專利名稱：用于直接或間接地涂覆液態(tài)的至糊狀的涂覆介質(zhì)的裝置和運(yùn)行這種裝置的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面上的裝置，其帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)和可與涂覆機(jī)構(gòu)相關(guān)聯(lián)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)，無涂覆的運(yùn)行階段由裝置的直至釋放涂覆介質(zhì)到配對面上的開啟、到配對面上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征，該收集系統(tǒng)包括收集設(shè)備和與其至少間接地共同起作用的且相對其和/或涂覆機(jī)構(gòu)可平移的相對其和/或涂覆機(jī)構(gòu)可平移的呈片狀的元件，該呈片狀的元件帶有至少一個在與收集設(shè)備背離的端部區(qū)域處的輪廓邊緣，其在無涂覆的運(yùn)行階段期間穿過流掛的情形中描述了定義切割高度的相對配對面的距離。此外，本發(fā)明涉及一種用于運(yùn)行此類裝置的方法。
背景技術(shù)：
在本發(fā)明的意義中材料幅面理解為在長度方向和寬度方向上相比在高度方向上帶有顯著較大的延伸的平面結(jié)構(gòu)，其中，在長度方向上的延伸同樣顯著大于在寬度方向上。其可以是纖維材料幅面、塑料幅面或織物幅面。在特別有利的方式中，本發(fā)明適合用于纖維材料幅面形式的材料幅面的涂層和/或美化。該纖維材料幅面可以紙幅面、紙板幅面或薄紙幅面形式存在。液態(tài)的直至糊狀的介質(zhì)作為涂覆介質(zhì)得到使用，其適合于美化材料幅面的表面且/或鑒于之后的使用目的突出確定的功能。優(yōu)選地，包含色素、輔料和其它添加劑的涂層顏料形式的涂覆介質(zhì)得到使用。然而此外，如下涂覆介質(zhì)同樣是可能的，例如膠水或淀粉或帶有用于產(chǎn)生熱的功能層或其它的功能層的性能的。用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個單層的或多層的自由下落的流掛形式涂覆到可移動的材料幅面上的裝置以不同的實(shí)施方案由現(xiàn)有技術(shù)預(yù)先已知。在直接涂覆的情形中，自由下落的流掛被直接涂到材料幅面的表面上，在間接涂覆的情形中該流掛例如被非接觸式地輸出到具有可移動的表面的傳遞元件處，該傳遞元件然后將涂覆介質(zhì)傳遞到材料幅面上。依賴于各個涂覆機(jī)構(gòu)的構(gòu)造，要么直接在涂覆機(jī)構(gòu)的輸出孔處在其定向的情形中在垂直方向上向下(也就是說在重力方向上)要么在輪廓邊緣處在涂覆介質(zhì)在至少一個合適的平面處的在前面的引導(dǎo)之后實(shí)現(xiàn)自由下落的流掛的構(gòu)成。在后面所提及的實(shí)施方案中，從涂覆機(jī)構(gòu)的各個噴嘴中的流出同樣可在垂直的方向上(在重力方向上或相反地)實(shí)現(xiàn)。此外，如下實(shí)施方案是預(yù)知的，在其中輪廓邊緣由單獨(dú)地與涂覆機(jī)構(gòu)間隔地布置的合適的平面構(gòu)成。此類實(shí)施方案尤其適合用于構(gòu)造成多層的涂覆流掛。為了避免材料幅面的涂層的廢品和/或用于涂覆涂覆介質(zhì)的裝置在其與直至穩(wěn)定地構(gòu)造成自由下落的流掛的開始和/或流掛的結(jié)束和/或運(yùn)行中斷相應(yīng)的運(yùn)行階段中的污染，涂覆機(jī)構(gòu)配有用于涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)。該收集系統(tǒng)包括至少一個呈片狀的元件，其用于涂覆介質(zhì)在至收集池和其它收集設(shè)備的期望的方向上的導(dǎo)出或引開。該呈片狀的元件為此相對水平平面傾斜地布置且在裝置的運(yùn)行階段上由至少兩個功能位置來表征，其中，在裝置的由直至在構(gòu)造成穩(wěn)定的流掛之后的涂覆的開啟和/或涂覆的結(jié)束和/或運(yùn)行中斷階段來表征的運(yùn)行階段中占據(jù)第一功能位置。呈片狀的元件為此在兩個功能位置之間相對涂覆機(jī)構(gòu)、尤其是相對由其輸出的自由下落的流掛可被調(diào)節(jié)。在裝置的無涂覆的運(yùn)行階段中，呈片狀的元件于是被帶到相應(yīng)的第一功能位置中。在其中，進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域在呈片狀的元件的在出口側(cè)的朝向收集池指向的端部區(qū)域上方在垂直的方向上定向。由此形成一個歪斜的平面，在其處待導(dǎo)出的涂覆介質(zhì)被引導(dǎo)到相應(yīng)的在下面的收集設(shè)備中。在此，涂覆介質(zhì)在由直至介質(zhì)的釋放的開啟或涂覆的結(jié)束或裝置的運(yùn)行中斷所表征的運(yùn)行階段中的導(dǎo)出和引開在材料幅面的運(yùn)動方向上觀察在該運(yùn)動方向上或與該運(yùn)動方向相反地定向。這主要依賴于收集設(shè)備的布置。如果呈片狀的元件是收集設(shè)備的直接的組成部分(也就是說以與其集成的結(jié)構(gòu)類型實(shí)施)，由收集設(shè)備和呈片狀的元件構(gòu)成的整個收集系統(tǒng)和/或收集機(jī)構(gòu)彼此相對地平移。為了避免在裝置的包圍其的構(gòu)件處由于噴灑的涂覆介質(zhì)的污染且此外避免自由下落的、輸出的或者切斷的流掛的不期望的收縮，僅可以非常小的速度在各個功能位置之間實(shí)現(xiàn)平移。