專利名稱：一種超低速流漿箱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及制漿造紙技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種超低速流漿箱裝置。
背景技術(shù)：
勻漿輥是中、低速造紙機(jī)流漿箱中最常用的消能和整流元件，當(dāng)流漿箱中漿料流速比較低時(shí)，通過勻漿輥的轉(zhuǎn)動(dòng)作用，能起到消除橫流、勻整漿流、分散纖維絮聚的作用。但勻漿輥在應(yīng)用過程中，必須浸沒在流漿箱的漿料中，否則如果勻漿輥露出漿面，會(huì)由于勻漿輥的轉(zhuǎn)動(dòng)帶入空氣、產(chǎn)生氣泡，同時(shí)也容易掛漿。根據(jù)漿網(wǎng)速比的要求，一定的紙機(jī)網(wǎng)速必須有一個(gè)對(duì)應(yīng)的流漿箱噴漿速度，流漿箱的噴漿速度是由下式來確定的
權(quán)利要求1.一種超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管、布漿元件、流漿箱底板、上唇板、下唇板、整流勻漿輥，其特征在于所述流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于還包括一根設(shè)置于布漿元件出口的消能勻漿輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于所述流漿箱底板向上傾斜與水平面成10° 30°角。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的超低速流漿箱裝置，其特征在于當(dāng)整流勻漿輥半徑為RO時(shí)，圓弧過渡的半徑Rl=R0+3mm 5mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種超低速流漿箱裝置，包括進(jìn)漿總管、布漿元件、流漿箱底板、上唇板、下唇板、整流勻漿輥，所述流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。沿漿料的流動(dòng)方向，流漿箱底板的內(nèi)底面向上傾斜至下唇板并與下唇板圓弧過渡連接，整流勻漿輥安裝于該圓弧過渡處。從而可以降低整流勻漿輥的高度，在紙機(jī)車速很低，流漿箱中下唇板上的液位較低時(shí)，滿足整流勻漿輥浸沒的工藝要求，通過這種結(jié)構(gòu)，流漿箱在敞開條件下就能滿足紙機(jī)超低速(如30m/min)抄造的要求，而無須配置真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，降低了設(shè)備成本。本專利技術(shù)手段簡(jiǎn)便易行，具有積極的技術(shù)效果與推廣應(yīng)用價(jià)值。
文檔編號(hào)D21F1/02GK202626738SQ20122024504
公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月28日
發(fā)明者劉建安, 張 成, 樊慧明, 陳克復(fù) 申請(qǐng)人:華南理工大學(xué)