的具體方法或者條件不受特別限制，可以根據目的適當抑制。而且，形成表面處理層的步驟，可以在透明薄膜上形成細線層的前或者后、形成金屬蒸鍍層的前或者后、形成支撐薄片的前或者后中，選出適當時期執(zhí)行，其執(zhí)行時期不受特別限制。本發(fā)明中，舉例上述表面處理層的形成步驟中，透明薄膜上細線層及金屬蒸鍍層可以依次形成，附著支撐薄片之前在整個步驟中可以執(zhí)行。以下，通過根據本發(fā)明的實施例進行詳細說明，但本發(fā)明的范圍不會限定于下列提示的實施例中。
實施例1透明薄膜來說，在聚對苯二甲酸丁二醇酯薄膜的背面使用了研磨紙，形成了發(fā)絲紋樣的細線層。接著，上述細線層的表面使用濺射的方式形成了銅蒸鍍層。然后，在上述蒸鍍層上涂敷將異氰酸酯固化劑及丙烯酸樹脂溶解在甲基乙基酮的粘接涂層液，形成了粘接層。然后，在上述透明薄膜中，細線層形成面的反面上，將甲基乙基酮上溶解丙烯酸樹脂100 重量份及異氰酸酯固化劑2重量份的涂層液(固分離含量35重量％ )并進行涂敷并烘干后形成了表面處理層。然后，在上述金屬蒸鍍層上形成的粘接層上疊層EVA樹脂薄膜后，加熱及層壓，制造了鑲嵌薄片。實施例2透明薄膜的情況下，在聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度50μπι，SL80C， SKC(制))的一面上使用研磨紙(600網眼)形成了發(fā)絲紋樣的細線層。這時，在細線層的上部濺射不銹鋼304，以0.850D(Optical Density)的厚度形成了金屬薄膜。接著，在上述金屬蒸鍍層的上部涂敷甲基乙基酮上溶解聚酯樹脂100重量份及異氰酸酯固化劑0. 6重量份的粘接涂層液(固分離含量35重量％ )，形成了厚度為0. 2 μ m的粘接層。上述透明薄膜中，細線層形成面的反面上，涂敷了甲基乙基酮上溶解丙烯酸樹脂100重量份及異氰酸酯固化劑2重量份的涂層液(固分離含量35重量％)并涂敷及烘干進行熱固化，形成了厚度為約ΙΟμπι的表面處理層。接著，在上述粘接層上疊層厚度為500μπι的ABS薄膜(ΜΑ221， LG化學(制))后，加熱并層壓，制造了鑲嵌薄片。針對制造的薄膜，通過下列出現的條件測量外觀、耐劃傷性、耐沖擊性、耐熱性、耐磨損性、耐藥品性及耐防曬性后，將其結果整理并記錄在下列表1中。1、外觀評價用肉眼觀察薄膜的外觀，將膨脹、剝離或者氣泡等發(fā)生的情況評價為X，沒有發(fā)生的情況評價為O。2、耐劃傷性評價薄膜的耐劃傷性通過JIS K 6718規(guī)定的Sapphire試驗執(zhí)行評價。(合格標準 3. 5級以上)3、耐沖擊性評價將秤砣(12. 7mm, 0. 5Kgf)放在20cm高度上，降落至鑲嵌薄片上進行了耐沖擊性的評價。降落后薄膜上發(fā)生剝離或者裂開等現象的評價為X，沒有發(fā)生的評價為O。4、耐熱性評價對于制造的薄膜在80°C的溫度中放置300小時后進行了評價。放置后，維持初期附著性的評價為O，沒有維持的評價為X。5、耐磨損性評價耐磨損性是使用了荷重為1. OKgf的摩擦部件，以60RPM的摩擦速度執(zhí)行干式或者濕式摩擦試驗后進行了評價。通過干式摩擦試驗10000次，濕式摩擦試驗10000次以上的標記為O，干式摩擦試驗沒通過10000次以上或者濕式摩擦試驗沒通過10000次以上的標記為X。6、耐藥品性評價將汽油、發(fā)動機油、蠟、潤滑油、玻璃洗潔劑及乙基酒精適用于鑲嵌薄片時，沒有出現變色、褪色、腫脹及裂開現象的情況評價為O，發(fā)生上述內容中的一項時評價為X。7、耐磨損性評價鑲嵌薄片上涂敷0. 2g的防曬霜，在80°C的溫度下放置1小時候后引起劃痕時，沒有產生劃傷帶來的剝離現象的評價為O，產生剝離現象的評價為X。表權利要求
1.一種鑲嵌薄片，其特征在于，包括 透明薄膜，其一面上形成有細線層；金屬蒸鍍層，其形成在所述透明薄膜的細線層上；以及支撐薄片，其形成在所述金屬蒸鍍層上。