因此，在未預(yù)料的中斷的情況中在該用于涂覆涂覆介質(zhì)的裝置的運(yùn)行方式中經(jīng)常沒有足夠的反應(yīng)時間可供使用。例如由文獻(xiàn)DE10359676A1預(yù)知一種相對涂覆機(jī)構(gòu)和收集設(shè)備可平移的呈片狀的元件的實(shí)施方案。其在其與收集設(shè)備背離的端部區(qū)域處具有構(gòu)造成切割邊緣的輪廓邊緣，其在所提及的平移的情形中首先穿過流掛。一般來說，穿過區(qū)域在垂直的方向上關(guān)于自由下落的流掛的總下落高度相對較上部地布置，這導(dǎo)致涂覆介質(zhì)的較強(qiáng)的噴灑且進(jìn)而導(dǎo)致涂覆機(jī)構(gòu)的周圍環(huán)境的污染。為了在帶有可平移的收集設(shè)備和/或涂覆機(jī)構(gòu)的實(shí)施方案的情形中降低污染，由DE102007000776A1預(yù)知如下，即，如此地布置收集設(shè)備，即，在其駛?cè)牖蝰偝龅那樾沃性诹鲯毂辉谑占O(shè)備處的輪廓邊緣穿過的情形中可達(dá)到小于自由下落的流掛的總下落高度的40%的在輪廓邊緣與配對面之間的部分下落高度。此類實(shí)施方案的另一問題在于為了清潔目的至收集設(shè)備的部分非常差的可接近性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明基于如下目的，即，創(chuàng)造一種用于來自自由下落的掛流的液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)，借助于該收集系統(tǒng)在由裝置直的至構(gòu)造成穩(wěn)定的流掛的開啟或涂覆的結(jié)束或用于涂覆液態(tài)的直至糊狀的涂覆介質(zhì)的裝置的運(yùn)行中斷階段來表征的運(yùn)行階段中可實(shí)現(xiàn)設(shè)施的較少的污染程度。此外確保了在運(yùn)行期間的較好的可接近性和可清潔性，以便于對于高粘性的涂覆介質(zhì)或者帶有較高的固體材料含量的涂覆介質(zhì)而言可使用此類
>J-U ρ α裝直。根據(jù)本發(fā)明的解決方案由權(quán)利要求1和10的特征來表征。有利的設(shè)計方案在從屬權(quán)利要求中進(jìn)行說明。

一種用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面上的裝置，其帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)和可與涂覆機(jī)構(gòu)相關(guān)聯(lián)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)，無涂覆的運(yùn)行階段由裝置的直至釋放涂覆介質(zhì)到配對面上的開啟、到配對面上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征，該收集系統(tǒng)包括收集設(shè)備和與其至少間接地共同起作用的且相對其和/或涂覆機(jī)構(gòu)可平移的呈片狀的元件，該呈片狀的元件帶有至少一個在與收集設(shè)備背離的端部區(qū)域處的輪廓邊緣，其在無涂覆的運(yùn)行階段期間穿過流掛的情形中描述了定義切割高度的相對配對面的距離，其特征在于，呈片狀的元件在無涂覆的運(yùn)行階段期間相對水平平面以±1° (含)直至±20°、優(yōu)選地±5 (含)°直至±15°的角度布置且在流掛被輪廓邊緣穿過的情形中的切割高度為在5mm (含)直至100mm、優(yōu)選地5mm至60mm、特別優(yōu)選地IOmm至40mm、非常特別優(yōu)選地IOmm至30mm之間。流掛的總高度定義了在重力的方向上由在涂覆機(jī)構(gòu)處的輪廓邊緣直至流掛碰到其上的配對面的距離。在直接的涂覆的情形中，材料幅面充當(dāng)配對面，在間接涂覆的情形中涂覆設(shè)備的元件、尤其是輥或滑板充當(dāng)配對面。在此，在涂覆機(jī)構(gòu)處的輪廓邊緣可直接在涂覆機(jī)構(gòu)處的輸出孔處在其逆著重力方向的垂直定向的情形中(例如狹縫模)構(gòu)成或在涂覆機(jī)構(gòu)或傳遞元件處構(gòu)成的傾斜的平面(例如滑模(slide die))。該切割高度與配對面直至輪廓邊緣與流掛的切割位置的距離相符，該切割位置由可平移的呈片狀的元件在涂覆過程的啟動或結(jié)束的情形中引起。根據(jù)本發(fā)明的解決方案由于呈片狀的元件的所選擇的角度使得待引開的或者待導(dǎo)出的涂覆介質(zhì)以不同粘性在傾斜的平面處的引導(dǎo)成為可能。通過自由下落的流掛的所提及的較小的切割高度，在裝置的這些無涂覆的運(yùn)行狀態(tài)中呈片狀的元件的駛?cè)牒婉偝隹上鄬^快地且容易地在沒有由于涂覆介質(zhì)的噴灑引起的較高的污染程度的情形中實(shí)現(xiàn)。為了在駛?cè)氲皆谘b置的由直至構(gòu)造成穩(wěn)定的流掛的開啟或涂覆的中斷或裝置的運(yùn)行中斷表征的運(yùn)行階段的功能位置中的情形中改善涂覆設(shè)備的功能性，呈片狀的元件的在駛?cè)氲焦δ芪恢弥械那樾沃谐蛄鲯烨遗c收集設(shè)備背離的端部區(qū)域在改進(jìn)方案中以至少一個構(gòu)造成切割邊緣的輪廓邊緣來實(shí)施。輪廓邊緣、尤其是切割邊緣優(yōu)選地是呈片狀的元件的集成的組成部分或在構(gòu)造成結(jié)構(gòu)單元的情形中與其相連接。在此，該連接可傳力連接或形狀配合連接或材料連接方式實(shí)施。切割邊緣是在呈片狀的元件的整個寬度上也就是說橫向于穿過用于涂覆的裝置的穿過方向延伸的優(yōu)選鋒利的邊緣，其在流掛的方向上相對設(shè)置用于涂覆介質(zhì)在呈片狀的元件處的引導(dǎo)和導(dǎo)出的表面區(qū)域上升地實(shí)施。