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      光學(xué)層積體、偏振片和圖像顯示裝置的制作方法

      文檔序號:2413755閱讀:174來源:國知局
      專利名稱:光學(xué)層積體、偏振片和圖像顯示裝置的制作方法
      光學(xué)層積體、偏振片和圖像顯示裝置
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及光學(xué)層積體、偏振片和圖像顯示裝置。
      背景技術(shù)
      在液晶顯示屏(IXD)、等離子體顯示屏(I3DP)、電致發(fā)光顯示屏(0ELD或IELD)、場發(fā)射顯示屏(FED)、觸摸屏、電子紙等圖像顯示裝置中,在圖像顯示面板的顯示畫面?zhèn)扰渲糜衅窆馄?,進(jìn)一步設(shè)置在最表面具有防反射性、硬涂性等功能的光學(xué)層積體。以往,作為這樣的光學(xué)層積體的透光性基材,使用了由以三乙酰纖維素為代表的纖維素酯形成的膜。這是基于下述優(yōu)點(diǎn)即,由于纖維素酯的延遲值低,因而對圖像顯示裝置的顯示品質(zhì)的影響少、以及具有適度的透水性,從而在使用光學(xué)層積體制造偏振片時(shí),可使殘留在偏振光器中的水分透過光學(xué)層積體而進(jìn)行干燥;等等。并且,纖維素酯膜比較廉價(jià),從這一點(diǎn)考慮,纖維素酯膜也是有貢獻(xiàn)的。但是,纖維素酯膜的耐濕熱性差,若在高溫多濕的環(huán)境下使用硬涂膜作為偏振片保護(hù)膜,則存在著偏振光功能或色調(diào)等偏振片功能降低這樣的缺點(diǎn)。從這樣的纖維素酯膜的問題方面考慮,希望使用市場上容易獲得的、或可利用簡易方法進(jìn)行制造的通用性膜作為光學(xué)層積體的基材,例如,作為纖維素酯代替膜,嘗試了利用聚對苯二甲酸乙二醇酯等聚酯膜(例如,參見專利文獻(xiàn)I)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2004-205773號公報(bào)
      發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的課題但是,根據(jù)本發(fā)明人的研究,可判斷出在將使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯膜作為纖維素酯膜代替膜的光學(xué)層積體配置在偏振元件上的情況下存在著下述問題特別是在從斜向觀察顯示畫面時(shí),在液晶顯示裝置上會產(chǎn)生顏色有差異的斑(下文中也稱為“彩虹斑)”),液晶顯示裝置的顯示品質(zhì)受到損害。針對使用這樣的聚酯膜的情況下的問題進(jìn)一步進(jìn)行了研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),與使用具備由現(xiàn)有的聚酯膜形成的透光性基材的光學(xué)層積體的情況比較,通過使用具有某種程度的高延遲值的聚酯膜作為光學(xué)層積體的透光性基材,可改善彩虹斑問題。但是,可知在使用這樣的具有某種程度的高延遲值的聚酯膜作為透光性基材的情況下,為了確保與硬涂層的密合性,必須有底涂層,但在這樣構(gòu)成的光學(xué)層積體中,干涉條紋的產(chǎn)生會成為問題,圖像顯示裝置的顯示品質(zhì)明顯受到損傷。鑒于上述現(xiàn)狀,本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)層積體、以及使用了該光學(xué)層積體的偏振片和圖像顯示裝置,在所述光學(xué)層積體中,聚酯基材與硬涂層的密合性優(yōu)異、并可高度地抑制液晶顯示裝置的顯示圖像產(chǎn)生彩虹斑和干涉條紋。
      用于解決課題的手段第I本發(fā)明為一種光學(xué)層積體,其為在聚酯基材上形成有底涂層、在上述底涂層上形成有硬涂層的光學(xué)層積體,該光學(xué)層積體的特征在于,上述聚酯基材具有SOOOnm以上的延遲、且慢軸方向的折射率(nx)與快軸方向的折射率(ny)之差(nx_ny)為0. 07 0. 20,上述慢軸方向?yàn)檎凵渎蚀蟮姆较?,上述快軸方向?yàn)榕c上述慢軸方向正交的方向;上述底涂層的折射率(np)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny〈np〈nx的關(guān)系;上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny〈nh〈nx的關(guān)系。另外,第2本發(fā)明也為一種光學(xué)層積體,其為在聚酯基材上形成有底涂層、在上述底涂層上形成有硬涂層的光學(xué)層積體,該光學(xué)層積體的特征在于,上述聚酯基材具有8000nm以上的延遲、且慢軸方向的折射率(nx)與快軸方向的折射率(ny)之差(nx_ny)為0. 07 0. 20,上述慢軸方向?yàn)檎凵渎蚀蟮姆较?,上述快軸方向?yàn)榕c上述慢軸方向正交的方向;上述底涂層的厚度為3nm 30nm ;上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny〈nh〈nx關(guān)系。 在第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述聚酯基材的快軸方向的折射率(ny)與底涂層的折射率(np)優(yōu)選具有ny>np的關(guān)系;上述聚酯基材的快軸方向的折射率(ny)與底涂層的折射率(np)之差(ny-np)優(yōu)選為0. 05以下;上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)與上述硬涂層的折射率(nh)之差(nx-nh)、以及上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材的快軸方向的折射率(ny)之差(nh-ny)均優(yōu)選為0. 025以上。并且,上述第I光學(xué)層積體和第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,優(yōu)選在上述聚酯基材的兩面形成上述底涂層和硬涂層。另外,本發(fā)明還涉及偏振片,其為通過具備偏振元件而成的偏振片,該偏振片的特征在于,在上述偏振兀件的表面具備第I本發(fā)明的光學(xué)層積體或第2本發(fā)明的光學(xué)層積體。并且,本發(fā)明還涉及圖像顯示裝置,其特征在于,該圖像顯示裝置具備第I本發(fā)明的光學(xué)層積體或第2本發(fā)明的光學(xué)層積體、或具備本發(fā)明的偏振片。 此外,本發(fā)明還涉及一種觸摸屏,其為采用了第I本發(fā)明的光學(xué)層積體或第2本發(fā)明的光學(xué)層積體的觸摸屏,該觸摸屏的特征在于,在上述光學(xué)層積體硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)置有不可見電極;在上述聚酯基材的兩面形成有底涂層和硬涂層的情況下,還涉及一種觸摸屏,其特征在于,在上述光學(xué)層積體的至少一個(gè)硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)有不可見電極。以下詳細(xì)說明本發(fā)明。另外,在本發(fā)明中,只要沒有特別記載,單體、低聚物、預(yù)聚物等固化性樹脂前體也被記為“樹脂”。另外,本發(fā)明中所記載的底涂層、硬涂層的折射率和膜厚全部為制成固化膜的情況下的折射率和膜厚。本發(fā)明人針對上述現(xiàn)有問題進(jìn)行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),在使用了聚酯基材且在該聚酯基材與硬涂層之間設(shè)有底涂層的光學(xué)層積體中,通過使聚酯基材具有特定的延遲值,可抑制顯示圖像中產(chǎn)生彩虹斑;進(jìn)一步地,基于以下見解,發(fā)現(xiàn)還可抑制干涉條紋的發(fā)生,從而完成了第I本發(fā)明的光學(xué)層積體和第2本發(fā)明的光學(xué)層積體。
      S卩,本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),在聚酯基材、底涂層和硬涂層層積而成的光學(xué)層積體中,存在如下干涉條紋因聚酯基材和底涂層的界面處的反射光與底涂層和硬涂層的界面處的反射光的干涉而產(chǎn)生的干涉條紋;因底涂層和硬涂層的界面處的反射光與硬涂層表面處的反射光的干涉而產(chǎn)生的干涉條紋;以及,因聚酯基材和底涂層的界面處的反射光與硬涂層表面處的反射光的干涉而產(chǎn)生的干涉條紋。另外,干涉條紋還會在聚酯基材、底涂層和硬涂層具有折射率差的情況下產(chǎn)生,并且其理由尚不明確,但認(rèn)為在底涂層具有厚度不均的情況下,也會對干涉條紋的產(chǎn)生帶來影響。由此,本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),通過極高程度地控制底涂層和硬涂層的折射率,可以使該底涂層、聚酯基材和硬涂層不存在事實(shí)上的折射率差異,可充分抑制上述干涉條紋的發(fā)生,從而完成了第I本發(fā)明的光學(xué)層積體。另外,底涂層通常是通過涂布含有預(yù)定材料的底涂層用組合物而形成的,使該底涂層用組合物的涂布量完全均勻在技術(shù)上是很難的。因此,底涂層用組合物的涂布量不可避免地存在某種程度的偏差,無法完全消除所形成底涂層的厚度不均。因此,本發(fā)明人進(jìn)
      一步進(jìn)行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過使所形成底涂層的厚度極薄,可使其厚度不均也為極小,不會產(chǎn)生被認(rèn)為是由于底涂層的厚度不均所引起的可被人眼所識別的干涉條紋;進(jìn)一步地,通過極高程度地控制硬涂層的折射率、使聚酯基材與硬涂層不存在事實(shí)上的折射率差,從而使得上述干涉條紋不會成為問題,從而完成了第2本發(fā)明的光學(xué)層積體。需要說明的是,在以下的說明中,對于第I本發(fā)明的光學(xué)層積體與第2本發(fā)明的光學(xué)層積體共通的部分,將兩者統(tǒng)一作為本發(fā)明的光學(xué)層積體進(jìn)行說明。圖I為示意性示出本發(fā)明的光學(xué)層積體的一例的截面圖。如圖I所示,本發(fā)明的光學(xué)層積體10中,在聚酯基材11上形成有底涂層12、在底涂層12上形成有硬涂層13。在這種構(gòu)成的本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述聚酯基材具有SOOOnm以上的延遲。若延遲小于8000nm,則在使用了本發(fā)明光學(xué)層積體的液晶顯示裝置的顯示圖像中會產(chǎn)生彩虹斑。另一方面,作為上述聚酯基材的延遲的上限沒有特別限定,優(yōu)選為3萬nm左右。若超過3萬nm,則并未觀察到更加優(yōu)異的顯示圖像彩虹斑改善效果的提高,并且膜厚變得相當(dāng)厚,因而不優(yōu)選。從彩虹斑防止性能和薄膜化的方面出發(fā),上述聚酯基材的延遲優(yōu)選為I萬nm 2萬nm。需要說明的是,上述延遲是利用聚酯基材面內(nèi)折射率最大的方向(慢軸方向)的折射率(nx)、與慢軸方向正交的方向(快軸方向)的折射率(ny)、以及聚酯基材的厚度(d)、通過下式而表示出的值。延遲(Re)= (nx-ny) X d并且,上述延遲可利用例如王子計(jì)測機(jī)器制KOBRA-WR來進(jìn)行測定(測定角0°、測定波長548. 2nm)。另外,也可以通過下述方法求出延遲使用二片偏振片,求出聚酯基材的取向軸向(主軸方向),利用阿貝(Abbe)折射率計(jì)(Atago社制造NAR-4T)求出相對于取向軸向正交的二個(gè)軸的折射率(nx、ny)。此處,將表示出較大折射率的軸定義為慢軸。聚酯基材厚度d(nm)使用電測微計(jì)(Anritsu社制造)進(jìn)行測定,將單位換算為nm。從而利用折射率差(nx-ny)與膜的厚度d(nm)的積來計(jì)算出延遲。另外,對于折射率,使用分光光度計(jì)(島津制作所社制造的UV-3100PC),對波長380nm 780nm的平均反射率(R)進(jìn)行測定,由所得到的平均反射率(R),使用下式來求得折射率(n)的值。對于底涂層和硬涂層的平均反射率(R),在未經(jīng)易粘接處理的50 ii m PET上涂布各原料組合物,制成Ium 3iim厚度的固化膜,為防止背面反射,在PET的未涂布面(背面)粘貼寬度大于測定位點(diǎn)面積的黑色聚氯乙烯絕緣帶(e 二一> ^ 一 7°,例如Yamato聚氯乙烯絕緣帶N0200-38-21,寬38mm),之后測定各涂膜的平均反射率。對于聚酯基材的折射率,在與測定面相反的面同樣地貼上黑色聚氯乙烯絕緣帶,之后進(jìn)行測定。R(%) = (l-n) 2/(l+n)2 另外,作為制成光學(xué)層積體之后對底涂層或硬涂層的折射率進(jìn)行測定的方法,可以利用切割器等削取各層的固化膜,制作粉末狀態(tài)的樣品,采用基于JISK7142(2008)B法(粉體或粒狀的透明材料用)的貝克法(為如下方法使用折射率已知的Cargille(力一冬^ )試劑,將上述粉末狀態(tài)的樣品載置于載玻片等,在該樣品上滴加試劑,利用試劑來浸潰樣品。