2.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，透明薄膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或者聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。
3.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，透明薄膜的厚度為5μπι 500μπι。
4.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，細線層由選自發(fā)絲紋、羽毛紋、薄云紋、梳子紋、波浪紋及樹枝紋樣形成的群組的一種以上的紋樣形成。
5.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，細線的深度為0.1 μ m 1. 0 μ m，平均寬度為超過0 μ m，5 μ m以下。
6.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，金屬蒸鍍層為濺射金屬蒸鍍層。
7.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，金屬蒸鍍層包括選自不銹鋼、鋁銅、 鉻、鎳、錫及銅形成的群組的一種以上。
8.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，金屬蒸鍍層的厚度為50A~500 A。
9.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，支撐薄片為丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物薄片、聚氯乙烯薄片或者乙烯醋酸乙烯酯樹脂薄片。
10.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，支撐薄片的厚度為100μm 10000 μ m。
11.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，支撐薄片以粘接層作為媒介，附著在金屬蒸鍍層上。
12.根據專利要求11所述的鑲嵌薄片，其特征在于，粘接層包括聚酯粘接劑、聚氨酯粘接劑、聚酰胺粘接劑、乙烯醋酸乙烯酯基粘接劑或者丙烯基粘接劑。
13.根據專利要求1所述的鑲嵌薄片，其特征在于，還包括形成在透明薄膜的與細線層相反的一面的表面處理層。
14.根據專利要求13所述的鑲嵌薄片，其特征在于，表面處理層的厚度為0.5 μ m 30 μ m0
15.根據專利要求13所述的鑲嵌薄片，其特征在于，表面處理層包括選自丙烯酸樹脂、 聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚酯樹脂及氟基樹脂形成的群組的一種以上。
16.一種鑲嵌薄片的制造方法，其特征在于，包括如下步驟 第一步驟，在透明薄膜的一面形成細線層；第二步驟，在第一步驟中形成的細線層的表面上形成金屬蒸鍍層；以及第三步驟，在第二步驟形成的金屬蒸鍍層上形成支撐薄片。
17.根據專利要求16所述的鑲嵌薄片的制造方法，其特征在于，通過濺射方法形成金屬蒸鍍層。
18.根據專利要求16所述的鑲嵌薄片的制造方法，其特征在于，附加執(zhí)行在透明薄膜上形成表面處理層的步驟。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鑲嵌薄片及其制造方法。本發(fā)明的薄膜適用于各種鑲嵌成型物或者注塑成型物，具有優(yōu)秀的金屬質感等的外觀效果，而且完好維持像表面物性、成型性、耐劃傷性、耐沖擊性、耐熱性、耐磨損性、耐藥品性及耐光性等所有物性。
文檔編號B32B27/06GK102164746SQ200980137306
公開日2011年8月24日 申請日期2009年9月23日 優(yōu)先權日2008年9月23日
發(fā)明者李珉鎬, 金晉佑, 金炯坤 申請人:樂金華奧斯有限公司