在此，切割邊緣以相對可通過設(shè)置用于引導(dǎo)涂覆介質(zhì)的在呈片狀的元件處的表面區(qū)域來描述的平面的某一角度延伸。在呈片狀的元件與切割邊緣之間的角度在100° (含)直至170°、優(yōu)選地120°至160°的范圍中來選擇。該切割邊緣由呈片狀的元件的朝向流掛側(cè)的或者背離收集設(shè)備的端部區(qū)域伸出且朝向構(gòu)造成的自由下落的流掛上升地實(shí)施。通過切割邊緣，在收集裝置駛?cè)氲焦δ芪恢弥械那樾沃性谥敝翗?gòu)造成自由下落的流掛的開啟或涂覆的中斷或用于將液態(tài)的直至糊狀的涂覆介質(zhì)的運(yùn)行中斷的情形中實(shí)現(xiàn)流掛的定義的分開。由此，流掛可以較小的偏轉(zhuǎn)被轉(zhuǎn)移到收集裝置中。這類似地同樣適用于從用于優(yōu)化流掛的釋放的功能位置的駛出。在切割的流掛處的涂覆介質(zhì)的量較低且由此引起在導(dǎo)向輥或其它機(jī)械組成部分處的輕微污染。此外，呈片狀的元件、尤其是平的表面區(qū)域相對自由下落的流掛以105° (含)直至165°、優(yōu)選地120° (含)直至150°的范圍中的角度布置。由此，流掛的分割和涂覆介質(zhì)在呈片狀的元件處的導(dǎo)出在將其駛?cè)氲焦δ芪恢弥械那樾沃斜粌?yōu)化。
在另一有利的構(gòu)造方案中，為了在呈片狀的元件的流掛側(cè)的端部區(qū)域處的輪廓邊緣的區(qū)域中、尤其地在切割邊緣之后的清潔設(shè)置有用于清潔或者沖洗的機(jī)構(gòu)。其在涂覆介質(zhì)的導(dǎo)出方向上位于切割邊緣之配屬于呈片狀的元件的進(jìn)入側(cè)的端部區(qū)域。在切割邊緣的背面處也就是說在與在呈片狀的元件處的導(dǎo)出方向相反地定向的表面區(qū)域處的形成液滴的情形中，由此在其處構(gòu)成的沉積物可被有效地且及時地清除。切割邊緣優(yōu)選地此外通過由進(jìn)口側(cè)的也就是說與收集設(shè)備背離的端板區(qū)域離開的在3mm (含)直至80mm、優(yōu)選地5mm (含)直至50mm、特別優(yōu)選地5mm (含)直至30mm、非常特別優(yōu)選地IOmm (含)直至30mm的范圍中的延伸來表征。在此,該延伸描述了穿過切割邊緣的表面在投影到設(shè)置用于導(dǎo)出和引導(dǎo)涂覆介質(zhì)的表面區(qū)域的平面中的長度。厚度例如處在5_至20_的范圍中。相對設(shè)置用于導(dǎo)出和引導(dǎo)涂覆介質(zhì)的表面區(qū)域的切割角度可例如處在25° (含)直至60°的范圍中。根據(jù)一種特別有利的實(shí)施方案作如下設(shè)置，即，切割邊緣額外地配有滴邊緣。該滴邊緣同樣在裝置的寬度方向上布置在呈片狀的元件的整個延伸上且優(yōu)選地在材料幅面的通過方向上或逆著通過方向在安裝位置中看布置在切割邊緣的延伸區(qū)域內(nèi)。此外，其布置在進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域之前且通過相比切割邊緣在投影到通過用于導(dǎo)出和引導(dǎo)涂覆介質(zhì)的表面區(qū)域描述的平面中的情形中的較短的延伸來表征且以相比切割邊緣較小的角度布置在切割邊緣之下。切割邊緣和滴邊緣優(yōu)選地在進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域的相同的區(qū)域中與呈片狀的元件相聯(lián)接或者相連接。滴邊緣提供了如下優(yōu)點(diǎn)，即，由茶壺效應(yīng)構(gòu)造成的可在切割邊緣的背壁上在此流下的顏料滴不可到達(dá)到布置在下面的收集設(shè)備中而是可到達(dá)到待涂層的配對面、尤其是材料幅面上。在無涂覆的運(yùn)行方式中在呈片狀的元件的功能位置中，滴邊緣相對自由下落的流掛以90° (含)直至160°、優(yōu)選地95°直至145°、特別優(yōu)選地95°直至120°的范圍中的角度布置。在130°至145°的角度范圍同樣是有利的。在一種特別有利的實(shí)施方案中，收集設(shè)備位置固定地布置在裝置中且呈片狀的元件被相對其可調(diào)節(jié)地支撐。用于調(diào)整呈片狀的元件的各個功能位置的調(diào)節(jié)成本和其的支承成本由此被明顯降低，尤其地當(dāng)在收集設(shè)備處的呈片狀的元件根據(jù)一種特別優(yōu)選的構(gòu)造方案相對其可平移和/或可擺動地被支撐時。在特別有利的實(shí)施方案中，呈片狀的元件可以相對功能位置以某一角度傾翻，優(yōu)選地傾翻到在垂直的方向上定向的位置中。在一種備選的構(gòu)造方案中，呈片狀的元件可實(shí)施成帶有自身的引導(dǎo)設(shè)備和調(diào)節(jié)設(shè)備的不與收集設(shè)備聯(lián)接的單獨(dú)的元件。另一特別有利的實(shí)施方案在于，呈片狀的元件如此地可安裝或者可轉(zhuǎn)動地被支撐，其中，呈片狀的元件相對收集設(shè)備至少可被擺動到豎直的位置中。由此，在收集池布置在下方的情況中形成在正常的涂覆運(yùn)行期間被收集裝置占據(jù)的另一功能位置中的改善的接近的可能性。