通過顯微鏡觀察對其狀態(tài)進(jìn)行觀察,由于樣品與試劑的折射率的差異而在樣品輪郭處產(chǎn)生輝線,將通過目視無法觀察到貝克線的試劑的折射率作為樣品的折射率)。在聚酯基材的情況下,優(yōu)選不使用貝克法,而通過在底涂層或硬涂層的處理面粘貼上述黑色聚氯乙烯絕緣帶來測定平均反射率進(jìn)行求得。另外,在本發(fā)明中,上述nx-ny (下文中,也記為An)為0. 07 0. 20。上述An若小于0. 07,則得不到充分抑制彩虹斑的效果,并且為了得到上述延遲值所需要的膜厚增厚。另一方面,上述An若超過0.20,則作為聚酯基材易于發(fā)生開裂、破損等,作為工業(yè)材料的實(shí)用性顯著降低。上述An的優(yōu)選下限為0.08、優(yōu)選上限為0. 15。另外,若上述An超過0. 15,則在耐濕熱性試驗(yàn)中聚酯基材的耐久性會變差。出于耐濕熱性試驗(yàn)中的耐久性優(yōu)異的原因,上述An更優(yōu)選的上限為0. 12。另外,作為上述(nx),優(yōu)選為I. 67 I. 78,更優(yōu)選的下限為I. 69,更優(yōu)選的上限為1.73。并且,作為上述(ny),優(yōu)選為I. 55 I. 65,更優(yōu)選的下限為I. 57,更優(yōu)選的上限為 I. 62。通過使上述nx和ny處于上述范圍、且滿足上述A n的關(guān)系,可以得到適宜的彩虹斑抑制效果。作為構(gòu)成上述聚酯基材的材料,只要使上述延遲充足就沒有特別限定,為由芳香族二元酸或其酯形成性衍生物與二醇或其酯形成性衍生物合成的線狀飽和聚酯。作為該聚酯的具體例,可以示例出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚(對苯二甲酸1,4-環(huán)己烷二甲醇酯)、聚(2,6-萘二甲酸乙二醇酯)。并且,聚酯基材中所用的聚酯可以為上述這些聚酯的共聚物,也可以為以上述聚酯為主體(例如80摩爾%以上的成分)、與比例少的(例如20摩爾%以下)的其它種類樹脂混合而成的物質(zhì)。出于力學(xué)物性、光學(xué)物性等的平衡良好的原因,特別優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚(2,6-萘二甲酸乙二醇酯)作為聚酯。特別是優(yōu)選含有聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。這是由于聚對苯二甲酸乙二醇酯的通用性高、容易獲得。在本發(fā)明中,即使為PET這樣的通用性極高的膜,也可得到能夠制作出顯示品質(zhì)高的液晶顯示裝置的光學(xué)層積體。進(jìn)一步地,PET在透明性、熱或機(jī)械特性方面優(yōu)異,可通過拉伸加工進(jìn)行延遲的控制,其固有雙折射大,即使膜厚較薄,也比較容易得到較大的延遲。作為獲得上述聚酯基材的方法,只要為使上述延遲充分的方法就沒有特別限定,例如可以舉出下述方法使作為材料的上述PET等聚酯熔融,使用拉幅機(jī)等,在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上的溫度,對擠出成型為片狀的未拉伸聚酯進(jìn)行橫向拉伸,之后施以熱處理。 作為上述橫向拉伸溫度,優(yōu)選為80°C 130 V、更優(yōu)選為90°C 120°C。并且,橫向拉伸倍率優(yōu)選為2. 5 6. 0倍、更優(yōu)選為3. 0 5. 5倍。上述橫向拉伸倍數(shù)若超過6. 0倍,則所得到的聚酯基材的透明性容易降低;若橫向拉伸倍數(shù)小于2. 5倍,則拉伸張力也會變小,因而所得到的聚酯基材的雙折射減小,有時(shí)無法使延遲為SOOOnm以上。另外,在本發(fā)明中,也可以在使用雙軸拉伸試驗(yàn)裝置,在上述條件下進(jìn)行上述未拉伸聚酯的橫向拉伸之后,進(jìn)行相對于該橫向拉伸的移動方向(流&方向)的拉伸(以下也稱為縱向拉伸)。這種情況下,上述縱向拉伸優(yōu)選拉伸倍數(shù)為2倍以下。若上述縱向拉伸的拉伸倍數(shù)超過2倍,則無法使An的值處于上述優(yōu)選范圍。另外,作為上述熱處理時(shí)的處理溫度,優(yōu)選為100°C 250°C、更優(yōu)選為180°C 245。。。作為將利用上述方法制作的聚酯基材的延遲控制在8000nm以上的方法,可以舉出對拉伸倍數(shù)、拉伸溫度、所制作的聚酯基材的膜厚進(jìn)行適宜設(shè)定的方法。具體地說,例如,拉伸倍數(shù)越高、拉伸溫度越低、并且膜厚越厚,則越易得到高延遲;拉伸倍數(shù)越低、拉伸溫度越高、并且膜厚越薄,則越易得到低延遲。作為上述聚酯基材的厚度,優(yōu)選在40 ii m 500 ii m的范圍內(nèi)。若小于40 u m,則無法使上述聚酯基材的延遲為SOOOnm以上,并且力學(xué)特性的各向異性顯著、易于發(fā)生開裂、破損等,作為工業(yè)材料的實(shí)用性顯著降低。另一方面,若超過500 u m,則聚酯基材非常剛直,高分子膜特有的柔軟性降低,作為工業(yè)材料的實(shí)用性同樣會降低,因而不優(yōu)選。上述聚酯基材的厚度更優(yōu)選的下限為50 u m、更優(yōu)選的上限為400 u m、更進(jìn)一步優(yōu)選的上限為300 u m。并且,上述聚酯基材在可見光區(qū)域的透過率優(yōu)選為80%以上、更優(yōu)選為84%以上。需要說明的是,上述透過率可按照J(rèn)IS K7361-1 (塑料-透明材料的全光透過率的試驗(yàn)方法)進(jìn)行測定。另外,在本發(fā)明中,在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi),也可以對上述聚酯基材進(jìn)行皂化處理、輝光放電處理、電暈放電處理、紫外線(UV)處理以及火焰處理等表面處理。本發(fā)明的光學(xué)層積體在聚酯基材上具有底涂層。上述底涂層是以提高聚酯基材與硬涂層的密合性為第一目的而設(shè)置的層。第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層的折射率(np)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny〈np〈nx的關(guān)系。通過具有這樣的折射率關(guān)系,可使該底涂層與聚酯基材的折射率差降低,可以抑制第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中的干涉條紋的產(chǎn)生。如上所述,上述底涂層的折射率(np)處于上述聚酯基材快軸方向折射率(ny)的最小折射率(I. 55)到上述聚酯基材慢軸方向折射率(nx)的最大折射率(I. 78)之間,在防止干涉條紋發(fā)生方面,特別優(yōu)選的折射率范圍為I. 57 I. 65。進(jìn)一步地,在第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,如后所述,通過使硬涂層的折射率(nh)相對于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有特定的關(guān)系,從而進(jìn)一步使底涂層折射率對于干涉條紋防止性能的影響減少。具體地說,上述硬涂層的折射率(nh)處于上述聚酯基材快軸方向的折射率(ny)的最小折射率(I. 55)到上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)的最大折射率(I. 78)之間,在防止干涉條紋發(fā)生方面,特別優(yōu)選的折射率范圍為I. 57 I. 65、更優(yōu)選的下限為I. 62。第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,作為上述底涂層的材料,只要滿足上述折射率的條件就沒有特別限定,例如可適當(dāng)選擇現(xiàn)有公知的材料進(jìn)行使用,可以舉出例如熱固性或熱塑性聚酯樹脂、氨基甲酸酯樹脂、丙烯酸類樹脂以及它們的改性物等。并且,為了調(diào)整底涂層的折射率,可以添加高折射率微粒、螯合化合物等。作為上述聚酯樹脂,例如可以使用由下述的多元酸成分與二醇成分得到的聚酯。作為上述多元酸(多価塩基)成分,可以示例出例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、鄰苯二甲酸酐、2,6-萘二羧酸、1,4-環(huán)己烷二羧酸、己二酸、癸二酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、二聚酸、5-(鈉代磺基)間苯二甲酸。并且,作為上述二醇成分,可以示例出例如乙二醇、1,4-丁二醇、二甘醇、一縮二丙二醇、1,6_己二醇、1,4-環(huán)己烷二甲醇、二甲苯二醇、二羥甲基丙烷等;以及聚(氧化乙烯)
      二醇、聚氧四甲撐二醇。另外,作為上述丙烯酸類樹脂,可以舉出例如通過對以下示例出的單體進(jìn)行共聚而得到的樹脂。作為上述單體,例如為丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯(作為烷基,為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、2-乙基己基、環(huán)己基等);丙烯酸-2-羥乙酯、甲基丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、甲基丙烯酸-2-羥丙酯等含羥基單體;丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油基酯、烯丙基縮水甘油基醚等含有環(huán)氧基的單體;丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸、苯乙烯磺酸及其鹽(鈉鹽、鉀鹽、銨鹽、叔胺鹽等)等具有羧基或其鹽的單體;丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-烷基丙烯酰胺、N-烷基甲基丙烯酰胺、N,N-二烷基丙烯酰胺、甲基丙烯酸N,N-烷基酯(作為烷基,為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、2-乙基己基、環(huán)己基等)、N-烷氧基丙烯酰胺、N-烷氧基甲基丙烯酰胺、N,N-二烷氧基丙烯酰胺、N,N-烷氧基甲基丙烯酰胺(作為烷氧基,為甲氧基、乙氧基、丁氧基、異丁氧基等)、丙烯酰嗎啉、N-羥甲基丙烯酰胺、N-羥甲基甲基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺等具有酰胺基的單體;馬來酸酐、衣康酸酐等酸酐單體;2_乙烯基-2-噁唑啉、2-乙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-5-甲基-2-噁唑啉等含噁唑啉基單體;甲氧基二甘醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、乙烯基異氰酸酯、烯丙基異氰酸酯、苯乙烯、a -甲基苯乙烯、乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙稀基二燒氧基娃燒、燒基馬來酸單酷、燒基富馬酸單酷、燒基衣康酸單酷、丙稀臆、甲基丙稀腈、偏二氯乙烯、乙烯、丙烯、氯化乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯。另外,作為上述氨基甲酸酯樹脂,例如可以舉出由多元醇、多異氰酸酯、擴(kuò)鏈劑、交聯(lián)劑等構(gòu)成的樹脂。
      作為上述多元醇,可以舉出例如聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇之類的聚醚;包括聚己二酸乙二醇酯、聚乙烯-己二酸丁二醇酯、聚己內(nèi)酯等的通過二醇與二羧酸的脫水反應(yīng)制造的聚酯;具有碳酸酯鍵的聚碳酸酯;丙烯酸系多元醇;蓖麻油等。另外,作為上述多異氰酸酯,可以舉出例如甲苯二異氰酸酯、苯二異氰酸酯、4,4’ - 二苯基甲烷二異氰酸酯、六甲撐二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、4,4’ - 二環(huán)己基甲烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等。另外,作為上述擴(kuò)鏈劑或者交聯(lián)劑,可以舉出例如乙二醇、丙二醇、二甘醇、三羥甲
