專利名稱：殼體及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有黃褐色外觀的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)：
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾性涂層。相比這些傳統(tǒng)工藝，PVD鍍膜技術(shù)更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術(shù)可在產(chǎn)品外殼表面形成具有金屬質(zhì)感的裝飾性色彩層。然而現(xiàn)有技術(shù)中，利用PVD鍍膜技術(shù)于殼體表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛制備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黑色、白色等色系，能夠穩(wěn)定生產(chǎn)的顏色更是少之又少。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種通過PVD鍍膜形成黃褐色外觀的殼體。另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。一種殼體，包括一色彩層，該色彩層由氮氧鋁化合物組成，該色彩層中鋁元素的質(zhì)量百分含量為45% 50%,氧兀素質(zhì)量百分含量為40% 45氮兀素質(zhì)量百分含量為 10% 15%，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35之間， a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；以鋁為靶材，于基體上濺射由鋁金屬組成的打底層；以鋁為靶材，以氧氣和氮氣為反應(yīng)氣體，于打底層上濺射由氮氧鋁化合物組成的過渡層；以鋁為靶材，以氧氣和氮氣為反應(yīng)氣體，于打底層上濺射由氮氧鋁化合物組成的色彩層，該色彩層中鋁元素的質(zhì)量百分含量為45% 50%，氧元素質(zhì)量百分含量為40% 45%，氮元素質(zhì)量百分含量為10% 15%，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35之間，a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述殼體的制備方法在形成所述色彩層時，通過對靶材的選取、 反應(yīng)氣體氧氣和氮氣流量的設(shè)計和濺射時間的控制，從而達到使色彩層呈現(xiàn)黃褐色的目的，以該方法所制得的殼體呈現(xiàn)出真空鍍膜難以獲得的黃褐色外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。


圖I是本發(fā)明一較佳實施例殼體的剖視圖。圖2是圖I所示殼體的制作過程中所用磁控濺射設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
主要元件符號說明
殼體10
基體11
打底層12
過渡層13
色彩層14
磁控濺射設(shè)備I
真空室2
真空泵3
轉(zhuǎn)架4
鋁靶5
氣源通道具體實施例方式請參閱圖1，本發(fā)明較佳實施例的殼體10包括基體11、形成于基體11上打底層 12、形成于打底層12上的過渡層13及形成于過渡層13上的色彩層14。該色彩層14肉眼
直觀呈黃褐色?；w11的材質(zhì)可為不銹鋼、玻璃、陶瓷及塑料中的一種。該打底層12為鋁金屬層，其厚度大約為O. I O. 2微米，打底層11用于提高后續(xù)涂層的結(jié)合力。該過渡層13由氮氧鋁化合物(AlON)組成。過渡層13中鋁元素質(zhì)量百分含量為 60% 65%,氧兀素質(zhì)量百分含量為30% 35%,氮兀素質(zhì)量百分含量為5% 10%。過渡層13的厚度大約為O. 2 O. 6微米。該過渡層13用于更好的提高色彩層14的結(jié)合力。所述色彩層14由氮氧鋁化合物(AlON)組成。不同于過渡層13的是，色彩層14 中招元素的質(zhì)量百分含量為45% 50%,氧元素質(zhì)量百分含量為40% 45%,氮元素質(zhì)量百分含量為10% 15%。該色彩層14肉眼直觀呈現(xiàn)黃褐色，其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB 表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35之間，a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。 色彩層14的厚度可為O. 4 I. 2 μ m。所述打底層12、過渡層13及色彩層14可分別通過磁控濺射方法形成。上述殼體10的制作方法，包括以下步驟提供一基體11?；w11的材質(zhì)可為不銹鋼、玻璃、陶瓷及塑料中的一種。將基體11放入無水乙醇中進行超聲波清洗，以除去基體11表面的雜質(zhì)和油污等， 清洗完畢后烘干備用。請結(jié)合參閱圖2，提供一磁控濺射設(shè)備1，磁控濺射設(shè)備I可為一中頻磁控濺射設(shè)備，其包括一真空室2、用以對真空室2抽真空的真空泵3以及與真空室2相通的氣源通道