一種根據(jù)本發(fā)明的用于運(yùn)行用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面上的裝置的方法，該裝置帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)和可與涂覆機(jī)構(gòu)相關(guān)聯(lián)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)，無涂覆的運(yùn)行階段由裝置的直至釋放涂覆介質(zhì)到配對面上的開啟、到配對面上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征，該收集系統(tǒng)包括收集設(shè)備和與其至少間接地共同作用的且相對其和/或涂覆機(jī)構(gòu)可平移的帶有至少一個在與收集設(shè)備背離的端部區(qū)域處的輪廓邊緣尤其是切割邊緣的呈片狀的元件，其在無涂覆的運(yùn)行階段期間在穿過流掛的情形中描述了定義切割高度的相對配對面的距離，其特征在于，呈片狀的元件在涂覆開始或結(jié)束或中斷時被帶到相對涂覆機(jī)構(gòu)的功能位置中，在其中該呈片狀的元件至少相對水平平面以±1° (含)直至±20°、優(yōu)選地±5° (含)直至±15°的角度布置且在流掛被所述輪廓邊緣尤其是切割邊緣穿過的情形中獲得在5_ (含)直至100mm、優(yōu)選地5_至60mm、特別優(yōu)選地IOmm至40mm、非常特別優(yōu)選地IOmm至30mm的范圍中的切割高度,其中，呈片狀的元件在無涂覆的與通過涂覆表征的運(yùn)行階段的功能位置之間以在50mm/s至500mm/s、優(yōu)選地50mm/s (含)直至200mm/s的范圍中的速度被調(diào)節(jié)。關(guān)于由此得出的優(yōu)點(diǎn)參照對于裝置的前面所提及的實(shí)施方案。在特別有利的方式中，該方法適合于根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的裝置。也被稱作平移板的呈片狀的元件的根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)造提供了以少許的成本和較少的污染程度在各個功能位置之間快速變換的優(yōu)點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明的解決方案適合于任何形式的流掛涂覆機(jī)構(gòu)且不限制于具體的實(shí)施方案。在此，在裝置的無涂覆的運(yùn)行階段中在收集系統(tǒng)的功能位置中的涂覆介質(zhì)的導(dǎo)出在幅面移動方向上或逆著幅面移動方向?qū)崿F(xiàn)。相應(yīng)地，呈片狀的元件由進(jìn)口至出口看的上升相應(yīng)地在材料幅面移動方向上或逆著材料幅面移動方向定向。收集系統(tǒng)可處在流掛的低側(cè)上。幅面導(dǎo)向可在流掛碰到幅面上的位置處上升地、下降地或水平地實(shí)現(xiàn)。在上升的幅面導(dǎo)向的情形中，收集系統(tǒng)在此處在流掛之前，在下降的幅面導(dǎo)向的情形中處在之后。


下面，借助附圖對根據(jù)本發(fā)明的解決方案進(jìn)行說明。其中:圖1以示意性地非常簡化的圖示形式顯示了用于涂覆液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)的根據(jù)本發(fā)明所實(shí)施的裝置；圖2a以示意性地非常簡化的圖示形式顯示了在駛?cè)牖驈牧鲯熘旭偝龅那樾沃械某势瑺畹脑奈恢?，流掛被擾流器邊緣、尤其是剪切邊緣的穿過；圖2b以示意性地非常簡化的圖示形式顯示了在功能位置I中的位置；圖3以示意性地非常簡化的圖示形式借助根據(jù)圖1的細(xì)節(jié)以轉(zhuǎn)動180°的圖示形式顯示了呈片狀的元件的一種特別有利的實(shí)施方案的構(gòu)造；圖4a和4b在使用在根據(jù)圖1的裝置中的情形中借助這些不同的功能位置的剖面顯示了根據(jù)圖1至3的呈片狀的元件的一種有利的構(gòu)造方案；圖5典型地顯示了帶有與纖維材料幅面導(dǎo)向方向相反地定向的收集系統(tǒng)；圖6典型地以示意性簡化的圖示形式顯示了用于沖洗剪切邊緣和呈片狀的元件的機(jī)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式圖1以示意性地簡化的圖示形式顯示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施的用于涂覆液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)到纖維材料幅面F形式的可移動的材料幅面上的裝置I。為了顯示各個在說明書中所提及的方向，典型地添加坐標(biāo)系到裝置I處。X方向描述了裝置I的縱向，其與纖維材料幅面F穿過其的通過方向一致。Y方向描述了寬度方向，也就是說橫向于纖維材料幅面的通過方向的方向，且Z方向與高度方向相符。裝置I此處作為單獨(dú)的、也就是說獨(dú)立的設(shè)備示出。其作為在線裝置可緊鄰地在用于制造纖維材料幅面F的裝置的下游，其中，纖維材料幅面F的引導(dǎo)于是直接從用于制造纖維材料幅面F的機(jī)器到裝置I中實(shí)現(xiàn)。在裝置I構(gòu)造成離線裝置的情形中，涂層在時間上和地點(diǎn)上與纖維材料幅面F的制造分開地實(shí)現(xiàn)。纖維材料幅面F于是作為卷被提供，其為了涂層的目的被展開。裝置I包括至少一個涂覆機(jī)構(gòu)2，其在纖維材料幅面F上方相對待涂層的配對面(此處纖維材料幅面F的表面4)間隔地布置。涂覆機(jī)構(gòu)2用于將液態(tài)直至糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛3形式涂覆到可移動的表面上，其在根據(jù)圖1的直接涂覆的情形中對應(yīng)纖維材料幅面F的由纖維材料幅面表面H)構(gòu)成的表面4，在間接的、此處未示出的涂覆的情形中對應(yīng)傳遞元件的表面。