      基丙烷、肼、乙二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、4,4’ - 二氨基二苯基甲烷、4,4’ - 二氨基二環(huán)己基甲烷、水等。作為上述高折射率微粒,例如可適當(dāng)使用折射率為I. 60 2. 80的金屬氧化物微 粒等。作為上述金屬氧化物微粒,具體地說,可以舉出例如二氧化鈦(TiO2、折射率2. 71)、氧化鋯(ZrO2、折射率2. 10)、氧化鈰(CeO2、折射率:2. 20)、氧化錫(SnO2、折射率2. 00)、銻錫氧化物(AT0、折射率1. 75 I. 95)、銦錫氧化物(IT0、折射率1. 95 2. 00)、磷錫化合物(PT0、折射率1. 75 I. 85)、氧化銻(Sb2O5、折射率2. 04)、鋁鋅氧化物(AZ0,折射率1. 90 2. 00)、鎵鋅氧化物(GZ0、折射率1. 90 2. 00)、五氧化鈮(Nb2O5、折射率2. 33)、氧化鉭(Ta2O5 :折射率2. 16)和銻酸鋅(ZnSb2O6、折射率:1. 90 2. 00)等。上述高折射率微粒優(yōu)選平均一次粒徑為5nm lOOnm。平均一次粒徑若大于lOOnm,則在上述底涂層發(fā)生光學(xué)散射,透明性會變差;若小于5nm,則微粒彼此的凝集增多、二次粒徑增大,會發(fā)生光學(xué)散射,上述底涂層的透明性會變差。這些高折射率微粒的折射率例如可以如下計(jì)算得出將折射率已知的熱塑性樹脂與進(jìn)行了質(zhì)量測定的金屬氧化物混合后,成型為適當(dāng)厚度的透明顆粒,對該顆粒進(jìn)行折射率測定,通過與上述折射率已知的樹脂的配合比來計(jì)算出高折射率微粒的折射率。上述折射率測定例如可通過基于JIS K7142(2008)A法的貝克法、利用阿貝折射計(jì)來求得,例如可以使用Atago社制造的DR-M4。需要說明的是,測定折射率的波長為589nm。另外,對于上述平均一次粒徑,可通過基于TEM、STEM等透過型電子顯微鏡觀察的圖像解析以20個(gè)顆粒的粒徑的平均值的形式來求得。作為上述高折射率微粒的含量沒有特別限定,例如,可以利用添加至底涂層的樹脂成分的固化物與預(yù)先測定的折射率值的加重平均來適宜調(diào)整與其它成分的關(guān)系,以使所形成的硬涂層的折射率滿足上述關(guān)系。另外,作為上述螯合化合物,可以舉出例如水溶性的鈦螯合化合物、水溶性的鈦?;?★夕> > —卜)化合物和水溶性的鋯化合物等。作為上述水溶性的鈦螯合化合物,可以舉出例如二異丙氧基雙(乙酰丙酮)合欽、異丙氧基(2_乙基_1,3-己二醇)合欽、二異丙氧基雙(二乙醇胺)合欽、二正丁氧基雙(三乙醇胺)合鈦、羥基雙(乳酸根)合鈦、羥基雙(乳酸根)合鈦的銨鹽;過氧檸檬酸鈦的銨鹽等。另外,作為水溶性的鈦酰化化合物,可以舉出例如,雙(草酸單銨)氧鈦(才々夂
      子夕 >匕'7 (壬壬二才今寸 > 一卜))。另外,作為水溶性的鋯化合物,可以舉出例如四乙酰丙酮鋯、乙酸鋯等。
      第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,作為上述底涂層的厚度,可以根據(jù)所要求的性能進(jìn)行適宜調(diào)節(jié),沒有特別限定,例如可以為IOnm lOOOnm。上述底涂層的最大厚度為500nm以下時(shí),第I本發(fā)明的光學(xué)層積體的鉛筆硬度(基于JIS K5600-5-4)可以得到提高,因而優(yōu)選;特別是若為300nm以下,則例如在厚度為800nm的硬度為H,則此時(shí)為2H等,鉛筆硬度得到明顯地提高,因而更為優(yōu)選。如上所述,第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,由于上述底涂層的折射率(np)相對于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有特定關(guān)系,因而可在比較寬范圍內(nèi)進(jìn)行上述底涂層厚度的設(shè)定。這是由于,在第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,通過使上述底涂層的折射率(np)相對于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有特定關(guān)系,可使底涂層厚度對干涉條紋防止性能的影響減少。因而,即使在第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中底涂層的厚度比后述第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中的底涂層厚的情況下,干涉條紋防止性能也是良好的。需要說明的是,上述底涂層的厚度例如為如下的值通過利用電子顯微鏡(SEM、TEM,STEM)對上述底涂層的截面進(jìn)行觀察來對任意10點(diǎn)進(jìn)行測定,上述底涂層的厚度為所得到的平均值(nm)。在厚度非常薄的情況下,通過以照片形式記錄高倍數(shù)觀察的情況,進(jìn)一步進(jìn)行放大,由此來進(jìn)行測定。層界面線是作為交界線可明確區(qū)分的程度的非常細(xì)的線,但在放大的情況下,其變成為粗線。這種情況下,將對粗線寬度進(jìn)行2等分的中心部分作為交界線進(jìn)行測定。并且,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層的厚度為3nm 30nm。若小于3nm,則上述聚酯基材與硬涂層的密合性不充分;若大于30nm,則第2本發(fā)明光學(xué)層積體的干涉條紋防止性能不充分。第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,底涂層厚度的優(yōu)選下限為10nm、優(yōu)選上限為20nm。第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,底涂層的厚度為與上述第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中底涂層的厚度同樣地進(jìn)行測定而得到的值。需要說明的是,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層的折射率沒有特別限定。這是由于,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層的厚度極薄、且如后所述硬涂層的折射率(nh)相對于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有特定關(guān)系,從而使底涂層折射率對干涉條紋防止性能的影響減少。第2本發(fā)明這樣的光學(xué)層積體中,作為構(gòu)成底涂層的材料沒有特別限定,可以使用以往作為光學(xué)層積體的底涂層使用的材料。其中,在由現(xiàn)有光學(xué)層積體用底涂層材料中進(jìn)行考慮的情況下,若選擇滿足密合性及硬度的材料,則上述底涂層的折射率為I. 47 I. 80的范圍;與不控制底涂層厚度的情況比較,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,底涂層材料的選擇范圍非常大,是優(yōu)選的。需要說明的是,如后所述,上述硬涂層的折射率(nh)在上述聚酯基材快軸方向折射率(ny)的最小折射率(1.55)到上述聚酯基材慢軸方向折射率(nx)的最大折射率(I. 78)之間,在干涉條紋防止方面,特別優(yōu)選的折射率范圍為I. 57 I. 65、更優(yōu)選的下限為 I. 62。另外,現(xiàn)有光學(xué)層積體用底涂層材料不含有上述高折射率微粒的情況下,底涂層的折射率(np)通常低于聚酯基材快軸方向的折射率(ny)。含有上述高折射率微粒的底涂層并非為在制造成本方面不利的情況,而是因?yàn)樾枰紤]該高折射率微粒與其它樹脂材料的組合,因而在材料選擇上受到制約。因此,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層的折射率(np)優(yōu)選為更小值,具體地說,優(yōu)選上述聚酯基材快軸方向的折射率(ny)與上述底涂層折射率(np)具有ny>np的關(guān)系。具有這樣的折射率關(guān)系時(shí),對于現(xiàn)有光學(xué)層積體中的底涂層來說,該底涂層的厚度為超過30nm的較厚的厚度,因而存在著會發(fā)生干涉條紋的問題。但是,在第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,由于上述底涂層的厚度極薄,為3nm 30nm,因而即使在具有上述ny>np的關(guān)系的情況下,也不會有發(fā)生干涉條紋的問題。另外,在第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,具有上述ny>np的關(guān)系的情況下,上述底涂層的折射率(np)優(yōu)選為盡可能接近于上述聚酯基材快軸方向的折射率(ny)的值,具體地說,優(yōu)選聚酯基材快軸方向的折射率(ny)與底涂層的折射率(np)之差(ny_np)為0. 05以下。若大于0.05,則防止干涉條紋的效果可能會變差。進(jìn)一步地,由于第2本發(fā)明的光學(xué)層積體的干涉條紋防止性能會變得優(yōu)異,因而上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)與硬涂層的折射率(nh)之差(nx-nh)、以及上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材快軸方向的折射率(ny)之差(nh_ny)均優(yōu)選為0. 025以上。本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述底涂層可以使用底涂層用組合物來形成,該底涂層用組合物是將上述材料以及必要時(shí)的光聚合引發(fā)劑和其它成分混合分散在溶劑中而制備的。上述混合分散可以使用涂料搖擺器、珠磨機(jī)、捏合機(jī)等公知的裝置來進(jìn)行。作為上述溶劑,優(yōu)選使用水,優(yōu)選以水溶液、水分散液或乳化液等水性涂液的形態(tài)來使用。并且,也可以稍含有有機(jī)溶劑。作為上述有機(jī)溶劑,可以舉出例如醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、苯甲醇、PGME、乙二醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烴(例如己烷、環(huán)己烷)、鹵代烴(例如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如苯、甲苯、二甲苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮)、醚(例如二乙醚、二氧六環(huán)、四氫呋喃)、醚醇(例如I-甲氧基-2-丙醇)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丙酯)等。作為上述其它成分沒有特別限定,可以舉出例如流平劑、有機(jī)或無機(jī)微粒、光聚合引發(fā)劑、熱聚合引發(fā)劑、交聯(lián)劑、固化劑、聚合促進(jìn)劑、粘度調(diào)整劑、抗靜電劑、抗氧化劑、防污劑、滑動劑、折射率調(diào)整劑、分散劑等。上述底涂層用組合物中,優(yōu)選總固體成分為3% 20%。若小于3%,則有殘留溶劑殘留,可能會產(chǎn)生白化。若大于20%,則底涂層用組合物的粘度增高、涂布性降低,從而表面會出現(xiàn)不均或條紋,可能得不到所期望的膜厚。上述固體成分更優(yōu)選為4% 10%。上述底涂層用組合物向上述聚酯基材的涂布可以在任意階段實(shí)施,但優(yōu)選在聚酯基材的制造過程中實(shí)施,更優(yōu)選涂布至取向結(jié)晶化完成之前的聚酯基材。此處,結(jié)晶取向完成之前的聚酯基材包括未拉伸膜;未拉伸膜在縱向或橫向的任意一方進(jìn)行取向的單軸取向膜;進(jìn)一步地在縱向和橫向的二個(gè)方向進(jìn)行低倍數(shù)拉伸取向的膜(最終在縱向或橫向進(jìn)行再拉伸來完成取向結(jié)晶化之前的雙向拉伸膜)等。其中,優(yōu)選對未拉伸膜或在單方向進(jìn)行取向的單向拉伸膜涂布上述底涂層用組合物的水性涂液,在該狀態(tài)下施以縱向拉伸和/或橫向拉伸以及熱固定。將上述底涂層用組合物涂布至聚酯基材時(shí),優(yōu)選對聚酯基材表面施以電暈表面處理、火焰處理、等離子體處理等物理處理作為用于提高涂布性的預(yù)處理,或者優(yōu)選將底涂層用組合物和與其化學(xué)惰性表面活性劑一起進(jìn)行合用。作為上述底涂層用組合物的涂布方法,能夠適用公知的任意涂布法。例如,可以單獨(dú)或組合使用輥涂法、凹版印刷法、輥刷法、噴涂法、氣刀涂布法、浸潰法、幕涂法等。需要說明的是,涂膜可以根據(jù)需要僅在聚酯基材的單面形成,也可以在兩面形成。即,如圖2所示,本發(fā)明的光學(xué)層積體20可以在聚酯基材21的兩面形成底涂層22,在該底涂層22的與聚酯基材21側(cè)呈相反側(cè)的各個(gè)面上可以形成硬涂層23。另外,圖2為示意性示出本發(fā)明光學(xué)層積體的另一不例的截面圖。進(jìn)一步地,本發(fā)明的光學(xué)層積體可以在上述聚酯基材的一個(gè)面上形成上述第I光學(xué)層積體中的底涂層、在另一個(gè)面上形成上述第2光學(xué)層積體中的底涂層,這種情況下,在上述第I光學(xué)層積體底涂層的與聚酯基材側(cè)相反一側(cè)的面上形成后述第I光學(xué)層積體中的硬涂層、在上述第2光學(xué)層積體底涂層的與聚酯基材側(cè)相反一側(cè)的面上形成后述第2光學(xué)層積體中的硬涂層。