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      透明耐候性阻隔膜、通過層合、擠出層合或擠出涂覆的制備的制作方法

      文檔序號:2421718閱讀:173來源:國知局
      專利名稱:透明耐候性阻隔膜、通過層合、擠出層合或擠出涂覆的制備的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及通過層合、擠出層合(粘合劑層合、熔體層合或熱熔體層合)或擠出涂覆制備透明耐候性阻隔薄膜。為此,將薄的無機(jī)涂覆的透明薄膜(例如PET)與耐候性透明薄膜(例如PMMA或PMMA-聚烯烴共擠出物)層合。無機(jī)氧化物層具有相對于水蒸氣和氧氣的高的透明阻隔物的性能,而PMMA層帶來氣候老化穩(wěn)定性。
      背景技術(shù)
      基于聚甲基丙烯酸酯的耐候性、透明并且抗沖擊的薄膜由本申請人以名稱 PLEXIGLAS 市售。專利DE 38 42 796 Al描述了基于丙烯酸酯的澄清的抗沖擊模塑組合物的制備,由其制備的薄膜和模制品,以及制備模塑組合物的方法。所述薄膜具有當(dāng)暴露于熱和水分時它們不會變色和/或變脆的優(yōu)點(diǎn)。此外它們避免了當(dāng)暴露于沖擊或彎曲應(yīng)力時所謂的應(yīng)力發(fā)白。所述薄膜透明并且即使當(dāng)暴露于熱和水分時,當(dāng)遭受氣候老化時以及當(dāng)遭受沖擊或彎曲應(yīng)力時也保持透明。模塑組合物加工得到所述透明抗沖擊薄膜的過程理想地借助于熔體擠出通過寬縫噴嘴并且在輥機(jī)架上平整而進(jìn)行。這類薄膜的特征在于耐久的透明性、對熱和低溫的不敏感性、耐候性、低的泛黃和變脆,和當(dāng)遭受折彎或折疊時低的應(yīng)力發(fā)白,并且因此它們例如適合作為遮蓬、汽車車頂或帆中的窗口。這類薄膜的厚度低于1mm,例如0.02-0. 5mm。重要的應(yīng)用領(lǐng)域是在剛性的尺寸穩(wěn)定的基底型體例如金屬片、紙板、碎料板、塑料片材等上形成例如厚度為0.02-0. 5mm的薄表面層。有各種方法可用于制備這類覆蓋物。舉例來說,可以將薄膜擠出得到模塑組合物,并且平整,并且層合到基材上。可以通過擠出涂覆技術(shù)將擠出的線料施加于基材表面上,并且使用輥將其平整。如果作為基材本身使用熱塑性塑料,則可以將兩種組合物共擠出從而由本發(fā)明的澄清模塑組合物形成表面層。然而,PMMA薄膜僅提供相對于水蒸氣和氧氣的不足的阻隔性能,而這對于醫(yī)學(xué)應(yīng)用,包裝工業(yè)中的應(yīng)用,尤其是戶外應(yīng)用的電氣應(yīng)用中的應(yīng)用是必要的。為了改進(jìn)阻隔性能,將透明無機(jī)層施加于聚合物薄膜上。特別是硅氧化物層和鋁氧化物層已被廣泛使用。該無機(jī)氧化物層(SiOx或AlOx)通過真空涂覆工藝施加(化學(xué)方式,JP-A-10025357、JP-A-07074378 ;熱或電子束汽化工藝,濺射,EP 1 018 166 Bi、JP 2000-307136 A、TO 2005-029601 A2)。EP 1018166 Bl 描述了通過 SiOx 層中的硅 / 氧的比例,可以影響SiOx層的UV吸收。為了保護(hù)位于下面的層免于UV輻射,這是重要的。然而, 缺點(diǎn)是當(dāng)硅/氧的比例改變時,阻隔性能也改變。因此不可能彼此獨(dú)立地改變透明性和阻隔性。無機(jī)氧化物層有時主要施加于聚酯和聚烯烴上,因為這些材料經(jīng)受得住汽化工藝過程中的熱應(yīng)力。此外,無機(jī)氧化物層在聚酯和聚烯烴上具有好的粘附性,其中聚烯烴在涂覆工藝前進(jìn)行電暈處理。然而,由于這些材料不是氣候老化穩(wěn)定性的,因此經(jīng)常將它們與鹵化薄膜層合,如例如WO 9V29106中所述。但是,鹵化薄膜從環(huán)境保護(hù)角度考慮是成問題的。
      如從U. Moosheimer,Galvanotechnik 90 第 9 期,1999,第 25洸_2531 頁中獲知的那樣,用無機(jī)氧化物層涂覆PMMA不能改進(jìn)相對于水蒸氣和氧氣的阻隔作用,因為PMMA是無定形的。然而,與聚酯和聚烯烴不同,PMMA是氣候老化穩(wěn)定性的。

      發(fā)明內(nèi)容