裝置I對此包括至少一個涂覆機(jī)構(gòu)2，其布置在該裝置的延伸幅面或者纖維材料幅面F之上且相對纖維材料幅面的與待涂覆的表面4間隔地布置。在此，涂覆機(jī)構(gòu)2用于將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛的形式涂覆到纖維材料幅面F的表面4上。此處典型地示出了帶有在擺動力方向上定向的用于涂覆介質(zhì)的輸出孔6的涂覆機(jī)構(gòu)2的涂覆頭5。纖維材料幅面F在輸出孔6處相對其被順著引導(dǎo)。運(yùn)動方向借助于箭頭顯示。在此，纖維材料幅面F的引導(dǎo)典型地經(jīng)由兩個轉(zhuǎn)向或者導(dǎo)向輥7和8實(shí)現(xiàn)，其此處在涂覆機(jī)構(gòu)2兩側(cè)與其間隔地布置且因此使得在原本的涂覆區(qū)域9兩側(cè)支撐纖維材料幅面F成為可能，涂覆區(qū)域9的特征在于自由落體的流掛3碰到纖維材料幅面F上。顯然，示出的涂覆機(jī)構(gòu)2此處僅是典型的。該涂覆機(jī)構(gòu)可不同形式地實(shí)施且適合于涂單層或多層流掛地構(gòu)造成。為了在裝置I的由裝置I直至釋放涂覆介質(zhì)到配對面4上的開啟、到配對面4上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征的運(yùn)行階段中收集來自涂覆機(jī)構(gòu)2的涂覆介質(zhì)，涂覆機(jī)構(gòu)2配有收集系統(tǒng)10。其用于防止涂覆介質(zhì)碰到纖維材料幅面F或平躺的機(jī)械部件的導(dǎo)向區(qū)域中的和由其引出，其中，同樣可實(shí)現(xiàn)到在收集系統(tǒng)10與涂覆機(jī)構(gòu)2之間的封閉的循環(huán)中的饋入。為此，收集系統(tǒng)10包括收集設(shè)備11和與其相聯(lián)接的用于在該運(yùn)行階段中將涂覆介質(zhì)導(dǎo)出且引導(dǎo)到收集設(shè)備11中的呈片狀的元件12。收集設(shè)備11可典型地構(gòu)造成收集池或收集槽，其橫向于纖維材料幅面F的通過方向在裝置I的寬度上延伸。用于構(gòu)造平面的傾斜的用于引導(dǎo)和導(dǎo)出涂覆介質(zhì)到收集池或收集槽中的表面區(qū)域13的呈片狀的元件12與其共同起作用。收集系統(tǒng)10如此地實(shí)施和布置，即，呈片狀的元件在裝置I的由涂覆介質(zhì)的涂覆表征的另外的運(yùn)行階段中釋放至纖維材料幅面F的流掛3。在圖1中示出的是收集系統(tǒng)10和其單個部件在由裝置I直至釋放涂覆介質(zhì)到配對面4上的開啟、到配對面4上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征的且不帶有到纖維材料幅面F上的涂覆的運(yùn)行階段中的位置，在其中呈片狀的元件12布置在其功能位置I中且使得涂覆介質(zhì)到收集設(shè)備11中的導(dǎo)出和引導(dǎo)成為可能。呈片狀的元件12可以是收集設(shè)備11的集成的組成部分或構(gòu)造成單獨(dú)的元件，其與收集設(shè)備11共同起作用，然而不與其相聯(lián)接。呈片狀的元件12在裝置I的寬度方向上，也就是說橫向于纖維材料幅面F的移動方向?qū)嵤┣覂?yōu)選地在裝置I的整個寬度上延伸，然而至少在構(gòu)造成的流掛3的寬度上在纖維材料幅面F的寬度上延伸。在示出的特別有利的實(shí)施方案中，收集設(shè)備11是位置固定地也就是說靜止地布置且呈片狀的元件12與收集設(shè)備11相聯(lián)接，優(yōu)選地在其處且相對其可移動到功能位置I中和從其中移出地且優(yōu)選地額外地可擺動地被支撐。呈片狀的元件12在最簡單的情況中構(gòu)造成薄板，且以其引導(dǎo)或者導(dǎo)引涂覆介質(zhì)的表面描述平的表面區(qū)域13。為了實(shí)現(xiàn)在呈片狀的元件12處的涂覆介質(zhì)的輸出運(yùn)動或者導(dǎo)出運(yùn)動，關(guān)于在安裝位置中的裝置I該呈片狀的元件在其功能位置I中相對水平平面傾斜地且傾斜地相對自由下落的流掛3定向。水平的平面以Eh標(biāo)明。這在安裝位置中對應(yīng)于水平面。該傾斜在朝向流掛3的方向上看上升地實(shí)現(xiàn)。呈片狀的元件12具有與收集設(shè)備11共同作用的流出側(cè)的也就是說朝向收集設(shè)備11指向的端部區(qū)域15和接受來自自由下落的流掛3的涂覆介質(zhì)的進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14。進(jìn)口側(cè)也就是說與涂覆設(shè)備11背離的端部區(qū)域14在該功能位置I中在垂直的方向上布置在出口側(cè)的朝向涂覆設(shè)備11指向的端部區(qū)域15之上。呈片狀的元件12相對水平平面Eh的傾斜通過在±1° (含)直至±20°、優(yōu)選地±5° (含)直至±15°的范圍中的角度Y來表征。在此，偏轉(zhuǎn)如此地實(shí)現(xiàn)，即，出口側(cè)的也就是說朝向收集設(shè)備11指向的端部區(qū)域15布置在水平平面Eh的區(qū)域中，且進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14布置在水平平面Eh之上也就是說豎直方向上與水平平面Eh間隔地布置。在示出的功能位置I中，呈片狀的元件12布置在涂覆機(jī)構(gòu)2與纖維材料幅面F自身的導(dǎo)向路徑之間且由此防止自由下落的流掛3碰到纖維材料幅面F和裝置I的處在下面的組成部分的表面4上。