本發(fā)明的光學(xué)層積體在上述底涂層上形成有硬涂層。上述硬涂層為保證本發(fā)明光學(xué)層積體表面的硬涂性的層,例如優(yōu)選為使用硬涂層用組合物形成的層,該硬涂層用組合物含有作為借助紫外線而固化的樹脂的電離射線固化型樹脂與光聚合引發(fā)劑。在本發(fā)明的光學(xué)層積體中,作為上述電離射線固化型樹脂,可以舉出例如具有丙烯酸酯系官能團(tuán)的化合物等具有I個(gè)或2以上不飽和鍵的化合物。作為具有I個(gè)不飽和鍵的化合物,可以舉出例如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作為具有2個(gè)以上不飽和鍵的化合物,可以舉出例如多羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等以及利用環(huán)氧乙烷(EO)等對它們進(jìn)行了改性的多官能化合物;或者上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等的反應(yīng)生成物(例如多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯)等。需要說明的是,在本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”指的是甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯。除上述化合物之外,也可以使用具有不飽和雙鍵的分子量較低(數(shù)均分子量為300 8萬、優(yōu)選為400 5000)的聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸類樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇-多烯樹脂等作為上述電離射線固化型樹脂。需要說明的是,這種情況下的樹脂包括單體以外的二聚物、低聚物、聚合物的全部。作為本發(fā)明中優(yōu)選的化合物,可以舉出具有3個(gè)以上不飽和鍵的化合物。在使用這樣的化合物時(shí),可提高所形成的硬涂層的交聯(lián)密度、可使涂膜硬度良好。具體地說,在本發(fā)明中,優(yōu)選適當(dāng)組合使用季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯多官能丙烯酸酯低聚物(3 15官能)、氨基甲酸酯多官能丙烯酸酯低聚物(3 15官能)等。上述電離射線固化型樹脂也可以與溶劑干燥型樹脂(熱塑性樹脂等,僅通過使在涂布時(shí)為調(diào)整固體成分而添加的溶劑干燥就能夠形成覆膜的樹脂)合用來進(jìn)行使用。通過合用溶劑干燥型樹脂,可有效防止涂布面的覆膜缺陷。作為能夠與上述電離射線固化型樹脂合用而進(jìn)行使用的溶劑干燥型樹脂沒有特別限定,通??墒褂脽崴苄詷渲?。作為上述熱塑性樹脂沒有特別限定,可以舉出例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯基醚系樹脂、含鹵素的樹脂、脂環(huán)式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、纖維素衍生物、有機(jī)硅系樹脂和橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂優(yōu)選為非結(jié)晶性、且可溶于有機(jī)溶劑(特別是可溶解多種聚合物或固化性化 合物的通用溶劑)中。從成膜性、透明性、耐候性的方面出發(fā),特別優(yōu)選苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環(huán)式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。另外,上述硬涂層形成用組合物也可以含有熱固性樹脂。作為上述熱固性樹脂沒有特別限定,可以舉出例如酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲醛共縮合樹脂、硅樹脂、聚硅氧烷樹脂等。作為上述光聚合引發(fā)劑沒有特別限定,可以使用公知的物質(zhì),例如,作為上述光聚合引發(fā)劑,其具體例可以舉出苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲酰苯甲酸酯(S t ^>
      '/ -i 卟《> 工一卜)、a -阿米羅基酯(a -amyloxim ester, a - 7 彡口工 亍
      >)、噻噸酮類、苯丙酮類、苯偶酰類、苯偶姻類、?;趸㈩?。并且,優(yōu)選混合使用光敏劑,作為其具體例,可以舉出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。作為上述光聚合引發(fā)劑,在上述電離射線固化型樹脂為具有自由基聚合性不飽和基團(tuán)的樹脂系的情況下,優(yōu)選單獨(dú)或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、噻噸酮類、苯偶姻、苯偶姻甲醚等。另外,在上述電離射線固化型樹脂為具有陽離子聚合性官能團(tuán)的樹脂系的情況下,作為上述光聚合引發(fā)劑,優(yōu)選單獨(dú)或以混合物的形式使用芳香族重氮鹽、芳香族锍鹽、芳香族碘鎗鹽、茂金屬化合物、苯偶姻磺酸酯等。作為本發(fā)明中使用的引發(fā)劑,在樹脂為具有自由基聚合性不飽和基團(tuán)的電離射線固化型樹脂的情況下,出于與電離射線固化型樹脂的相容性、以及黃變也較少的理由,優(yōu)選I-羥基環(huán)己基苯基酮。相對于上述電離射線固化型樹脂100質(zhì)量份,上述硬涂層用組合物中的上述光聚合引發(fā)劑的含量優(yōu)選為I質(zhì)量份 10質(zhì)量份。這是由于,若小于I質(zhì)量份,則無法使第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中的硬涂層的硬度處于上述的范圍;若大于10質(zhì)量份,則電離射線無法達(dá)到所涂設(shè)的膜的深部,未能促進(jìn)內(nèi)部固化,目標(biāo)硬涂層表面的鉛筆硬度可能達(dá)不到3H以上。上述光聚合引發(fā)劑含量的更優(yōu)選下限為2質(zhì)量份,更優(yōu)選上限為8質(zhì)量份。通過使上述光聚合引發(fā)劑的含量處于該范圍,在膜厚方向不會產(chǎn)生硬度分布,容易呈均勻的硬度。上述硬涂層形成用組合物也可以含有溶劑。作為上述溶劑,可以根據(jù)所用樹脂成分的種類和溶解性進(jìn)行選擇來使用,可示例出例如酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、二丙酮醇等)、醚類(二氧六環(huán)、四氫呋喃、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環(huán)式烴類(環(huán)己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環(huán)己醇等)、溶纖劑類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、乙酸溶纖劑類、亞砜類(二甲基亞砜等)、酰胺類(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等,也可以為它們的混合溶劑。在本發(fā)明中,出于與樹脂的相容性、涂布性優(yōu)異的原因,特別優(yōu)選含有作為酮系溶劑的甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮的任意一種、或它們的混合物。作為上述硬涂層用組合物中的原料含有比例(固體成分)沒有特別限定,通常優(yōu)選為5質(zhì)量% 70質(zhì)量%、特別優(yōu)選為25質(zhì)量% 60質(zhì)量%。在上述硬涂層用組合物中,為了提高硬涂層的硬度、抑制固化收縮、防止粘連、控制折射率、賦予防眩性、改變顆?;蛴餐繉颖砻娴男再|(zhì)等,也可以添加現(xiàn)有公知的有機(jī)/無機(jī)微粒、分散劑、表面活性劑、抗靜電劑、硅烷偶聯(lián)劑、增稠劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、流平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、粘接賦予劑、阻聚劑、抗氧化劑、表面改性劑
      坐寸o另外,上述硬涂層用組合物可以混合光敏劑進(jìn)行使用,作為其具體例,可以舉出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦(') -n- 7'7 ^ > )等。作為上述硬涂層用組合物的制備方法,只要可將各成分均勻混合就沒有特別限定,例如可使用涂料搖擺器、珠磨機(jī)、捏合機(jī)、混合器等公知的裝置來進(jìn)行。另外,作為將上述硬涂層用組合物涂布在上述底涂層上的方法沒有特別限定,可以舉出例如旋涂法、浸潰法、噴霧法、模涂法、棒涂法、輥涂法、彎月面涂布法、苯胺印刷法、絲網(wǎng)印刷法、液滴(C一 F )涂布法等公知的方法。本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny〈nh〈nx的關(guān)系。本發(fā)明的光學(xué)層積體中,硬涂層相對于聚酯基材的折射率具有上述關(guān)系;同時(shí)第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,底涂層具有如上所述的特定折射率(np);第2本發(fā)明的光學(xué)層積體中,如上所述,底涂層極?。灰蚨蛇m宜地防止干涉條紋的發(fā)生。需要說明的是,上述硬涂層的折射率(nh)和底涂層的折射率(np)均存在于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)與快軸方向的折射率(ny)之間的第I本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述硬涂層的折射率(nh)與底涂層的折射率(np)之差小,這意味著這些層之間事實(shí)上不存在折射率差。通過使上述硬涂層的折射率(nh)與底涂層事實(shí)上不存在折射率(np)之差,該硬涂層與底涂層的界面處的反射受到抑制,其結(jié)果,可適當(dāng)?shù)胤乐垢缮鏃l紋的發(fā)生。需要說明的是,上述硬涂層的折射率(nh)與底涂層事實(shí)上不存在折射率(np)之差指的是上述硬涂層的折射率(nh)與底涂層的折射率(np)之差的絕對值(I nh-np I )為
      0.05以下的情況。另外,本發(fā)明第2方面的光學(xué)層積體中,上述硬涂層的折射率(nh)相對于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)滿足上述關(guān)系,但為更接近于上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)的情況下,該硬涂層具有更高的折射率,因而,在將第2本發(fā)明的光學(xué)層積體用于后述的觸摸屏的情況下,由于與在最外表面形成的ITO等電極的折射率接近,因而有利于該電極圖案的不可視化。另外,上述硬涂層的折射率(nh)為上述聚酯基材慢軸方向的折射率(nx)與快軸方向的折射率(ny)的中間的值、或者為更接近于上述聚酯基材快軸方向的折射率(ny)的值的情況下,第2本發(fā)明的光學(xué)層積體的干涉條紋防止性能極為優(yōu)異。本發(fā)明光學(xué)層積體中的這種硬涂層優(yōu)選使用上述硬涂層用組合物中含有高折射率微粒的高折射率硬涂層用組合物來形成。通過含有上述高折射率微粒,可使上述硬涂層的折射率相對于上述聚酯基材的折射率具有上述關(guān)系。作為上述高折射率微粒,例如可適當(dāng)使用折射率為I. 50 2. 80的金屬氧化物微粒等。作為上述金屬氧化物微粒,具體地說,可以舉出例如二氧化鈦(TiO2、折射率2. 71)、氧化鋯(ZrO2、折射率2. 10)、氧化鈰(CeO2、折射率:2. 20)、氧化錫(SnO2、折射率2. 00)、銻錫氧化物(AT0、折射率1. 75 I. 95)、銦錫氧化物(IT0、折射率1. 95 2. 00)、磷錫化合物(PT0、折射率1. 75 I. 85)、氧化銻(Sb2O5、折射率2. 04)、鋁鋅氧化物(AZ0,折射率1. 90 2. 00)、鎵鋅氧化物(GZ0、折射率1. 90 2. 00)和銻酸鋅(ZnSb2O6、折射率
