專利名稱：殼體及殼體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及殼體的制作方法，尤其涉及一種具有漸變金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)(PVD)是一種非常環(huán)保的鍍膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的金屬膜層具有高亮度、高耐磨性和豐富色彩性的亮麗的金屬外觀等優(yōu)點，因此真空鍍膜在鋁、鋁合金及不銹鋼等基材表面裝飾性處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。殼體上形成的色彩漸變效果是指圖案、色彩、形態(tài)等各種同類特征逐漸的、有規(guī)律性的變化。傳統(tǒng)的消費性電子產(chǎn)品上的漸變都是單特征漸變，如色彩漸變或圖案漸變等，此種漸變效果較為單一，且容易在色彩或者圖案交界處，形成一條很不規(guī)則的變化的界限，從而影響了漸變效果，降低了產(chǎn)品的吸引力。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，本發(fā)明提供一種具有良好裝飾效果的殼體。另，還有必要提供一所述殼體的制作方法。一種殼體，其包括一透明基材及一設(shè)置于該透明基材上的油墨層，所述油墨層為半透明或透明油墨層，所述油墨層的表面厚度的大小呈漸進變化，在油墨層上形成有一金屬層，在該金屬層上形成有一油墨保護層。一種制造殼體的方法。提供一透明基材；
在該基材上漸變噴涂形成一半透明或透明油墨層，所述油墨層的表面厚度的大小呈漸進變化；
在該油墨層上形成有一金屬層；
在該金屬層上再噴涂形成有一油墨保護層。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述殼體的透明基材上形成有一半透明或透明油墨層，在該油墨層上形成有一金屬層，再在該金屬層上形成一保護的油墨層，因為所述油墨層的表面厚度的大小呈漸進變化，且油墨層的厚度呈現(xiàn)由淺至深、或由深至淺，或兩種變化方式交替變化，所以透過該基材未形成有油墨層及金屬層的一面看，該殼體呈現(xiàn)出漸進的立體感的金屬效果，使得所述殼體更具吸引力。


圖1是本發(fā)明另一較佳實施方式殼體的剖視放大示意圖。圖2為本發(fā)明一較佳實施例殼體形成漸進的油墨層示意圖。圖3為本發(fā)明一較佳實施例殼體噴涂過程的示意圖。圖4為本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括一透明基材及一設(shè)置于該透明基材上的油墨層，其特征在于:所述油墨層為半透明或透明油墨層，所述油墨層的表面厚度的大小呈漸進變化，在油墨層上形成有一金屬層，在該金屬層上形成有一油墨保護層。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于:所述油墨漸進層的厚度度的漸進變化為逐漸由大變小、或者逐漸由小變大，或者由大到小、由小到大交替漸進變化。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于:所述油墨漸進層包含有樹脂成分及非金屬類顆粒物質(zhì)。
4.如權(quán)利要求3所述的殼體，其特征在于:所述樹脂為丙烯酸尿烷樹脂。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于:所述金屬層為鋁、鉻或銀層，其厚度為0.5 0.8 μ m。
6.一種殼體的制作方法 提供一透明基材； 在該基材上漸變噴涂形成一半透明或透明油墨漸進層； 在該油墨層上通過磁控濺射形成有一金屬層； 在該金屬層上再噴涂形成有一油墨保護層。
7.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述油墨漸進層形成的方法如下:調(diào)整噴槍壓力0.1-0. 6MPa，噴槍進行鐘擺運動的搖擺頻率為5飛0Hz，使噴槍作鐘擺運動對基材進行噴涂油墨。
8.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述磁控濺射形成所述金屬層其方法如下:以氬氣為工作氣體，調(diào)節(jié)氬氣流量為10(T300sccm，于基材上施加-5(T-200V的偏壓，設(shè)置偏壓的占空比為309Γ80%，開啟鋁靶，設(shè)置鋁靶功率為8 13kw，沉積時間為10 30min。
9.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述油墨層包含有樹脂成分及非金屬類顆粒物質(zhì)。
10.如權(quán)利要求9所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述樹脂為丙烯酸尿烷樹脂。
11.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于:所述金屬層為鋁、鉻或銀金屬層，其厚度為0.5 0.8μπι。
全文摘要
本發(fā)明提供一種殼體，其包括一透明基材及一設(shè)置于該透明基材上的油墨層，所述油墨層為半透明或透明油墨層，所述油墨層的表面厚度的大小呈漸進變化，在油墨層上形成有一金屬層，在該金屬層上形成有一油墨保護層。本發(fā)明還提供一種所述殼體的制作方法。所述殼體具有金屬蝕刻的外觀效果。
文檔編號B32B15/08GK103171188SQ201110432
公開日2013年6月26日 申請日期2011年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月21日
發(fā)明者劉旭, 曹達華 申請人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司