收集裝置11和呈片狀的元件12因此在空間上靠近涂覆機(jī)構(gòu)2地布置。平的充當(dāng)在呈片狀的元件12處的滑動面和導(dǎo)向面的表面區(qū)域13的定向且進(jìn)而由進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14至出口側(cè)的端部區(qū)域15的延伸可按照實(shí)施方案、布置方案和實(shí)際情況在纖維材料幅面F的移動方向上或逆著纖維材料幅面F的移動方向?qū)崿F(xiàn)。圖1顯示了在移動方向上的定向。涂覆介質(zhì)的導(dǎo)出在圖1中因此在纖維材料幅面F的運(yùn)動方向上看在裝置I的長度方向上實(shí)現(xiàn)。與此相對，圖5典型地以示意性地簡化的圖示形式顯示了逆著移動方向的定向。在此，原本的收集池或收集槽的位置可通過呈片狀的元件12的構(gòu)造來改變。在通過涂覆介質(zhì)到纖維材料幅面表面4上的涂覆表征的裝置I的運(yùn)行狀態(tài)中，呈片狀的元件12可被帶到此處未示出的第二功能位置II中，其被稱作保持位置。在此，呈片狀的元件12至少在兩個功能位置I與此處未示出的第二功能位置之間可移動。在這兩個功能位置之間額外地另外的位置是可能的。在轉(zhuǎn)變到第一功能位置I中或從其中出來的情形中，呈片狀的元件12以其與收集設(shè)備11背離的端部區(qū)域14、尤其是在其處構(gòu)造成切割邊緣16的輪廓邊緣穿過流掛3。由此得出的切割高度H2描述了在輪廓邊緣的切割位置、尤其是帶有流掛3的切割邊緣16與待涂層的配對面、尤其是表面4之間的距離。在此得出的情況在圖2a中被顯示。其以示意性地非常簡化的圖示形式顯示了帶有在駛?cè)牖驈牧鲯?中駛出的情形中呈片狀的元件12的位置，其中流掛3被輪廓邊緣、尤其是切割邊緣16的穿過。自由下落的流掛3的總高度H1以及切割高度H2被示出,H1與來自涂覆機(jī)構(gòu)的輸出孔6與纖維材料幅面F的表面4之間的距離相符，H2與在輪廓邊緣或者切割邊緣16與表面4之間的距離相符。與此相對，圖2b以示意性地非常簡化的圖示形式顯示了呈片狀的元件12在功能位置I中的位置。
圖3以示意性地非常簡化的圖示形式借助根據(jù)圖1的收集系統(tǒng)10的細(xì)部的視圖顯示了在一種特別有利的實(shí)施方案中的轉(zhuǎn)動了 180°的圖示中的呈片狀的元件12。此處示出了在駛?cè)氲焦δ芪恢肐中的情形中的呈片狀的元件12。在此，僅自由下落的流掛3以及呈片狀的元件12在其相對的位置中被顯示。在圖2中還再次顯示了呈片狀的元件12相對水平平面Eh的角度Y以及確定流掛3的切割高度的距離H2。收集系統(tǒng)10的呈片狀的元件12在駛?cè)氲焦δ芪恢肐中或從其中駛出的情形中的布置的特征在于，切割高度H2為在5mm(含)直至100mm、優(yōu)選地5mm至60mm、特別優(yōu)選地IOmm (含)直至40mm、非常特別優(yōu)選地IOmm (含)直至30mm之間的范圍中。呈片狀的元件12此處在進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14處包括切割邊緣16形式的輪廓邊緣。切割邊緣16對著自由下落的流掛3作用地來實(shí)施。切割邊緣16在呈片狀的元件12處的進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14處由充當(dāng)滑動面和導(dǎo)向面的平面區(qū)域13在自由下落的流掛3的方向上延伸。切割邊緣16關(guān)于自由下落的流掛3具有在105° (含)直至165°、優(yōu)選地120° (含)直至150°的范圍中的角度α。在此，切割邊緣16自身可實(shí)施成在呈片狀的元件12的進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14處的延長部。浸入到流掛中的且構(gòu)成切割邊緣16的端部區(qū)域可以鈍地或也可以逐漸變尖地構(gòu)造成。在最簡單的情況中，切割邊緣16通過變形工藝在制造呈片狀的元件12的情形中一起生產(chǎn)。切割邊緣16由進(jìn)口側(cè)的端部區(qū)域14在纖維材料幅面F的通過方向上或逆著纖維材料幅面F的通過方向的延伸長度通過帶有5mm ( I16 ( 80mm、優(yōu)選地在IOmm直(含)至50mm之間、特別優(yōu)選地IOmm直至30mm的長度I16來表征。切割邊緣16以其與纖維材料幅面F背離的側(cè)面構(gòu)成用于涂覆介質(zhì)的導(dǎo)向區(qū)域。在切割邊緣16之后也就是說在呈片狀的元件12處的涂覆介質(zhì)的引導(dǎo)方向上看且在切割邊緣16上游布置有滴邊緣17。該滴邊緣17可相比切割邊緣16相對流掛2的角度α具有較小的相對自由下落的流掛3的角度β且可相對其在裝置I的長度方向上看放在前面或后面地布置。優(yōu)選地，在呈片狀的元件12處的滴邊緣17的偏轉(zhuǎn)區(qū)域在切割邊緣16的偏轉(zhuǎn)的區(qū)域中實(shí)現(xiàn)。然而，延伸且進(jìn)而滴邊緣17的長度I17可在裝置I的長度方向上看短于或長于切割邊緣16的長度。滴邊緣17在示出的情況中相對切割邊緣16被置回。長度典型地以5mm<l17<50mm 來選擇。圖4a示例地借助根據(jù)圖1的局部放大圖顯示了帶有在功能位置I中的根據(jù)圖2的呈片狀的元件12的設(shè)計方案的收集系統(tǒng)。在該功能位置I中，涂覆介質(zhì)作為流掛3經(jīng)由呈片狀的元件12被導(dǎo)引到收集設(shè)備11中。收集設(shè)備11位置固定地布置，此處與導(dǎo)向輥8相關(guān)聯(lián)。流掛3不碰到在呈片狀的元件12下方被引導(dǎo)的纖維材料幅面F上。