      I.90 2. 00)等。其中,氧化錫(SnO2)、銻錫氧化物(ATO)、銦錫氧化物(ITO)、磷錫化合物(PTO)、氧化銻(Sb2O5)、鋁鋅氧化物(AZO)、鎵鋅氧化物(GZO)和銻酸鋅(ZnSb2O6)為導(dǎo)電性金屬氧化物,并具有可通過控制微粒的擴(kuò)散狀態(tài)、形成導(dǎo)電通路來賦予抗靜電性的優(yōu)點(diǎn)。作為上述高折射率微粒的含量沒有特別限定,例如,可以利用添加至硬涂層用組合物中的樹脂成分的固化物與預(yù)先測定了折射率值的加重平均來適宜調(diào)整與其它成分的關(guān)系,以使所形成的硬涂層的折射率滿足上述關(guān)系。作為將上述硬涂層用組合物涂布在上述底涂層上的方法沒有特別限定,可以舉出例如旋涂法、凹版印刷法、浸潰法、噴霧法、模涂法、棒涂法、輥涂法、彎月面涂布法、苯胺印刷法、絲網(wǎng)印刷法、液滴涂布機(jī)法等公知的方法。對于在上述底涂層上涂布上述硬涂層用組合物而形成的涂膜,優(yōu)選根據(jù)需要進(jìn)行加熱和/或干燥、通過活性能量射線照射等進(jìn)行固化。作為上述活性能量射線照射,可以舉出利用紫外線或電子射線進(jìn)行的照射。作為上述紫外線源的具體例,可以舉出例如超高壓汞燈、高壓汞燈、低壓汞燈、碳弧燈、黑光熒光燈、金屬鹵化物燈等光源。并且,作為紫外線的波長,可以使用190nm 380nm的波段。作為電子射線源的具體例,可以舉出考克羅夫特-瓦爾頓(CockCToft-Walton)型、范德格里夫特(m 9 7卜)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或者直線型、地那米(Dynamitron)型、高頻型等各種電子射線加速器。需要說明的是,上述硬涂層的優(yōu)選膜厚(固化時(shí))為0.5 iim IOOii m、更優(yōu)選為0. 8 ii m 20 ii m,出于卷曲防止性能、裂紋防止性能特別優(yōu)異的原因,最優(yōu)選為2 y m IOiim的范圍。上述硬涂層的膜厚為利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)對截面進(jìn)行觀察、測定任意10點(diǎn)而得到的平均值(Pm)。對于硬涂層的膜厚,作為其它方法,還可以使用厚度測定裝置Mitutoyo社制造的Digimatic Indicator IDF-130對任意10點(diǎn)進(jìn)行測定,求出平均值。通過使上述硬涂層用組合物中含有抗靜電劑,可以對上述硬涂層賦予抗靜電性倉泛。作為上述抗靜電劑,可以使用現(xiàn)有公知的物質(zhì),例如可以使用季銨鹽等陽離子性抗靜電劑、錫摻雜氧化銦(ITO)等微粒、導(dǎo)電性聚合物等。使用上述抗靜電劑的情況下,相對于全部固體成分的總質(zhì)量,其含量優(yōu)選為I質(zhì)量% 30質(zhì)量%。另外,本發(fā)明的光學(xué)層積體優(yōu)選在上述硬涂層上進(jìn)一步具有低折射率層。作為上述低折射率層,優(yōu)選由下述物質(zhì)中的任意一種構(gòu)成1)含有二氧化硅(
      'J力)或氟化鎂的樹脂;2)作為低折射率樹脂的氟系樹脂;3)含有二氧化硅或氟化鎂的氟系樹脂;4) 二氧化硅或氟化鎂薄膜;等等。關(guān)于氟系樹脂以外的樹脂,可以使用與上述粘合劑樹脂同樣的樹脂。另外,上述二氧化硅優(yōu)選為中空二氧化硅微粒,這樣的中空二氧化硅微粒例如可利用日本特開2005-099778號公報(bào)的實(shí)施例中所記載的制造方法來進(jìn)行制作。這些低折射率層的折射率為I. 47以下、特別優(yōu)選為I. 42以下。另外,對于低折射率層的厚度并無限定,通常在IOnm I 左右的范圍內(nèi)進(jìn)行適宜設(shè)定即可。作為上述氟系樹脂,可以使用在分子中至少含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物沒有特別限定,例如優(yōu)選具有借助電離射線而固化的官能團(tuán)、可發(fā)生熱固化的極性基團(tuán)等固化反應(yīng)性基團(tuán)。并且也可以為同時(shí)具有這些反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。相對于該聚合性化合物,所謂聚合物為完全不具有上述反應(yīng)性基團(tuán)等的物質(zhì)。作為上述具有借助電離射線而固化的官能團(tuán)的聚合性化合物,可以廣泛使用具有烯鍵式不飽和鍵的含氟單體。更具體地說,可以示例出氟代烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟_2,2- 二甲基-1,3-間二氧雜環(huán)戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯酰氧基的物質(zhì),還有2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2_(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2_(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、a-三氟甲基丙烯酸甲酯、a-三氟甲基丙烯酸乙酯這樣的在分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物;在分子中具有至少具有3個(gè)氟原子的碳原子數(shù)為I 14的氟代烷基、氟代環(huán)烷基或氟代亞烷基,并具有至少2個(gè)(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。作為上述可發(fā)生熱固化的極性基團(tuán),優(yōu)選例如為羥基、羧基、氨基、環(huán)氧基等氫鍵形成性基團(tuán)。它們不僅與涂膜的密合性優(yōu)異,與二氧化硅等無機(jī)超微粒的親和性也優(yōu)異。作為具有熱固化性極性基團(tuán)的聚合性化合物,可以舉出例如4_氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物;氟乙烯-烴系乙烯基醚共聚物;環(huán)氧、聚氨酯、纖維素、苯酚、聚酰亞胺等各樹脂的氟改性物等。作為上述同時(shí)具有借助電離射線而固化的官能團(tuán)與可發(fā)生熱固化的極性基團(tuán)的聚合性化合物,可以示例出丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和完全氟代烷基酯、亞烷基酯、芳基酯類;完全或部分氟化的乙烯基醚類;完全或部分氟化的乙烯基酯類;完全或部分氟化的乙稀基麗類等。并且,作為氟系樹脂,例如可舉出下述物質(zhì)。含有至少一種的具有上述電離射線固化性基團(tuán)的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物的聚合物;上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的至少一種與(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已基酯之類的在分子中不含有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物;氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,I, 2-三氯_3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之類的含氟單體的均聚物或共聚物等。也可以使用通過使這些共聚物中含有有機(jī)硅成分而得到的含有機(jī)硅的偏二氟乙烯共聚物。作為這種情況下的有機(jī)硅成分,可示例出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基娃氧燒、燒基改性(聚)_■甲基娃氧燒、含偶?xì)饣?聚)_■甲基娃氧燒、_■甲基硅酮、苯基甲基硅酮、烷基 芳烷基改性硅酮、氟硅酮、聚醚改性硅酮、脂肪酸酯改性硅酮、甲基氫硅氧烷、含硅烷醇基的硅酮、含烷氧基的硅酮、含苯酚基的硅酮、甲基丙烯酸改性硅酮、丙烯酸改性硅酮、氨基改性硅酮、羧酸改性硅酮、甲醇改性硅酮、環(huán)氧改性硅酮、巰基改性硅酮、氟改性硅酮、聚醚改性硅酮等。其中優(yōu)選具有二甲基硅氧烷結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步地,含有以下化合物的非聚合物或聚合物也可作為氟類樹脂使用。即,可以使用在分子中具有至少I個(gè)異氰酸酯基的含氟化合物與在分子中具有至少I個(gè)氨基、羥基、羧基之類的可與異氰酸酯基反應(yīng)的官能團(tuán)的化合物發(fā)生反應(yīng)而得到的化合物;含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟e -己內(nèi)酯改性多元醇之類的含氟多元醇與具有異氰酸酯基的化合物發(fā)生反應(yīng)而得到的化合物等。 此外,也可以將上述記載的各粘合劑樹脂與上述具有氟原子的聚合性化合物或聚合物一同進(jìn)行混合來使用。進(jìn)一步地,可以適宜使用用于使反應(yīng)性基團(tuán)等固化的固化劑;用于提高涂布性或賦予防污性的各種添加劑;溶劑。上述低折射率層的形成中,優(yōu)選使添加低折射率劑和樹脂等而成的低折射率層用組合物的粘度處于可獲得優(yōu)選涂布性的0. 5mPa *s 5mPa *s(25°C )、優(yōu)選為0. 7mPa *s 3mPa.s(25°C)的范圍。其可實(shí)現(xiàn)可見光線的優(yōu)異抗反射層,且可均勻地形成沒有涂布不均的薄膜,并且可形成密合性特別優(yōu)異的低折射率層。樹脂的固化手段可以與后述硬涂層中的固化手段相同。為了進(jìn)行固化處理而采用加熱手段的情況下,優(yōu)選向氟系樹脂組合物中添加熱聚合引發(fā)劑,該熱聚合引發(fā)劑通過加熱、例如產(chǎn)生自由基來引發(fā)聚合性化合物的聚合。作為本發(fā)明的光學(xué)層積體的制造方法,例如,利用上述方法在聚酯基材上形成底涂層,在底涂層上形成硬涂層用涂膜,根據(jù)需要進(jìn)行干燥,之后使上述硬涂層用涂膜固化,形成硬涂層。并且可根據(jù)需要利用公知的方法在上述硬涂層上形成上述低折射率層,從而來制造本發(fā)明的光學(xué)層積體。另外,作為上述硬涂層用涂膜的干燥方法沒有特別限定,通??稍?0°C 120°C下進(jìn)行3秒 120秒干燥。作為使上述硬涂層用涂膜的固化方法,可以根據(jù)構(gòu)成成分適當(dāng)選擇公知的方法。例如,若所含有的粘合劑樹脂成分為紫外線固化型,即可通過對涂膜照射紫外線來進(jìn)行固化。在上述照射紫外線的情況下,紫外線照射量優(yōu)選為80mJ/cm2以上、更優(yōu)選為100mJ/cm2以上、進(jìn)一步優(yōu)選為130mJ/cm2以上。對于本發(fā)明的光學(xué)層積體,其硬度在基于JIS K5600-5-4(1999)的鉛筆硬度試驗(yàn)(負(fù)荷4. 9N)中優(yōu)選為HB以上、更優(yōu)選為H以上。另外,本發(fā)明光學(xué)層積體的全光線透過率優(yōu)選為80%以上。若小于80%,則在裝配于圖像顯示裝置中的情況下,可能會損害色彩再現(xiàn)性和可見性,并且有可能得不到所期望的對比度。上述全光線透過率更優(yōu)選為90%以上。上述全光線透過率可使用霧度計(jì)(村上色彩技術(shù)研究所制造,制品編號;HM-150)、通過基于JIS K-7361的方法進(jìn)行測定。并且,本發(fā)明光學(xué)層積體的霧度優(yōu)選為1%以下。若大于1%,則得不到所期望的光學(xué)特性,在將本發(fā)明的光學(xué)層積體設(shè)置于圖像顯示表面時(shí)的可見性會降低。上述霧度可使用霧度計(jì)(村上色彩技術(shù)研究所制造,制品編號;腿-150)、通過基于JIS K-7136的方法進(jìn)行測定。另外,下述的偏振片也是本發(fā)明之一該偏振片為具備偏振元件的偏振片,其特征在于,在上述偏振元件的表面具備貼合聚酯基材等而成的本發(fā)明的光學(xué)層積體。 作為上述偏振元件沒有特別限定,例如可以使用經(jīng)碘等染色并進(jìn)行了拉伸的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏振元件和本發(fā)明的硬涂膜的層積處理中,優(yōu)選對透光性基材進(jìn)行皂化處理。通過皂化處理,使粘接性變好。 使用了本發(fā)明這樣的光學(xué)層積體的本發(fā)明的偏振片中,上述光學(xué)層積體優(yōu)選按照上述聚酯基材的慢軸與后述的偏振元件(配置在液晶盒的可見側(cè)的偏振元件)吸收軸所成的角度為0° ±30°或90° ±30°的方式進(jìn)行配設(shè)。通過使上述聚酯基材的慢軸與偏振片的吸收軸所成的角度處于上述范圍內(nèi),可以極高程度地抑制使用本發(fā)明偏振片的液晶顯示裝置的顯示圖像中產(chǎn)生彩虹斑。該理由尚不明確,但據(jù)推測是基于以下理由。S卩,在沒有外部光線或熒光燈的光的環(huán)境下(以下也將這樣的環(huán)境稱為“暗處”),不論本發(fā)明光學(xué)層積體的聚酯基材的慢軸與偏振片的吸收軸所成的角度為任何角度,均可抑制彩虹斑的發(fā)生。但是,在存在外部光線或熒光燈的光的環(huán)境下(以下也將這樣的環(huán)境稱為“明處”),由于外部光線或熒光燈的光并非僅為具有連續(xù)寬光譜的光,因而若聚酯基材的慢軸與偏振元件的吸收軸所成的角度并未處于上述范圍,則會產(chǎn)生彩虹斑、顯示品質(zhì)會降低。進(jìn)一步推測,由于液晶顯示裝置中的透過濾色器的背光源的光也并非僅具有連續(xù)寬光譜,因而若聚酯基材的慢軸與偏振元件的吸收軸所成的角度并未處于上述范圍,則會產(chǎn)生彩虹斑、顯示品質(zhì)會降低。本發(fā)明還涉及具備上述光學(xué)層積體或上述偏振片的圖像顯示裝置。上述圖像顯示裝置可以舉出LCD、PDP、FED、ELD (有機(jī)EL、無機(jī)EL)、CRT、觸摸屏、電子紙、平板電腦(夕I>卜 PC)等。上述IXD具備透過性顯示體以及從背面對上述透過性顯示體進(jìn)行照射的光源裝置。本發(fā)明的圖像顯示裝置為LCD的情況下,在該透過性顯示體的表面形成有本發(fā)明的光學(xué)層積體或本發(fā)明的偏振片。本發(fā)明為具有上述光學(xué)層積體的液晶顯示裝置的情況下,光源裝置的光源由光學(xué)層積體的下側(cè)(基材側(cè))進(jìn)行照射。另外,在STN型的液晶顯示裝置中,可以在液晶顯示元件與偏振片之間插入相位差板。該液晶顯示裝置的各層間可以根據(jù)需要設(shè)有接合劑層。上述PDP具備表面玻璃基板和背面玻璃基板,該背面玻璃基板是與該表面玻璃基板對置、并在之間封入放電氣體來進(jìn)行配置的。本發(fā)明的圖像顯示裝置為PDP的情況下,在上表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上具備上述光學(xué)層積體。
