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      可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法

      文檔序號:2457598閱讀:417來源:國知局
      專利名稱:可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種鍍膜玻璃,具體是一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
      背景技術(shù)
      低輻射鍍膜玻璃(又稱LOW-E玻璃),是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品,是既能像普通玻璃一樣讓室外的太陽能、可見光透過,又能像紅外反射鏡一樣將物體二次輻射熱反射回去的新一代鍍膜玻璃,能夠用于控制光線透過量、節(jié)約能源熱量以及改善環(huán)境。目前國內(nèi)市場上的高端鍍膜玻璃產(chǎn)品主要有三銀和雙銀低輻射鍍膜產(chǎn)品,其中三銀產(chǎn)品只是近兩年才進(jìn)入市場,主流的高端鍍膜玻璃還是雙銀低輻射鍍膜玻璃, 然而普通雙銀低輻射鍍膜產(chǎn)品,生產(chǎn)設(shè)備造價高昂,小型玻璃加工企業(yè)無法承受,且生產(chǎn)出的玻璃均勻性不好,邊緣效應(yīng)嚴(yán)重,易氧化,產(chǎn)品耐摩擦、抗劃傷及耐高溫能力差,不易長期儲存,并且很難進(jìn)一步加工出質(zhì)量較高的鋼化產(chǎn)品。

      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的技術(shù)目的解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種高質(zhì)量的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板和玻璃鍍膜,其特征在于,自玻璃基片向外玻璃鍍膜各膜層結(jié)構(gòu)為玻璃基板、第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、 第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層。作為優(yōu)選,所述第一、第二阻隔紅外線層為銀合金層。其中各膜層的材料為第一電介質(zhì)層為SiNxOy ;第二電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層為Si3N4 ;第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層為ZnAlOx ;第一阻隔紅外線層、第二阻隔紅外線層可采用現(xiàn)有的Ag-Cu合金、Ag-Zn合金、 Ag-Ni合金或者Ag-Ti合金材料制造;第一保護(hù)層、第二保護(hù)層為NiCrOx ;第五電介質(zhì)層為ZnSnO3 ;間隔電介質(zhì)層為SiNxOy。上述可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的制造工藝,采用真空磁控濺射鍍膜,包括以下步驟在玻璃基板上依次鍍制第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層;[0017]所述第一電介質(zhì)層和間隔電介質(zhì)層,通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的硅鋁靶在氮、氧、氬氛圍中濺射,優(yōu)選工藝氣體體積比為氬氣氮?dú)庋鯕?3 4 I氛圍,硅鋁靶的質(zhì)量比 Si Al =98 2。所述第一電介質(zhì)層的作用是a、阻止玻璃中的Na+向膜層中滲透;b、控制膜系的光學(xué)性能和顏色;c、增加膜層和玻璃基片之間的吸附力;所述間隔電介質(zhì)層的作用是通過干涉原理,使得上層的膜層為滿足降低輻射率的要求而厚度增加時,整體膜層仍然保持較高的透過率。所述第二電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的硅鋁靶在氮、氬氛圍中濺射,硅鋁靶的質(zhì)量比Si Al = 92 S0其作用是a、在阻隔紅外線層和電介質(zhì)層之間提供吸附力山、保護(hù)整個膜層結(jié)構(gòu),減少氧化,提高物理和化學(xué)性能;c、控制膜系的光學(xué)性能和顏色。所述第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的鋅鋁靶在氮、氬氛圍中濺射,鋅鋁靶的質(zhì)量比Zn Al = 98 2,其作用是a、對銀合金層起鋪墊作用,銀合金層在其上可以更好地成膜;b、保護(hù)銀合金層不被氧化。所述第一阻隔紅外線層、第二阻隔紅外線層通過直流平面陰極的合金銀靶在氬氣氛圍中濺射,其作用是可以降低輻射率,增加保溫或隔熱效果。所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層通過直流平面陰極鎳鉻靶在氧、氬氛圍中濺射,鎳鎘靶的質(zhì)量比Ni Cr = 80 20,其作用是保護(hù)銀合金層不被氧化。所述第五電介質(zhì)層,通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的鋅錫靶在氧、氬氛圍中濺射,鋅錫靶的質(zhì)量比Zn Sn = 50 50。其作用是a、保護(hù)整個膜層結(jié)構(gòu),減少氧化,提高物理和化學(xué)性能山、控制膜系的光學(xué)性能和顏色。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型的可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,在膜層中含有兩層具有紅外線反射能力的阻隔紅外線層和具有減少可見光反射以及保護(hù)阻隔紅外線層作用的電介質(zhì)層、間隔層。特別是采用銀合金作為阻隔紅外線層,少量合金金屬的加入可以細(xì)化晶粒,提高銀的硬度、耐磨性和抗燒損能力,還可以改善銀的抗硫化性能,使膜層更加致密、耐摩擦、抗劃傷、 耐高溫及抗硫化性能力大幅提升,另外使用高硬度且和玻璃材質(zhì)相近膜層作為電介質(zhì)層, 可以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品在鋼化、熱彎后能夠長期儲存,使加工流程由傳統(tǒng)的先鋼化后鍍膜,改為先鍍膜后鋼化,不僅可以使生產(chǎn)該產(chǎn)品的企業(yè)的生產(chǎn)效率得到很大的提高,生產(chǎn)成本得到降低, 同時產(chǎn)品的均勻性和邊緣效應(yīng)得到極大的改善,即使小型加工企業(yè)也可利用鍍膜后的玻璃產(chǎn)品生產(chǎn)出高質(zhì)量的雙銀低輻射產(chǎn)品,有利于節(jié)能環(huán)保產(chǎn)品的推廣。

      圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)用新型制造工藝的流程結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實(shí)施方式
      為了闡明本實(shí)用新型的技術(shù)方案及技術(shù)目的,
      以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
      對本實(shí)用新型做進(jìn)一步的介紹。如圖所示,一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板和玻璃鍍膜,自玻璃基板向外,玻璃及鍍膜各膜層結(jié)構(gòu)為玻璃基板、第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層,所述各膜層可以是單層或多層復(fù)合層。其中各膜層的材料為第一電介質(zhì)層為SiNxOy ;第二電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層為Si3N4 ;第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層為ZnAlOx ;第一阻隔紅外線層、第二阻隔紅外線層為Ag-Cu合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或者 Ag-Ti合金;第一保護(hù)層、第二保護(hù)層為NiCrOx ;第五電介質(zhì)層為ZnSnO3 ;間隔電介質(zhì)層為SiNxOy。本實(shí)用新型采用真空磁控濺射進(jìn)行玻璃鍍膜,包括以下步驟玻璃基板清洗干燥后,進(jìn)行預(yù)真空過渡,然后在玻璃基板上依次鍍制第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層。所述第一電介質(zhì)層和間隔電介質(zhì)層,通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的硅鋁靶在氮、氧、氬氛圍中濺射,硅鋁靶的質(zhì)量比Si Al = 98 2 ;所述第二電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的硅鋁靶在氮、氬氛圍中濺射,硅鋁靶的質(zhì)量比Si : Al = 92 : 8 ;所述第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的鋅鋁靶在氮、氬氛圍中濺射,鋅鋁靶的質(zhì)量比Zn Al = 98 2 ;所述第一阻隔紅外線層、第二阻隔紅外線層通過直流平面陰極的銀合金靶在氬氣氛圍中濺射;所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層通過直流平面陰極鎳鉻靶在氧、氬氛圍中濺射,鎳鎘靶的質(zhì)量比Ni Cr = 80 20;所述第五電介質(zhì)層,通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的鋅錫靶在氧、氬氛圍中濺射,鋅錫靶的質(zhì)量比 Zn : Sn = 50 : 50。具體工藝參數(shù)如下表,使用9個交流旋轉(zhuǎn)雙陰極,4個直流平面陰極,制出本實(shí)用新型可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下
      權(quán)利要求1.一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板和玻璃鍍膜,其特征在于,自玻璃基板向外,玻璃鍍膜各膜層依次為第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一、第二阻隔紅外線層為銀合金層
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,其中各膜層的材料為第一電介質(zhì)層為SiNxOy ;第二電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層為Si3N4 ;第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層為ZnAlOx ;第一阻隔紅外線層、第二阻隔紅外線層為Ag-Cu合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或者 Ag-Ti合金;第一保護(hù)層、第二保護(hù)層為NiCrOx ;第五電介質(zhì)層為ZnSnO3 ;間隔電介質(zhì)層為SiNxOy。
      專利摘要一種可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板和玻璃鍍膜,其特征在于,自玻璃基板向外,玻璃鍍膜各膜層依次為第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻隔紅外線層、第一保護(hù)層、間隔電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層、第二阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第五電介質(zhì)層、第六電介質(zhì)層。本實(shí)用新型的通過在玻璃膜層中設(shè)置兩層具有紅外線反射能力的阻隔紅外線層和具有減少可見光反射以及保護(hù)阻隔紅外線層作用的電介質(zhì)層、間隔層,大大改善了產(chǎn)品的均勻性和邊緣效應(yīng),提高了產(chǎn)品的抗氧化性、耐磨性,使產(chǎn)品在承受長途運(yùn)輸、各種加工預(yù)處理和高溫處理后,外觀和性能均不會受到影響。
      文檔編號B32B33/00GK202344955SQ201120478130
      公開日2012年7月25日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
      發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏
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