同樣地此處，呈片狀的元件12相對于收集設(shè)備11可平移地被支撐在其上。幅面導(dǎo)向可匹配于在與裝置I的無涂覆的第一運(yùn)行階段相應(yīng)的功能位置I中的呈片狀的元件12的位置地實(shí)現(xiàn)。在其中，呈片狀的元件12可幾乎平行于纖維材料幅面地布置。在此，進(jìn)口側(cè)的且進(jìn)而流掛側(cè)定向的帶有設(shè)置在其處的切割邊緣和滴邊緣16，17的端部區(qū)域14在運(yùn)動到功能位置I中時浸入到流掛3中且在功能位置I中處在流掛3之后。圖4b與此相對地顯示了在功能位置II中的收集系統(tǒng)10的各個部件的位置。該功能位置II在裝置I的在其中實(shí)現(xiàn)到纖維材料幅面F上的涂覆的運(yùn)行階段中被調(diào)定。呈片狀的元件12在該功能位置中布置在自由的流掛3之外。為此，其與在圖3b中的圖示相符地被相對收集設(shè)備11平移。該平移例如經(jīng)由帶有軸向可移動性的相應(yīng)的支承實(shí)現(xiàn)。在此，呈片狀的元件12依賴于其導(dǎo)向幾乎不改變其相對水平平面EH的偏轉(zhuǎn)。此外，在圖4b中還示出了另外的第三功能位置III，其對應(yīng)用于收集設(shè)備11的清潔位置。在其中，呈片狀的元件12從其在第二功能位置中的狀態(tài)被完全偏轉(zhuǎn)、尤其地被擺動。該擺動以如下角度進(jìn)行，該角度描述了呈片狀的元件12在垂直平面中的定向。用于擺動和/或平移的各個調(diào)節(jié)設(shè)備可液壓地、氣動地、機(jī)械地、電氣/電子地、手動地或由其組合地被驅(qū)動。圖6借助剖面顯示了布置在呈片狀的元件12的與收集設(shè)備11背離的端部區(qū)域14處的用于沖洗的機(jī)構(gòu)18。附圖標(biāo)記I用于涂覆液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)的裝置2涂覆機(jī)構(gòu)3 流掛4表面,配對面5涂覆頭6輸出孔7轉(zhuǎn)向或者導(dǎo)向輥8轉(zhuǎn)向或者導(dǎo)向輥9涂覆區(qū)域10收集系統(tǒng)11收集設(shè)備12呈片狀的元件13平的表面區(qū)域14端部區(qū)域，尤其是與收集設(shè)備背離的端部區(qū)域15端部區(qū)域，尤其是朝向收集設(shè)備定向的端部區(qū)域16切割邊17滴邊緣18用于沖洗的機(jī)構(gòu)Eh水平平面F纖維材料幅面I, II, III 功能位置α 切割邊相對于流掛的角度β 滴邊緣相對于流掛的角度H1 總高度H2切割高度I16切割邊的長度I17滴邊緣的長度X，Y, Z 坐標(biāo)
權(quán)利要求
1.用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛(3)形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面(F)上的裝置(I)，其帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)(2)和可配屬于所述涂覆機(jī)構(gòu)(2)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)(10)，無涂覆的運(yùn)行階段由所述裝置(I)的直至所述涂覆介質(zhì)釋放到配對面上的開啟、向所述配對面(4)的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征，該收集系統(tǒng)包括收集設(shè)備(11)和與其至少間接地共同作用的且相對其和/或所述涂覆機(jī)構(gòu)可平移的呈片狀的元件(12)，呈片狀的元件帶有至少一個在背離所述收集設(shè)備(11)的端部區(qū)域(14)處的輪廓邊緣，其在無涂覆的運(yùn)行階段期間穿過所述流掛(3)的情形中描述了定義切割高度(H2)的到配對面的距離，其特征在于，呈片狀的元件(12)在無涂覆的運(yùn)行階段期間相對水平平面(Eh)以±1°(含)直至±20°、優(yōu)選地±5° (含)直至±15°的角度(Y)布置中且在所述流掛(3)被在呈片狀的元件(12)的背離所述收集設(shè)備(11)的端部區(qū)域(14)處的輪廓邊緣穿過的情形中的切割高度(H2)為在5mm (含)直至100mm、優(yōu)選地5mm至60mm、特別優(yōu)選地IOmm至40mm、非常特別優(yōu)選地IOmm至30mm之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(I)，其特征在于，實(shí)施成切割邊緣(16)的輪廓邊緣相對可通過在呈片狀的元件(12)處的用于引導(dǎo)和導(dǎo)出涂覆介質(zhì)的表面區(qū)域(13)描述的平面如此作用地布置，即，其在穿過自由下落的流掛⑶的情形中相對該流掛以在105° (含)直至165°、優(yōu)選地120° (含)直至150°的范圍中的角度(a)布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置(I)，其特征在于，設(shè)置有用于以液體沖洗呈片狀的元件(12)的機(jī)構(gòu)(18)、尤其是通道、噴嘴、孔、攪拌器，其布置在呈片狀的元件(12)的背離所述收集設(shè)備(11)的端部區(qū)域(14)處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置(I)，其特征在于，在呈片狀的元件(12)的背離所述收集設(shè)備(11)的端部區(qū)域(14)處設(shè)置有布置在所述輪廓邊緣、尤其是切割邊緣(16)之下的滴邊緣(17)，其在無涂覆的運(yùn)行方式中相對自由下落的流掛(3)以比所述切害I]邊緣(16)相對它更小的角度(β)布置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置(I)，其特征在于，所述滴邊緣(17)在無涂覆的運(yùn)行方式中相對自由下落的流掛⑶以在90° (含)直至130°的范圍中的角度(β)布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的裝置(I)，其特征在于，所述收集設(shè)備(11)位置固定地布置且呈片狀的元件(12)被相對其可調(diào)節(jié)地支撐。