      其它圖像顯示裝置可以為ELD裝置或CRT等圖像顯示裝置,ELD裝置是在玻璃基板上蒸鍍施加電壓時(shí)會發(fā)光的硫化鋅、二胺類物質(zhì)等發(fā)光體并控制施加至基板的電壓來進(jìn)行顯示的裝置;CRT是將電信號轉(zhuǎn)換為光,產(chǎn)生人眼可見的圖像的裝置。這種情況下,在上述各顯示裝置的表面或其前面板的表面上具備上述光學(xué)層積體。在所有情況下,本發(fā)明的光學(xué)層積體均可用于電視機(jī)、計(jì)算機(jī)等的顯示屏顯示。特別是可以合適地用于液晶面板、PDP、ELD、觸摸屏、電子紙等高精細(xì)圖像用顯示屏的表面。其中,本發(fā)明的光學(xué)層積體可合適地用于觸摸屏中。這種使用了本發(fā)明的光學(xué)層積體的觸摸屏也是本發(fā)明之一。S卩,本發(fā)明的觸摸屏為使用了本發(fā)明的光學(xué)層積體的觸摸屏,其特征在于,在上述光學(xué)層積體硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)置有不可見電極。此處,對于觸摸屏來說,根據(jù)位置檢測的方法來分類,通常已知有光學(xué)方式、超聲
      波方式、靜電容量方式、電阻膜方式等。上述電阻膜方式的觸摸屏呈下述結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電性膜與帶有透明導(dǎo)電體層的玻璃隔著間隔物而對向配置,電流在透明導(dǎo)電性膜中流通,對帶有透明導(dǎo)電體層的玻璃中的電壓進(jìn)行計(jì)測。另外,靜電容量方式的觸摸屏以在基材上具有透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為基本構(gòu)成,其特征在于,沒有可動部分;由于具有高耐久性、高透過率,因而適用于液晶表示顯示屏、移動電話和車載用顯示屏等中。上述觸摸屏中,有時(shí)對透明導(dǎo)電體層進(jìn)行圖案化。但是,若對上述透明導(dǎo)電體層進(jìn)行圖案化,則在圖案部與非圖案化部中,由于構(gòu)成透明導(dǎo)電體層的材料通常為高折射率,因而圖案部與非圖案部的折射率差等的差異呈明確化,從而會從顯示畫面中見到圖案部分,不僅會損傷作為顯示屏的外觀,還會損傷顯示畫面的可見性。特別是在靜電容量方式的觸摸屏中,由于透明導(dǎo)電體層用于入射表面?zhèn)?,因而其影響較強(qiáng),即使是在對透明導(dǎo)電體層進(jìn)行圖案化的情況下,也優(yōu)選為按照其圖案不會從顯示畫面中觀察到的方式進(jìn)行了不可視化的不可見電極。需要說明的是,上述不可見電極為層積有光學(xué)功能層的狀態(tài)的電極,該光學(xué)功能層的層積使得透明導(dǎo)電體層的電極圖案無法從顯示畫面?zhèn)戎斜嬲J(rèn)出,作為其構(gòu)成,可以舉出依序?qū)臃e高折射率層、低折射率層和透明導(dǎo)電體層的構(gòu)成。對于這種構(gòu)成的不可見電極,可通過在后述范圍對上述高折射率層和低折射率層的折射率與膜厚進(jìn)行組合來進(jìn)行不可視化,并按照上述透明導(dǎo)電體層在上述硬涂層顯示畫面?zhèn)缺砻嫣幱谧钔獗砻娴姆绞絹磉M(jìn)行層積。本發(fā)明的觸摸屏設(shè)置有上述不可見電極,特別優(yōu)選為靜電容量方式的觸摸屏。并且,本發(fā)明的光學(xué)層積體為在聚酯基材的兩面形成有底涂層和硬涂層而成的構(gòu)成的情況下,本發(fā)明的觸摸屏中,對于上述不可見電極,在該光學(xué)層積體的至少一個(gè)硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)有不可見電極。這種構(gòu)成的觸摸屏也是本發(fā)明之一。圖3為示意性示出本發(fā)明觸摸屏的一例的截面圖。圖3所示的本發(fā)明的觸摸屏30中,本發(fā)明的光學(xué)層積體在聚酯基材31的兩面形成有底涂層32、在該底涂層32的與各自聚酯基材31側(cè)相反側(cè)的面上形成有硬涂層33。并且,本發(fā)明這樣的光學(xué)層積體中,隔著粘合層300進(jìn)行2層層積(下文中,也將顯示畫面?zhèn)鹊墓鈱W(xué)層積體稱為上層光學(xué)層積體、將另一側(cè)的光學(xué)層積體稱為下層光學(xué)層積體)。進(jìn)一步地,上層光學(xué)層積體和下層光學(xué)層積體分別在顯示畫面?zhèn)鹊挠餐繉?3的面上層積有不可見電極34。該不可見電極34從硬涂層33側(cè)依序?qū)臃e有高折射率層35、低折射率層36和透明導(dǎo)電體層37。本發(fā)明這樣的觸摸屏30隔著粘合層300而層積有下層光學(xué)層積體的不可見電極34以及與上層光學(xué)層積體的顯示畫面?zhèn)认喾匆粋?cè)的硬涂層33。另外,層積在與上層光學(xué)層積體硬涂層33的底涂層32側(cè)相反側(cè)的不可見電極34隔著粘合層38設(shè)置有蓋玻片39,該蓋玻片39構(gòu)成最外表面。另外,圖4為示意性示出本發(fā)明觸摸屏的另一例的截面圖。如圖4所示,本發(fā)明的觸摸屏40在聚酯基材41的兩面形成底涂層42,在底涂層42的與各自聚酯基材41側(cè)相反側(cè)的面上形成硬涂層43,進(jìn)一步在該硬膜43的與底涂層42側(cè)相反一側(cè)的面上形成不可見電極44。該不可見電極44自硬涂層43側(cè)依序?qū)臃e高折射率層45、低折射率層46和透明導(dǎo)電體層47。并且,在顯示畫面?zhèn)鹊牟豢梢婋姌O44上隔著粘合層48設(shè)有蓋玻片49,該蓋玻片49構(gòu)成最外表面。需要說明的是,作為圖3和圖4中的粘合層300、38和48以及蓋玻片39、49沒有特別限定,可以使用與公知的觸摸屏中使用的粘合層和蓋玻片相同的粘合層和蓋玻片。并且,上述蓋玻片也可以為塑料膜。另外,圖3和圖4所示的本發(fā)明的觸摸屏中,均使用了在聚酯基材的兩面形成了底涂層和硬涂層的本發(fā)明的光學(xué)層積體,但在本發(fā)明的光學(xué)層積體為在聚酯基材的兩面形成了底涂層和硬涂層的層積體的情況下,本發(fā)明的觸摸屏并不限于圖3和圖4所示的構(gòu)成。上述構(gòu)成的不可見電極例如可通過基于氣相法(化學(xué)氣相法CVD ;物理氣相法PVD)的涂布或基于液相法的涂布進(jìn)行層積來形成。上述不可見電極中,優(yōu)選上述高折射率層的折射率為I. 67 I. 85、膜厚為20nm 80nm,且上述低折射率層的折射率為I. 40 I. 50、膜厚為20nm 80nm。在這些范圍內(nèi)對上述高折射率層和低折射率層的折射率和膜厚進(jìn)行適宜組合,使用可對上述透明電極層進(jìn)行不可視化的組合即可。另外,所謂高折射率指的是高于作為高折射率層之下的層的硬涂層的折射率,所謂低折射率指的是低于作為低折射率層之下的層的高折射率層的折射率。通過基于氣相法的涂布來層積形成上述不可見電極的情況下,作為上述高折射率層,可以使用折射率為I. 67 2. 50的層。另一方面,通過基于液相法的涂布來層積形成上述不可見電極的情況下,對于上述高折射率層和低折射率層的材料沒有特別限定,可以通過選擇適當(dāng)?shù)耐坎挤椒▽τ趯⑵骄鵌次粒徑為IOnm IOOnm的高折射率超微?;虻驼凵渎食⒘Ec有機(jī)溶劑或分散劑等添加劑一起均勻分散在粘合劑基質(zhì)中而成的組合物進(jìn)行涂布、并干燥、固化(熱固化、UV固化、EB固化)而得到。 此外,也可以不使用上述高折射率超微粒而使用粘合劑樹脂自身為高折射率樹脂或低折射率樹脂的化合物來作為組合物。作為上述粘合劑基質(zhì),只要為可充分保持膜強(qiáng)度的化合物就沒有特別限定,例如為具有可因熱以及uv、EB而發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。作為這樣的化合物,例如優(yōu)選在分子中至少具有3個(gè)以上乙烯基、丙烯?;⒓谆;瓤删酆系牟伙柡玩I的丙烯酸系化合物;或通過溶膠凝膠反應(yīng)而發(fā)生固化的材料。作為上述通過溶膠凝膠反應(yīng)而發(fā)生固化的材料,可以舉出例如R’ X Si(OR)4_x(R:燒基;R’ 在末端具有乙烯基、丙烯?;⒓谆;瓤删酆喜伙柡玩I的官能團(tuán)為0〈x〈4的取代數(shù))所表示的化合物及其水解物等。并且,作為上述粘合劑,優(yōu)選為與上述硬涂層的材料相同的化合物,例如特別優(yōu)選作為3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物的PETA、PETTA, DPPA, DPHA, TMPTA等。作為上述高折射率超微粒,優(yōu)選為折射率高且為無色或幾乎未著色的金屬氧化物超微粒,可以使用在硬涂層的高折射率化中所使用的材料。其中,可適當(dāng)使用TiO2 (折射率2.71), ZrO2 (折射率2. 10)、Nb2O5 (折射率:2. 33)、Ta2O5 (折射率:2. 16),由于可使透明導(dǎo)電體層圖案不可視化、且涂膜的透明性、耐久性等良好,特別優(yōu)選ZrO2顆粒、ATO顆粒。上述低折射率層的材料可與將本發(fā)明的光學(xué)層積體制成反射防止膜的情況下進(jìn)行層積的低折射率層同樣。 作為上述透明導(dǎo)電體層的構(gòu)成材料沒有特別限定,例如使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、硅、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢組成的組中的至少一種金屬的金屬氧化物。根據(jù)需要,該金屬氧化物可進(jìn)一步含有上述組中所示出的金屬原子。例如優(yōu)選使用含有氧化錫的氧化銦(ITO)、含有銻的氧化錫(ATO)等。對于上述透明導(dǎo)電體層的厚度并無特別限制,為將其制成表面電阻為I X IO3 Q / 口以下的具有良好導(dǎo)電性的連續(xù)覆膜,需要有某種程度的膜厚,但若膜厚過厚,則會招致透明性的降低等,因而上述厚度的優(yōu)選下限為15nm、優(yōu)選上限為45nm,更優(yōu)選的下限為20nm、更優(yōu)選的上限為30nm。若厚度小于15nm,則表面電阻增高、且難以制成連續(xù)覆膜。并且,若大于45nm,則會招致透明性的降低等。作為上述透明導(dǎo)電體層的形成方法沒有特別限定,可以采用現(xiàn)有公知的方法。具體地說,可以示例出例如真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法。另外,也可對應(yīng)于所需要的膜厚而采取適當(dāng)?shù)姆椒āP枰f明的是,在上述低折射率層上形成上述透明導(dǎo)電體層后,可根據(jù)需要在100°C 150°C的范圍內(nèi)施以退火處理來進(jìn)行結(jié)晶化。本發(fā)明中,上述透明導(dǎo)電體層優(yōu)選進(jìn)行蝕刻而使之圖案化。在上述透明導(dǎo)電體層進(jìn)行結(jié)晶化時(shí),有時(shí)難以進(jìn)行蝕刻,因而優(yōu)選在對該透明導(dǎo)電體層進(jìn)行圖案化之后來進(jìn)行上述透明導(dǎo)電體層的退火化處理。進(jìn)一步地,在對上述高折射率層和低折射率層進(jìn)行蝕刻的情況下,優(yōu)選在該高折射率層和低折射率層的蝕刻之后進(jìn)行透明導(dǎo)電體層的退火化處理。發(fā)明的效果本發(fā)明的光學(xué)層積體由上述構(gòu)成而形成,因而聚酯基材與硬涂層的密合性優(yōu)異、并可高程度地抑制液晶顯示裝置的顯示圖像中發(fā)生彩虹斑和干涉條紋。因此,本發(fā)明的光學(xué)層積體可適當(dāng)?shù)赜糜陉帢O線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示屏(LCD)、等離子體顯示屏(PDP)、電致發(fā)光顯示屏(ELD)、電子紙、平板電腦等的顯示屏中,特別是可適當(dāng)?shù)赜糜诟呔?xì)化顯示屏中。