      本申請人使用被稱為“防涂鴉涂料”的涂料,其在PMMA上具有優(yōu)異粘附性(DE 102007007999 Al)。通過氟代甲基丙烯酸酯提供了防涂鴉效果。當(dāng)氟代組分被含硅氧烷的組分代替時,所述涂料可以提供對SiOx層的優(yōu)異粘附作用。這些涂料的優(yōu)點(diǎn)是它們具有優(yōu)異的長期耐天然氣候老化性。目的本發(fā)明基于的目的是提供氣候老化穩(wěn)定性并且高度透明(在> 300nm波長范圍內(nèi) >80%)的阻隔薄膜,其中確保相對于水蒸氣和氧氣高的阻隔性能。PMMA提供氣候老化穩(wěn)定性的性能,無機(jī)氧化物層提供阻隔性能。本發(fā)明的第一目的是將PMMA作為基底層與無機(jī)氧化物層合并。第二個目的是意于不再由無機(jī)氧化物層承擔(dān)保護(hù)作用以免于UV輻射的功能,而是由PMMA層承擔(dān),由此其可以只根據(jù)光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)而最優(yōu)化。第三個目的是意于通過該材料組合實(shí)現(xiàn)大于1000V的局部放電電壓。目的的實(shí)現(xiàn)該目的通過氣候老化穩(wěn)定性的阻隔薄膜實(shí)現(xiàn)。通過多層薄膜實(shí)現(xiàn)了所述性能, 其中通過真空氣相沉積、層合、擠出層合(粘合劑層合、熔體層合或熱熔體層合),或擠出涂覆將單個層彼此合并。為此可以使用常規(guī)方法,例如描述于S.E.MJelke,J. D. Culter, R. J. Hernandez, “ Plastics Packaging",第 2 版,Hanser-Verlag,ISBN1-56990-372-7, 第226和227頁中的那些。由于根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)不可能直接無機(jī)涂覆PMMA,因此采用無機(jī)層汽相沉積聚酯薄膜或聚烯烴薄膜,并且將其用PMMA層合或擠出層合。PMMA層保護(hù)聚酯薄膜或聚烯烴薄膜免于氣候老化效應(yīng)。無機(jī)層與PMMA層之間的粘附作用由可UV固化并且包含硅氧烷基團(tuán)的丙烯酸酯基粘附促進(jìn)劑提供。也可以使用熱熔粘合劑。此外,PMMA層包含UV吸收劑,其保護(hù)聚酯薄膜或聚烯烴薄膜以免于UV輻射。然而,UV吸收劑也可以存在于聚烯烴層中。代替PMMA層,也可以使用由PMMA和聚烯烴形成的共擠出物,其帶來成本優(yōu)點(diǎn),因為聚烯烴比PMMA廉價。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)
      本發(fā)明的阻隔薄膜是氣候老化穩(wěn)定性的。 本發(fā)明的阻隔薄膜無鹵素。 本發(fā)明的阻隔薄膜具有相對于水蒸氣和氧氣的高阻隔作用(< 0. lg/(m2d))。 本發(fā)明的阻隔薄膜保護(hù)位于其下面的層以免于UV輻射,這與SiOx層的組成無關(guān)。 本發(fā)明的阻隔薄膜可以在低成本下制備,因為薄的薄膜可用于間歇的無機(jī)真空氣相沉積方法。保護(hù)層使用的保護(hù)層是優(yōu)選由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或抗沖擊PMMA(sz-PMMA)制成
      4的薄膜。也可以使用由聚甲基丙烯酸酯和聚烯烴或聚酯形成的共擠出物。優(yōu)選由聚丙烯和 PMMA形成成的共擠出物。另外可能的還有氟化的鹵化層,例如由PVDF與PMMA形成的共擠出物,或者由PVDF和PMMA形成的共混物,但是在此會損失無鹵素性的優(yōu)點(diǎn)。保護(hù)層的厚度為20μπι-500μπι,優(yōu)選厚度為50 μ m_400 μ m,并且非常特別優(yōu)選 200 μ m-300 μ m0在本發(fā)明中,可以將光穩(wěn)定劑加入基底層。光穩(wěn)定劑應(yīng)理解為UV吸收劑、UV穩(wěn)定劑和自由基捕獲劑。任選存在的UV穩(wěn)定劑的例子是二苯甲酮衍生物,其取代基例如羥基和/或烷氧基多數(shù)位于2-和/或4-位。在這些化合物中有2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、2,4- 二羥基二苯甲酮、2,2' - 二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2' ,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,2‘ -二羥基-4,4' - 二甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮。取代的苯并三唑也非常適合作為UV保護(hù)添加劑,在這些中尤其有2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-[2_羥基-3,5_ 二(α,α-二甲基芐基)苯基]苯并三唑、2_ (2_羥基_3,5_ 二叔丁基苯基)苯并三唑、2- (2-羥基-3,5- 二丁基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2- (2-羥基-3,5- 二叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2- (2-羥基-3,5- 二叔戊基苯基)苯并三唑、2- (2-羥基-5-叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2-羥基-3-仲丁基-5-叔丁基苯基)苯并三唑和2-(2-羥基-5-叔辛基苯基)苯并三唑、苯酚、2,2'-亞甲基雙[6-QH-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)]。除了苯并三唑以外還可以使用2- '-羥基苯基)_1,3,5-三嗪類的UV吸收劑, 例如苯酚-2-(4,6-二苯基-1,2,5-三嗪-2-基(xy) )-5-(己氧基)。
      另外可以使用的UV穩(wěn)定劑是2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸乙酯、2-乙氧基-2'-乙基-N,N,-草酰二苯胺、2-乙氧基-5-叔丁基-2'-乙基-N,N,-草酰二苯胺, 和取代的苯甲酸苯酯。光穩(wěn)定劑或UV穩(wěn)定劑可以如上所述的低分子量化合物形式存在于待穩(wěn)定的聚甲基丙烯酸酯組合物中。然而,在與可聚合的UV吸收化合物,例如二苯甲酮衍生物的丙烯?;?、甲基丙烯?;蛳┍苌锘蛘弑讲⑷蜓苌锏谋;?、甲基丙烯酰基或烯丙基衍生物共聚后,UV吸收性基團(tuán)也可以共價鍵接在基體聚合物分子內(nèi)。UV穩(wěn)定劑的比例,其中這些也可以是化學(xué)上不同的UV穩(wěn)定劑的混合物,通常為 0.01-10重量%,尤其為0.01-5重量%,特別為0. 02-2重量%,基于(甲基)丙烯酸酯共聚物。這里可以提及的自由基捕獲劑/UV穩(wěn)定劑的例子是位阻胺,其以名稱HALS(受阻胺光穩(wěn)定劑)是已知的。它們可用于抑制涂料和塑料,尤其是聚烯烴塑料中的老化過程 (Kunststoffe, 74 (1984) 10,第 620623 頁;Farbe+Lack,96 年度,9/1990,第 689-693 頁)。 存在于HALS化合物中的四甲基哌啶基確保HALS化合物的穩(wěn)定化作用。這類化合物在哌啶氮上既可以是未取代的,又可以是被烷基或?;〈?。位阻胺在UV區(qū)域內(nèi)不吸收。它們捕獲了形成的自由基,而UV吸收劑不能做到這一點(diǎn)。具有穩(wěn)定化作用的HALS化合物的例子如下,所述化合物也可以混合物的形式使用癸二酸雙0,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、8-乙?;鵢3_十二烷基_7,7,9, 9-四甲基-1,3,8-三氮雜螺(4,5)癸烷_2,5-二酮、琥珀酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌唆基)酯、聚(N-β-羥基乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羥基哌啶琥珀酸酯),或癸二酸雙(N-甲基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯。特別優(yōu)選的UV 吸收劑的例子是 Tinuvin 234、Tinuvin 360、Chimasorb 119 或 Irganox 1076。本發(fā)明的聚合物混合物中自由基捕獲劑/UV穩(wěn)定劑的用量為0. 01-15重量%,尤其為0.02-10重量%,特別為0.02-5重量%,基于(甲基)丙烯酸酯共聚物。UV吸收劑優(yōu)選在PMMA層中,但其也可以存在于聚烯烴層或聚酯層中。此外,保護(hù)層具有足夠的層厚,以保證1000V的局部放電電壓。