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的裝置(I)，其特征在于，呈片狀的元件(12)實(shí)施成與收集設(shè)備(11)無聯(lián)接的、帶有自身的引導(dǎo)和調(diào)節(jié)設(shè)備的單獨(dú)的元件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的裝置(I)，其特征在于，呈片狀的元件(12)在所述收集設(shè)備(11)處相對其可平移地和/或可擺動地被支撐。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(I)，其特征在于，呈片狀的元件(12)相對所述收集設(shè)備(11)可被擺動到由以相對水平平面的角度表征的位置、優(yōu)選豎直的位置中。
10.用于運(yùn)行用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛(3)形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面(F)上的裝置(I)的方法，該裝置(I)帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)(2)和可配屬于所述涂覆機(jī)構(gòu)(2)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)(10)，無涂覆的運(yùn)行階段由所述裝置(I)的直至釋放所述涂覆介質(zhì)到配對面(4)上的開啟、到所述配對面(4)上的涂覆的結(jié)束或運(yùn)行中斷來表征，該收集系統(tǒng)包括收集設(shè)備(11)和與其至少間接地共同作用的且相對其和/或所述涂覆機(jī)構(gòu)(2)可平移的呈片狀的元件(12)，該呈片狀的元件帶有至少一個在背離所述收集設(shè)備(11)的端部區(qū)域(14)處的輪廓邊緣尤其是切割邊緣(16)，其在無涂覆的運(yùn)行階段期間在穿過所述流掛(3)的情形中描述了定義切割高度(H2)的相對配對面(4)的距離，其特征在于，呈片狀的元件(12)在所述裝置(I)的無涂覆的運(yùn)行階段中被帶到相對所述涂覆機(jī)構(gòu)(2)的功能位置(I)中，在其中該呈片狀的元件至少相對水平平面(Eh)以±1° (含)直至±20°、優(yōu)選地±5° (含)直至±15°的角度布置且在所述自由下流的流掛(3)被所述輪廓邊緣尤其是切割邊緣(16)穿過的情形中獲得在5mm (含)直至100mm、優(yōu)選地5mm至60mm、特別優(yōu)選地IOmm至40mm、非常特別優(yōu)選地IOmm至30mm的范圍中的切割高度,其中，呈片狀的元件(12)在無涂覆的運(yùn)行階段的功能位置與通過涂覆表征的運(yùn)行階段的功能位置之間以在50mm/s至500mm/s、優(yōu)選地50mm/s (含)直至200mm/s的范圍中的速度被調(diào)節(jié)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，其利用根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的裝置⑴來執(zhí) 行。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于直接或間接將液態(tài)的或糊狀的涂覆介質(zhì)以至少一個自由下落的流掛(3)形式涂覆到可移動的材料幅面、尤其是纖維材料幅面(F)上的裝置(1)，其帶有至少一個涂覆機(jī)構(gòu)(2)和可與涂覆機(jī)構(gòu)(2)相關(guān)聯(lián)的用于在無涂覆的運(yùn)行階段中收集涂覆介質(zhì)的收集系統(tǒng)(10)，其中，收集系統(tǒng)(10)包括收集設(shè)備(11)和與其共同起作用的帶有用于在無涂覆的運(yùn)行階段中將涂覆介質(zhì)引導(dǎo)到收集設(shè)備(11)中的表面區(qū)域(13)的呈片狀的元件(12)。本發(fā)明的特征在于，呈片狀的元件(12)在無涂覆的運(yùn)行階段期間相對水平平面(EH)布置在包含±1°直至±20°、優(yōu)選地包含±5°直至±15°的角度(γ)中且在流掛被在呈片狀的元件(12)的與收集設(shè)備(11)背離的端部區(qū)域(14)處的輪廓邊緣穿過的情形中的切割高度(H2)為在包含5mm直至100mm、優(yōu)選地5mm至60mm、特別優(yōu)選地10mm至40mm、非常特別優(yōu)選地10mm至30mm之間。
文檔編號D21H23/48GK103140627SQ201180047001
公開日2013年6月5日 申請日期2011年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月30日
發(fā)明者弗朗茨·菲舍爾, 克里斯托弗·亨尼格爾, 本杰明·門德斯-伽隆 申請人:福伊特專利公司