      圖I是示意性示出本發(fā)明光學(xué)層積體的一例的截面圖。
      圖2是示意性示出本發(fā)明光學(xué)層積體的另一例的截面圖。圖3是示意性示出本發(fā)明觸摸屏的一例的截面圖。圖4是示意性示出本發(fā)明觸摸屏的另一例的截面圖。
      具體實(shí)施方式

      通過下述的實(shí)施例對本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行說明,但并不解釋為將本發(fā)明的內(nèi)容限定于這些實(shí)施方式中。另外,只要沒有特別限定,“份”和“%”為質(zhì)量基準(zhǔn)。另外,對于底涂層和硬涂層的折射率,使用分光光度計(jì)(島津制作所社制造的UV-3100PC)測定波長380nm 780nm的平均反射率(R),使用下式,由所得到的平均反射率(R)求出折射率(n)的值。對于底涂層和硬涂層的平均反射率,在未經(jīng)易粘接處理的50 PET上涂布各原料組合物,制成I U m 3 U m厚度的固化膜,為防止背面反射,在PET的未涂布面(背面)粘貼寬度大于測定位點(diǎn)面積的黑色聚氯乙烯絕緣帶(例如,Yamato聚氯乙烯絕緣帶N0200-38-2138mm寬),之后測定涂膜的平均反射率。R(%) = (l-n) 2/(l+n)2對于聚酯基材的折射率,使用二片偏振片,求出聚酯基材的取向軸向(主軸的方向),利用阿貝折射率計(jì)(Atago社制造NAR-4T)來求出相對于取向軸向正交的二個(gè)軸的折射率(nx、ny)。在實(shí)施例中,是利用該方法來測定折射率的,但在光學(xué)層積體的情況下,也可利用上述的貝克法進(jìn)行測定。另外,硬涂層干燥固化后的膜厚測定也可以通過截面觀察進(jìn)行測定,此處,可簡單地使用厚度測定裝置Mitutoyo社制造的Digimatic Indicator IDF-130對任意的10個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測定,求出平均值。另外,底涂層的膜厚是利用TEM照片對光學(xué)層積體的截面進(jìn)行觀察來求得的。另外,實(shí)施例和比較例中使用的材料如下。粘合劑成分(I):日本化藥社制造的多官能丙烯酸酯、商品名KAYARAD-PET-30 (PETA (季戊四醇三丙烯酸酯3官能)粘合劑成分(2):東亞合成社制造的多官能低聚物、商品名Aronix M_9050(聚酯丙烯酸酯、3官能以上、數(shù)均分子量400 5000)粘合劑成分(3):共榮社化學(xué)工業(yè)社制造的商品名LINC_3A(氟單體)高折射率微粒分散液(I) =CIKNano Tek社制造的TiO2微粒的水分散液、商品名二氧化鈦衆(zhòng)料(固體成分20%分散液)高折射率微粒分散液⑵住友大阪水泥社制造的ZrO2微粒的MEK分散液、商品名MZ-230X(固體成分30%分散液)低折射率微粒中空二氧化硅微粒的MIBK分散液(平均一次粒徑50nm、固體成分20%、空隙率40%)光聚合引發(fā)劑⑴BASF社制造的商品名Irgacure 184光聚合引發(fā)劑⑵BASF社制造的商品名Irgacure 127防污劑信越化學(xué)工業(yè)社制造的X-22-164E (反應(yīng)性有機(jī)硅系防污劑)溶劑(I):甲基乙基酮(簡稱MEK)
      溶劑(2):甲苯溶劑⑶環(huán)己酮(簡稱Anon)溶劑⑷甲基異丁基酮(簡稱MIBK)(底涂層用組合物、硬涂層用組合物和低折射率層用組合物的制備)通過配合如下所示的組成成分,由此來分別制備底涂層用組合物、硬涂層用組合物和低折射率層用組合物。(底涂層用組合物I)聚酯樹脂的水分散體20. 7質(zhì)量份高折射率微粒分散液(I) 9. I質(zhì)量份 水70. 2質(zhì)量份(底涂層用組合物2)聚酯樹脂的水分散體28. 0質(zhì)量份水72. 0質(zhì)量份(硬涂層用組合物I)
      高折射率微粒分散液(2)MZ-230X58.8質(zhì)量份
      粘合劑成分Cl)PET-3011.8質(zhì)量份
      溶劑(4)MIBK28.8質(zhì)量份
      光聚合弓丨發(fā)劑⑴Irgacure 1840.6質(zhì)量份(硬涂層用組合物2)
      粘合劑成分⑴PET-305.7質(zhì)量份
      粘合劑成分(2)M-905023.1質(zhì)量份
      溶劑(4)MIBK70.0質(zhì)量份
      光聚合引發(fā)劑(I)Irgacure 1841.2質(zhì)量份(硬涂層用組合物3)
      高折射率微粒分散液(2)MZ-230X48.8質(zhì)量份
      粘合劑成分(l)PET-3014.6質(zhì)量份
      溶劑(4)MIBK35.9質(zhì)量份
      光聚合引發(fā)劑(I)Irgacure 1840.7質(zhì)量份(低折射率層用組合物)
      中空二氧化硅微粒分散液15.0質(zhì)量份
      粘合劑成分⑴PET-301.0質(zhì)量份粘合劑成分(3)LINC-3A1.0質(zhì)量份
      溶劑(4)MIBK83.0質(zhì)量份
      光聚合引發(fā)劑p)Irgac+ure 1270.1質(zhì)量份
      防污劑X-22-164E0.05質(zhì)量份(不可視化用高折射率層用組合物)
      高折射率微粒分散液(2)MZ-230X11.0質(zhì)量份
      粘合劑成分(l)PET-301.6質(zhì)量份
      溶劑(4)MIBK87.3質(zhì)量份
      光聚合引發(fā)糾⑵丨丨'gacure 1270.1質(zhì)量份(不可視化用低折射率層用組合物)
      粘合劑成分⑴PET-300.6質(zhì)量份
      粘合劑成分(3)LINC-3A2.2質(zhì)量份
      溶劑⑷MffiK97.0質(zhì)量份
      光聚合引發(fā)劑(2)Irgacure 1270.2質(zhì)量份
      防污劑X-22-164E0.01質(zhì)量份(實(shí)施例I)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具(7 〃 > ^形成夕'^ ),擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)4. 5倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物I。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. 5倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=10000nm、膜厚=100 y m、nx=l. 70、ny=l. 60、An=O. 10的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 65、膜厚為lOOnm。其后,在所形成 的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物1,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。接下來,使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(實(shí)施例2)使用硬涂層用組合物3來代替硬涂層用組合物1,除此之外,與實(shí)施例I同樣地制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.61。(實(shí)施例3)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)5. 2倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物2。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. 2倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=9000nm、膜厚=60um,nx=l. 73、ny=l. 58、An=O. 15的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為20nm。其后,在所形成的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物1,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。接下來使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(實(shí)施例4)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)3. 5倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物I。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù) I. 5 倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=8750nm、膜厚=125iim、nx=l. 685、ny=l. 615、An=O. 07的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 65、膜厚為300nm。其后,在所形成的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物1,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。接下來使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(實(shí)施例5)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)5. 2倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物I。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. 2倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=9000nm、膜厚=60um,nx=l. 73、ny=l. 58、An=O. 15的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 65、膜厚為300nm。其后,在所形成的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物1,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。