這取決于厚度,例如在PMMA的情形中為從250 μ m起。局部放電電壓是指發(fā)生將絕緣材料局部橋接的放電所處的電壓(參見DIN EN 60664-1)?;讓邮褂玫幕讓邮莾?yōu)選由聚烯烴(PE、PP)或聚酯(PET、PEN)制成的薄膜。也可以使用由其他聚合物制成的薄膜(例如聚酰胺或聚乳酸)?;讓拥暮穸葹镮ym-IOO μ m,優(yōu)選厚度為5 μ m-50 μ m,并且非常特別優(yōu)選10 μ m-30 μ m。在> 300nm,優(yōu)選350_2000nm,特別優(yōu)選380_800nm的波長范圍內(nèi),基底層的透明度大于80 %,優(yōu)選大于85 %,特別優(yōu)選大于90 %。阻隔層阻隔層施加于基底層上并且優(yōu)選由無機(jī)氧化物,例如SiOx或AlOx構(gòu)成。然而,也可以使用其他無機(jī)材料(例如SiN、SiNxOy, ZrO, TiO2, ZnO, !^exOy、透明有機(jī)金屬化合物)。 對于確切的層結(jié)構(gòu),參見實(shí)施例。優(yōu)選使用的SiOx層是其中硅和氧的比例為1 1-1 2, 特別優(yōu)選1 1.3-1 1.7的層。層厚為5-300nm,優(yōu)選lO-lOOnm,特別優(yōu)選20-80nm。使用的々《^層優(yōu)選為其中鋁和氧的比例為2 3的層。層厚為5-300nm,優(yōu)選 lO-lOOnm,特別優(yōu)選 20_80nm。無機(jī)氧化物可以借助于物理真空沉積(電子束工藝或熱工藝)、磁控管濺射或化學(xué)真空沉積施加。同樣可能的是火焰預(yù)處理、等離子體預(yù)處理或電暈預(yù)處理。粘合層粘合層位于保護(hù)層與阻隔層之間。其允許在所述兩個層之間粘附。粘合層的厚度為1-100 μ m,優(yōu)選2-50 μ m,特別優(yōu)選2-20 μ m。粘合層可由涂料配方形成,其隨后固化。這優(yōu)選通過UV輻射發(fā)生,但也可以熱方式發(fā)生。粘合層包含1-80重量%多官能甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯或其混合物作為主要組分。優(yōu)選使用多官能丙烯酸酯,例如己二醇二甲基丙烯酸酯??梢约尤雴喂倌鼙┧狨セ蚣谆┧狨ヒ栽黾尤嵝裕邮羌谆┧崃u乙酯或甲基丙烯酸月桂酯。粘合層還任選包含改進(jìn)對SiOx的粘附作用的組分,例子是包含硅氧烷基團(tuán)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,例如甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。包含硅氧烷基團(tuán)(Silanoxangruppen)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯在粘合層中的存在量可以為 0-48重量%。粘合層包含0. 1-10重量%,優(yōu)選0.5-5重量%,特別優(yōu)選引發(fā)劑,例如Irgacure 184或Irgacure 651。粘合層還可以包含ο-ιο重量%,優(yōu)選ο. ι-ιο重量%,特別優(yōu)選0.5-5%硫化合物作為調(diào)節(jié)劑。一個變型是,將一部分主要組分由0-30重量%預(yù)聚物代替。粘合劑組分任選包含0-40重量%的對于粘合劑而言常規(guī)的添加劑。然而,粘合層也可由熱熔粘合劑形成。其可由聚酰胺、聚烯烴、熱塑性彈性體(聚酯彈性體、聚氨酯彈性體或共聚酰胺彈性體),或者由共聚物組成。優(yōu)選乙烯-乙酸乙烯酯共聚物,或乙烯-丙烯酸酯共聚物,或者乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物。粘合層可以在層合中借助于輥涂工藝涂布,或者在擠出層合中或在擠出涂覆中借助于噴嘴涂布。應(yīng)用該阻隔薄膜可用于包裝工業(yè)、顯示技術(shù)、有機(jī)光生伏打系統(tǒng)、薄層光生伏打系統(tǒng)、 結(jié)晶型硅模塊中,以及用于有機(jī)LED。
