專利名稱：改良的受保護(hù)的聚合物膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種膜，特別是一種改良的受保護(hù)的聚合物膜。
背景技術(shù)：
水分往往會(huì)透過聚合物膜，但如果水分透過對(duì)固定在該膜上或形成在該膜上的部件造成損害的話，顯然這是不被允許的。如當(dāng)有機(jī)電致發(fā)光裝置暴露于水分中時(shí)，其可能會(huì)遇到輸出降低或過早出現(xiàn)故障的問題?，F(xiàn)在的采用包封這種裝置來達(dá)到延長(zhǎng)其壽命的目的，但這僅僅適用于不具有透濕性的玻璃基材上。因此，急需一種表現(xiàn)出低透濕性的受保護(hù)的聚合物膜。
發(fā)明內(nèi)容針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足之處，本實(shí)用新型的目的是提供一種透濕可能性減弱的聚合物膜。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)手段來實(shí)現(xiàn)的一種改良的受保護(hù)的聚合物膜，包括一聚合物膜基材，所述的聚合物膜基材的上表面設(shè)置有一氧化硼層，所述的氧化硼層的上表面設(shè)有一無(wú)機(jī)阻擋層；所述的聚合物膜基材與氧化硼層之間還設(shè)有一第二無(wú)機(jī)阻擋層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是由于采用上述結(jié)構(gòu)，通過由氧化硼層和無(wú)機(jī)阻擋層構(gòu)成的保護(hù)結(jié)構(gòu)，可以用來顯著降低聚合物膜原有的能夠使水分透過施加有該保護(hù)結(jié)構(gòu)的表面的可能性。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、構(gòu)思新穎，可用于抑制水分透過，具有廣泛的實(shí)用意義。

附圖I為本實(shí)用新型改良的受保護(hù)的聚合物膜的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中各標(biāo)號(hào)分別是(I)聚合物膜基材，(2)氧化硼層，(3)無(wú)機(jī)阻擋層，(4)第二無(wú)機(jī)阻擋層。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明參看圖1，本實(shí)用新型一種改良的受保護(hù)的聚合物膜，包括一聚合物膜基材1，所述的聚合物膜基材I的上表面設(shè)置有一氧化硼層2，所述的氧化硼層2的上表面設(shè)有一無(wú)機(jī)阻擋層3 ;所述的聚合物膜基材I與氧化硼層2之間還設(shè)有一第二無(wú)機(jī)阻擋層4。所述的無(wú)機(jī)阻擋層3和第二無(wú)機(jī)阻擋層4可為包含無(wú)機(jī)氧化物、硼化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、硼氧化物或碳氧化物、類金剛石炭層以及金屬的一種或幾種。以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但是凡未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。權(quán)利要求1.一種改良的受保護(hù)的聚合物膜，包括一聚合物膜基材，其特征在于所述的聚合物膜基材的上表面設(shè)置有一氧化硼層，所述的氧化硼層的上表面設(shè)有一無(wú)機(jī)阻擋層；所述的聚合物膜基材與氧化硼層之間還設(shè)有一第二無(wú)機(jī)阻擋層。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種改良的受保護(hù)的聚合物膜，包括一聚合物膜基材，所述的聚合物膜基材的上表面設(shè)置有一氧化硼層，所述的氧化硼層的上表面設(shè)有一無(wú)機(jī)阻擋層；所述的聚合物膜基材與氧化硼層之間還設(shè)有一第二無(wú)機(jī)阻擋層。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、構(gòu)思新穎，可用于抑制水分透過，具有廣泛的實(shí)用意義。
文檔編號(hào)B32B9/04GK202434581SQ201120525080
公開日2012年9月12日 申請(qǐng)日期2011年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月15日
發(fā)明者莫醒獻(xiàn) 申請(qǐng)人:莫醒獻(xiàn)