      接下來使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為I. 65。(實(shí)施例6)使用底涂層用組合物2來代替底涂層用組合物1,除此之外,與實(shí)施例I同樣地制造光學(xué)層積體。另外,聚酯基材的延遲=10000nm、膜厚=100U m、nx=l. 70、ny=l. 60、A n=0. 10,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為20nm。并且硬涂層的折射率為I. 65。(實(shí)施例7)使用硬涂層用組合物3來代替硬涂層用組合物I、使底涂層的膜厚為10nm,除此之夕卜,與實(shí)施例6同樣地制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.61。(實(shí)施例8)利用與實(shí)施例6相同的條件來形成聚酯基材、底涂層和硬涂層,接下來,在該硬涂層上使用刮條涂布機(jī)來涂布低折射率層用組合物,形成涂膜。與硬涂層同樣地對該涂膜進(jìn)行干燥、紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為IOOnm的低折射率層,制造具有低折射率層的光學(xué)層積體。(實(shí)施例9)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)3. 5倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物2。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù) I. 5 倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=8750nm、膜厚=125 ym、nx=l. 685、ny=l. 615、An=O. 07的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為20nm。其后,在所形成的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物1,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。接下來使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(實(shí)施例10)使用底涂層用組合物2來代替底涂層用組合物1,除此之外,與實(shí)施例I同樣地制造光學(xué)層積體。另外,聚酯基材的延遲=10000nm、膜厚=100u m、nx=l. 70、ny=l. 60、A n=0. 10,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為3nm。并且硬涂層的折射率為I. 65。(實(shí)施例11)使用底涂層用組合物2來代替底涂層用組合物1,除此之外,與實(shí)施例I同樣地制造光學(xué)層積體。另外,聚酯基材的延遲=10000nm、膜厚=100u m、nx=l. 70、ny=l. 60、A n=0. 10,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為30nm。并且硬涂層的折射率為I. 65。(比較例I)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)4. 5倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物2。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. 5倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=10000nm、膜厚=100 y m、nx=l. 70、ny=l. 60、An=O. 10的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為lOOnm。其后,利用與實(shí)施例I相同的條件形成硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(比較例2)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在120°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于120°C以拉伸倍數(shù)4. 5倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底層涂料組合物2。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. 5倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=10000nm、膜厚=100 y m、nx=l. 70、ny=l. 60、An=O. 10的聚酯基材。另外,底涂層的折射率為I. 57、膜厚為20nm。其后,在所形成的底涂層上利用刮條涂布機(jī)涂布硬涂層用組合物2,在70°C下進(jìn)行I分鐘干燥,除去溶劑,形成涂膜。接下來使用紫外線照射裝置〔Fusion UV Systems Japan社制造H VALVE(商品名)〕以照射量150mJ/cm2對該涂膜進(jìn)行紫外線照射,形成干燥固化后的膜厚為6. 0 y m的硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.52。(比較例3)作為聚酯基材,使用東洋紡社制造的PET膜“A4100” (延遲=6200nm、膜厚=188 u m> An=O. 033),除此以外,利用與實(shí)施例I相同的涂布條件來形成底涂層和硬涂層,制造光學(xué)層積體。另外,硬涂層的折射率為1.65。(比較例4)在290°C使熔融聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融,通過成膜模具,擠出成片狀,密合在經(jīng)水冷冷卻的旋轉(zhuǎn)急冷鼓上進(jìn)行冷卻,制作未拉伸膜。利用雙向拉伸試驗(yàn)裝置(東洋精機(jī)社制造)在150°C對該未拉伸膜進(jìn)行I分鐘預(yù)熱后,于150°C以拉伸倍數(shù)8. 0倍進(jìn)行拉伸,之后在其兩面利用輥涂機(jī)均勻涂布底涂層用組合物I。接下來,使該涂布膜連續(xù)并在95°C進(jìn)行干燥,在與其拉伸方向成90度的方向以拉伸倍數(shù)I. O倍進(jìn)行拉伸,得到延遲=12500nm、膜厚=50um,nx=l. 80、ny=l. 55、An=O. 025的
      聚酯基材。但是,采用上述條件制備的基材發(fā)生膜的開裂、破損,缺乏實(shí)用性,無法進(jìn)行硬膜組合物的涂布,未能進(jìn)行評價(jià)。(比較例5)除了使底涂層的膜厚為40nm以外,采用與實(shí)施例7相同的條件制造光學(xué)層積體。(比較例6) 除了使底涂層的膜厚為Inm以外,采用與實(shí)施例7相同的條件制造光學(xué)層積體。對于實(shí)施例和比較例中得到的光學(xué)層積體,進(jìn)行以下評價(jià)。結(jié)果列于表I。(彩虹斑評價(jià))將實(shí)施例、比較例中制作的光學(xué)層積體配置在液晶監(jiān)視器(FLAT0R0N IPS226V(LGElectronics Japan社制造))觀察者側(cè)的偏振元件上,制作液晶顯示裝置。需要說明的是,將光學(xué)層積體按照聚酯基材的慢軸與液晶監(jiān)視器觀察者側(cè)的偏振元件的吸收軸所成的角度為0°的方式進(jìn)行配置。并且,在暗處和明處(液晶監(jiān)視器周邊照度4001ux),從正面和斜向方向(約50度),通過目視和隔著偏振光太陽鏡進(jìn)行顯示圖像的觀察,按照以下基準(zhǔn)對彩虹斑的有無進(jìn)行評價(jià)。隔著偏振光太陽鏡的觀察相比于目視為非常嚴(yán)格的評價(jià)法。觀察由10人進(jìn)行,將數(shù)目最多的評價(jià)作為觀察結(jié)果?!?隔著偏振光太陽鏡未觀察到彩虹斑。〇隔著偏振光太陽鏡觀察到了彩虹斑,但較淡;通過目視未觀察到彩虹斑,為實(shí)際使用上沒有問題的水平。A :隔著偏振光太陽鏡觀察到了彩虹斑,通過目視也觀察到了非常淡的彩虹斑。X :隔著偏振光太陽鏡觀察到了強(qiáng)烈的彩虹斑,目視也觀察到了彩虹斑。(干涉條紋的評價(jià))使用Funatec社制造的干涉條紋檢查燈(Na燈),通過目視檢查干涉條紋的有無,按照下述基準(zhǔn)進(jìn)行評價(jià)。對于樣品,利用黑油墨涂滿涂布面的相反側(cè),利用干涉條紋檢查燈照射涂布面,通過反射觀察進(jìn)行評價(jià)?!?未發(fā)現(xiàn)干涉條紋的發(fā)生。〇觀察到了干涉條紋,但極淡,為實(shí)際使用上沒有問題的水平。A :觀察到了較淡的干涉條紋。X :清楚地觀察到了干涉條紋。(密合性的評價(jià))進(jìn)行如下所示棋盤格密合性試驗(yàn)的密合率測定。(棋盤格密合性試驗(yàn))在光學(xué)層積體的涂布面?zhèn)仁蛊湟訧mm見方具有合計(jì)100目的棋盤格,使用Nichiban社制造的工業(yè)用24mm Cellotape (注冊商標(biāo))進(jìn)行5次連續(xù)剝離試驗(yàn),求得按下述基準(zhǔn)計(jì)算出的未剝離而殘留的方格(7 7目)的比例。密合率(%)= {未剝離的方格數(shù)/合計(jì)方格數(shù)(100) } X 100〇密合率為90%以上。
      X :密合率小于90%。(反射率的測定)反射率的測定使用日本分光社制造的商品名V7100型紫外可見分光光度計(jì)和日本分光社制造的商品名VAR-7010絕對反射率測定裝置,使入射角為5°、偏振光器為N偏振光、測定波長范圍為380nm 780nm,在與加工面相反側(cè)(逆?zhèn)?的聚酯基材側(cè)貼合用于防止背面反射的黑色聚氯乙烯絕緣帶(例如,Yamato聚氯乙烯絕緣帶N0200-38_2138mm寬),將其設(shè)于裝置進(jìn)行測定。另外,將在測定波長范圍求得的測定結(jié)果的平均值作為反射率,對設(shè)置有低折射率層的光學(xué)層積體進(jìn)行測定。表I
      權(quán)利要求
      1.一種光學(xué)層積體,其為在聚酯基材上形成底涂層、在所述底涂層上形成硬涂層的光學(xué)層積體,該光學(xué)層積體的特征在于 所述聚酯基材具有8000nm以上的延遲、且慢軸方向的折射率nx與快軸方向的折射率ny之差nx-ny為O. 07 O. 20,所述慢軸方向?yàn)檎凵渎蚀蟮姆较?所述快軸方向?yàn)榕c所述慢軸方向正交的方向; 所述底涂層的折射率np與所述聚酯基材的慢軸方向的折射率nx和快軸方向的折射率ny具有ny〈np〈nx的關(guān)系; 所述硬涂層的折射率nh與所述聚酯基材的慢軸方向的折射率nx和快軸方向的折射率ny具有ny〈nh〈nx的關(guān)系。
      2.一種光學(xué)層積體,其為在聚酯基材上形成底涂層、在所述底涂層上形成硬涂層的光學(xué)層積體,該光學(xué)層積體的特征在于 所述聚酯基材具有8000nm以上的延遲、且慢軸方向的折射率nx與快軸方向的折射率ny之差nx-ny為O. 07 O. 20,所述慢軸方向?yàn)檎凵渎蚀蟮姆较?所述快軸方向?yàn)榕c所述慢軸方向正交的方向; 所述底涂層的厚度為3nm 30nm ; 所述硬涂層的折射率nh與所述聚酯基材的慢軸方向的折射率nx和快軸方向的折射率ny具有ny〈nh〈nx關(guān)系。
      3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)層積體,其中,聚酯基材的快軸方向的折射率ny與底涂層的折射率np具有ny>np的關(guān)系。
      4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)層積體,其中,聚酯基材的快軸方向的折射率ny與底涂層的折射率np之差ny-np為O. 05以下。
      5.如權(quán)利要求2、3或4所述的光學(xué)層積體,其中,聚酯基材的慢軸方向的折射率nx與硬涂層的折射率nh之差nx-nh以及所述硬涂層的折射率nh與所述聚酯基材的快軸方向的折射率ny之差nh-ny均為O. 025以上。
      6.如權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的光學(xué)層積體,其中,在聚酯基材的兩面形成有底涂層和硬涂層。
      7.一種偏振片,其為通過具備偏振元件而成的偏振片,該偏振片的特征在于,在所述偏振元件的表面具備權(quán)利要求1、2、3、4、5或6所述的光學(xué)層積體。
      8.一種圖像顯示裝置,其特征在于,該圖像顯示裝置具備權(quán)利要求1、2、3、4、5或6所述的光學(xué)層積體、或具備權(quán)利要求7所述的偏振片。
      9.一種觸摸屏,其為采用了權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的光學(xué)層積體的觸摸屏,該觸摸屏的特征在于,在所述光學(xué)層積體的硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)置有不可見電極。
      10.一種觸摸屏,其為采用了權(quán)利要求6所述的光學(xué)層積體的觸摸屏,該觸摸屏的特征在于,在所述光學(xué)層積體的至少一個(gè)硬涂層的與底涂層側(cè)相反一側(cè)的表面上設(shè)置有不可見電極。
      全文摘要
      本發(fā)明的目的在于提供光學(xué)層積體、偏振片和圖像顯示裝置。本發(fā)明的光學(xué)層積體為在聚酯基材上形成底涂層、在上述底涂層上形成硬涂層的光學(xué)層積體,其特征在于上述聚酯基材具有8000nm以上的延遲、且慢軸方向的折射率(nx)與快軸方向的折射率(ny)之差(nx-ny)為0.07~0.20,所述慢軸方向?yàn)檎凵渎蚀蟮姆较?,所述快軸方向?yàn)榕c所述慢軸方向正交的方向;上述底涂層的折射率(np)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny<np<nx的關(guān)系;上述硬涂層的折射率(nh)與上述聚酯基材的慢軸方向的折射率(nx)和快軸方向的折射率(ny)具有ny<nh<nx的關(guān)系。
      文檔編號B32B27/36GK102981203SQ201210483029
      公開日2013年3月20日 申請日期2012年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月27日
      發(fā)明者篠原誠司, 磯島征一, 中川博喜, 古井玄 申請人:大日本印刷株式會社
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