      具體實(shí)施例方式實(shí)施例1.保護(hù)層-阻隔層-基底層,層合將基底層4(例如PET)用阻隔層3(例如SiOx)涂覆。通過層合向其上施加保護(hù)層1(例如PMMA)。舉例來說,作為用于層合的粘合層2,可以使用基于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的粘附促進(jìn)劑。其可以通過輥涂工藝(輥涂或吻涂)涂布。保護(hù)層1的特征是其包含 UV吸收劑。工藝1.基底層4的真空涂覆(PVD、CVD)2.使用粘附促進(jìn)劑,其代表粘合層2,借助于層合(輥涂工藝)將保護(hù)層1施加于阻隔層3上3.粘合層2通過UV輻射固化2.保護(hù)層-阻隔層-基底層,擠出涂覆將基底層4(例如PET)用阻隔層3(例如SiOx)涂覆。通過擠出涂覆將保護(hù)層1以熔體狀態(tài)(例如PMMA-PP共擠出物)施加到其上。任選地,可以通過粘合層2,例如基于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的粘附促進(jìn)劑,或者熱熔粘合劑,例如基于乙烯-丙烯酸酯共聚物的那種,改進(jìn)保護(hù)層在阻隔層上的粘附作用。保護(hù)層1的特征是其包含UV吸收劑并且其由兩個或三個層構(gòu)成(PMMA和PP或者 PMMA、粘附促進(jìn)劑或熱熔粘合劑和PP)。工藝1.基底層4的真空涂覆(PVD、CVD)2.可能地使用熱熔粘合劑,其代表粘合層2,借助于多層擠出涂覆將保護(hù)層1施加于阻隔層3上3.保護(hù)層-阻隔層-基底層,擠出層合將基底層4(例如PET)用阻隔層3(例如SiOx)涂覆。通過擠出層合將保護(hù)層1 (例如PMMA或者由PMMA和聚烯烴形成的共擠出物)施加于其上。作為用于層合的粘合層2,可以例如使用熱熔粘合劑,例如基于乙烯-丙烯酸酯共聚物的那些。該熱熔粘合劑借助于噴嘴以熔體狀態(tài)擠出在保護(hù)層1與包括阻隔層3的基底層4之間。保護(hù)層1的特征是其包含 UV吸收劑。工藝1.基底層4的真空涂覆(PVD、CVD)
      2.粘合層2以熔體狀態(tài)擠出層合在保護(hù)層1與包括阻隔層3的基底層4之間由本發(fā)明的薄膜提供的阻隔作用測量薄膜體系的水蒸氣透過率根據(jù)ASTM F1249在23°C /85%相對濕度下測量。局部放電電壓根據(jù)DIN 61730-1 和 IEC 60664-1 或 DIN EN 60664-1 測量。實(shí)施例比較例現(xiàn)有技術(shù)(EP 1 018 166 Bi)的薄膜,例如具有的層厚為50 μ m的SiOx涂覆的 ETFE具有0.7g/(m2d)的水蒸氣透過率。具有層厚為50 μ m的基底層的本發(fā)明薄膜具有 0. 01-0. lg/(m2d)的水蒸氣透過速率(參見實(shí)施例1)。1.保護(hù)層PMMA,層厚50 μ m,包含 UV 吸收劑 Ti nil V in 234。粘合層62% Laromer UA 9048V、31 %己二醇二甲基丙烯酸酯、2%甲基丙烯酸羥乙酯、3% Irgacure 651,2% 3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷阻隔層借助于電子束真空汽化施加的SiOu,層厚40nm?;讓覲ET Mitsubishi Hostaphan RN12,層厚:12ym02.保護(hù)層抗沖擊PMMA,層厚25(^!11,包含2%淠吸收劑0683 1^81^@6乂^^006。粘合層62% Laromer UA 9048 V、31 %己二醇二丙烯酸酯、2%甲基丙烯酸羥乙酯、3% Irgacure 184、2%丙烯酸丁酯阻隔層=Al2O3,層厚40nm,借助于磁控管濺射施加?;讓覲EN,層厚20μ m。3.保護(hù)層由PMMA和抗沖擊PMMA形成的共擠出物,層厚150 μ m,包含1. 5% UV吸收劑Tinuν in 360。粘合層62% Ebecryl M4、31 %己二醇二丙烯酸酯、2%甲基丙烯酸羥乙酯、3% Irgacure 651、2% Glymo阻隔層=SiO1J,層厚80nm,借助于磁控管濺射施加?;讓覲ET,層厚23 μ m。4.保護(hù)層由抗沖擊PMMA(例如Plex 8943F),層厚40 μ m,包含1. 5 % UV吸收劑 Tinuvin 360,和聚乙烯(例如Dowlex SC 2108 G),層厚200 μ m形成的共擠出物。粘附促進(jìn)劑=Dupont Bynel 22 E 780 (乙烯-丙烯酸酯共聚物)。粘合層=Dupont Bynel 22 E 780阻隔層=SiO1J,層厚80nm,借助于電子束真空汽化施加。基底層PET Mitsubishi Hostaphan RN75,層厚 75μπι。5.保護(hù)層由抗沖擊PMMA和PP形成的共擠出物,總層厚280μπι,包含1.5% UV 吸收劑Tinuvin 360。PMMA與PP之間的粘附促進(jìn)劑Bynel。層厚PMMA-Bynel-PP 210-30--30 μ m