7。該真空室2內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)架4及多對相對設(shè)置的鋁靶5。轉(zhuǎn)架4帶動基體11做圓周運行，并且從每對相對設(shè)置的鋁靶5之間穿過。基體11在隨轉(zhuǎn)架4運行的同時也進行自轉(zhuǎn)。鍍膜時，濺射氣體與反應(yīng)氣體經(jīng)由氣源通道7進入真空室2。在基體11上濺射該打底層12。將經(jīng)上述清洗的基體11放置于磁控濺射設(shè)備I的轉(zhuǎn)架4上，對真空室2抽真空至7. O X 10_3 9. O X 10_3Pa后通入濺射氣體氬氣，氬氣流量為 150 200s ccm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)，基體11施加偏壓至-150 -250V，開啟鋁靶5， 鋁靶5的功率為8 10kW，調(diào)節(jié)真空室2內(nèi)溫度為100 150，占空比為40% 60%，設(shè)置所述轉(zhuǎn)架4的轉(zhuǎn)速為O. 5 I. Orpm(revolution per minute,轉(zhuǎn)/分鐘)對基體11派射 5 10分鐘，以于基體11表面形成所述由鋁金屬形成的打底層12。接著在打底層12上濺射該過渡層13。該步驟中，可保持基體11偏壓、轉(zhuǎn)架4轉(zhuǎn)速、鋁靶5功率及氬氣流量不變。持續(xù)向真空室2通入氮氣和氧氣,控制氮氣的流量在5 15sccm之間,氧氣的流量在5 15sccm之間賤射10 30min,以在打底層12上沉積該過渡層13。然后在過渡層13上濺鍍該色彩層14。該步驟中，可仍然保持基體11偏壓、轉(zhuǎn)架4 轉(zhuǎn)速、鋁靶5功率及氬氣流量不變。將氮氣流量調(diào)高至18 23sCCm之間，將氧氣流量調(diào)高至18 23sCCm之間，在過渡層13上沉積該色彩層14。濺射達20分鐘時色彩層14的顏色即可穩(wěn)定在所述色度區(qū)域，但沉積時間過長，使得色彩層14太厚將降低色彩層14的附著力，因此，濺射時間一般為20 60min。除上述較佳的實施例外，通過改變所述色彩層14的沉積過程中通入氮氣和氧氣的流量來改變色彩層14中鋁、氧及氮元素的質(zhì)量百分含量，可以得到不同色差值的色彩層
14,具體參數(shù)參見表2。表權(quán)利要求
1.一種殼體，包括一色彩層，其特征在于該色彩層由氮氧鋁化合物組成，該色彩層中鋁元素的質(zhì)量百分含量為45 % 50 %，氧元素質(zhì)量百分含量為40 % 45 %，氮元素質(zhì)量百分含量為10% 15%，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至 35之間，a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。
2.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該殼體包括基體，所述色彩層直接形成于該基體表面。
3.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該殼體包括基體、打底層及過渡層，該打底層為鋁金屬層，該過渡層由氮氧鋁化合物組成，該打底層直接形成于基體表面，該過渡層形成于該打底層上，該色彩層形成于該過渡層上。
4.如權(quán)利要求3所述的殼體，其特征在于該過渡層中鋁元素質(zhì)量百分含量為60% 65%,氧兀素質(zhì)量百分含量為30% 35%,氮兀素質(zhì)量百分含量為5% 10%。
5.如權(quán)利要求2或3所述的殼體，其特征在于所述基體的材質(zhì)為不銹鋼、玻璃、陶瓷及塑料中的一種。
6.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該色彩層通過磁控濺射方法形成，其厚度為O.4 I. 2 μ m0
7.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；以鋁為靶材，于基體上濺射由鋁金屬組成的打底層；以鋁為靶材，以氧氣和氮氣為反應(yīng)氣體，于打底層上濺射由氮氧鋁化合物組成的過渡層；以鋁為靶材，以氧氣和氮氣為反應(yīng)氣體，于打底層上濺射由氮氧鋁化合物組成的色彩層，該色彩層中鋁元素的質(zhì)量百分含量為45% 50%，氧元素質(zhì)量百分含量為40% 45%，氮元素質(zhì)量百分含量為10% 15%，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35之間，a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于濺射該色彩層是在如下條件進行氮氣流量為18 23sccm,氧氣流量為18 23sccm。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于濺射該色彩層還在如下條件進行真空度為7. 0X10—3 9. O X10_3Pa，鋁靶功率為8 10kW，以氬氣為濺射氣體，氬氣的流量為150 200sccm，施加于基體的偏壓為-150 -250V，占空比為40 60%，濺射時間為 20 60min。
10.如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于所述過渡層中鋁元素質(zhì)量百分含量為60% 65%,氧兀素質(zhì)量百分含量為30% 35%,氮兀素質(zhì)量百分含量為5% 10%。
11.如權(quán)利要求10所述的殼體的制作方法，其特征在于濺射該過渡層是在如下條件進行氮氣流量為5 15sccm，氧氣流量為5 15sccm，真空度為7. O X 10_3 9. O X 10 , 鋁靶功率為8 10kW，以氬氣為濺射氣體，氬氣的流量為150 200SCCm，施加于基體的偏壓為-150 -250V，占空比為40 60%，濺射時間為10 30min。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有黃褐色外觀的殼體，包括一色彩層，該色彩層由氮氧鋁化合物組成，該色彩層中鋁元素的質(zhì)量百分含量為45％～50％，氧元素質(zhì)量百分含量為40％～45％，氮元素質(zhì)量百分含量為10％～15％，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35之間，a*坐標(biāo)介于4至6之間，b*坐標(biāo)介于9至11之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。該殼體的色彩層可使殼體呈現(xiàn)出真空鍍膜難以制備的黃褐色，從而豐富了真空鍍膜層的顏色。
文檔編號B32B15/20GK102612281SQ201110026828
公開日2012年7月25日 申請日期2011年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月25日
發(fā)明者張新倍, 熊小慶, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司