      參考標(biāo)記列表
      1保護(hù)層
      2粘合層
      3阻隔層
      4基底層
      權(quán)利要求
      1.阻隔薄膜,其由氣候老化穩(wěn)定性保護(hù)層和包括阻隔層的基底層構(gòu)成,其中所述保護(hù)層是氣候老化穩(wěn)定性的并且所述阻隔層由改進(jìn)相對于水蒸氣和氧氣的阻隔作用的無機(jī)氧化物組成。
      2.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜,其特征在于所述阻隔薄膜是無鹵素的。
      3.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜,其特征在于所述阻隔薄膜具有至少1000V的局部放電電壓。
      4.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜,其特征在于所述阻隔薄膜在>300nm范圍內(nèi)具有大于80%的透明度。
      5.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜,其特征在于在無機(jī)阻隔層與保護(hù)層之間存在由如下組成的粘附促進(jìn)劑形成的粘合層a)1-80重量%單或多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯b)0-30重量%預(yù)聚物c)0-48重量%包含硅氧烷基團(tuán)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯d)0.1-10重量%至少一種引發(fā)劑e)0-10重量%至少一種調(diào)節(jié)劑f)0-40重量%常規(guī)添加劑。
      6.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜,其特征在于在無機(jī)阻隔層與保護(hù)層之間存在由熱熔粘合劑形成的粘合層。
      7.制備阻隔薄膜的方法,其特征在于a)借助于真空汽化或濺射而無機(jī)涂覆基底薄膜(聚烯烴、聚酯),并且借助于層合將所述薄膜與耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烴形成的共擠出物)合并,或b)借助于真空汽化或濺射而無機(jī)涂覆基底薄膜(聚烯烴、聚酯),并且借助于擠出層合將所述薄膜與耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烴形成的共擠出物)合并,或c)借助于真空汽化或濺射而無機(jī)涂覆基底薄膜(聚烯烴、聚酯),并且借助于擠出涂覆將所述薄膜與耐候性塑料薄膜(PMMA、由PMMA和聚烯烴形成的共擠出物)合并,和d)在7a)-c)中所述的物理真空汽化中,借助于電子束汽化SiO,或e)在7a)-c)中所述的物理真空汽化中,將SiO熱汽化。
      8.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜用于包裝工業(yè)、顯示技術(shù)中和用于有機(jī)LED的用途。
      9.如權(quán)利要求1所述的阻隔薄膜用于有機(jī)光生伏打系統(tǒng)中,用于薄層光生伏打系統(tǒng)中,和用于結(jié)晶型硅模塊中的用途。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及阻隔薄膜,其中將含有無機(jī)阻隔物(3)(SiOx或AlOx)的基底薄膜(4)借助層合或擠出涂覆與耐候性保護(hù)層(1)合并,其中粘附促進(jìn)劑用作粘合層(2)。
      文檔編號B32B27/36GK102333649SQ201080008934
      公開日2012年1月25日 申請日期2010年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月28日
      發(fā)明者C·諾伊曼, E·貝爾, F·施瓦格爾, G·塞尤姆 申請人:贏創(chuàng)羅姆有限公司
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