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      脫模劑組合物及使用其的轉(zhuǎn)印箔的制作方法

      文檔序號(hào):2444397閱讀:251來源:國知局
      脫模劑組合物及使用其的轉(zhuǎn)印箔的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種含有氨基醇酸樹脂、具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物和酸的脫模劑用組合物,及具有使用該組合物形成的脫模層的轉(zhuǎn)印箔。
      【專利說明】脫模劑組合物及使用其的轉(zhuǎn)印箔
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種作為轉(zhuǎn)印箔的脫模層的材料有用的脫模劑組合物、及具有使用該組合物而形成的脫模層的轉(zhuǎn)印箔 。
      【背景技術(shù)】
      [0002]一直以來進(jìn)行著如下操作:使用在具有脫模性的基材膜上設(shè)置有具有圖案性、耐擦傷性、抗靜電性等特性的裝飾層而成的轉(zhuǎn)印箔,利用真空加壓轉(zhuǎn)印法或者模內(nèi)轉(zhuǎn)印法,在塑料制品、金屬制品的立體形狀表面實(shí)施圖案印刷,或者給予各種特性。
      [0003]已知有一種轉(zhuǎn)印箔用脫模性膜,是在含有O~40重量份的增塑劑的由平均聚合度1500以下的氯乙烯樹脂構(gòu)成的厚度10~500 μ m的氯乙烯類樹脂層的單面,介由底漆層形成由選自水溶性聚酯、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物樹脂、紫外線固化型丙烯酸類樹脂、以及紫外線固化型硅酮樹脂中的樹脂構(gòu)成的厚度0.5~50 μ m的脫模層而得到的,通過使用該膜,從而得到即使對(duì)于成型品的深拉伸形狀也可良好地追隨、且與裝飾層的剝離性優(yōu)異的轉(zhuǎn)印箔。(參照專利文獻(xiàn)I)
      [0004]另外,已知有在由未拉伸的聚酯類樹脂構(gòu)成的基體片上,依次形成由常溫固化性樹脂構(gòu)成的脫模劑層、圖案層、粘接劑層而得的轉(zhuǎn)印材料,作為常溫固化性樹脂,可例示將丁基化脲三聚氰胺樹脂、酸固化氨基醇酸共縮合樹脂等酸固化性樹脂與對(duì)甲苯磺酸等酸性溶液共混而成的涂布液,或聚氨酯樹脂等固化性樹脂等。通過使用該轉(zhuǎn)印材料,從而即使在突起大的被轉(zhuǎn)印物等的表面也能夠沒有縫隙地密合,所以能夠不產(chǎn)生以下現(xiàn)象地形成,所述現(xiàn)象是形成有皺褶的圖案、或者圖案層從被轉(zhuǎn)印物的表面形成浮起、或者圖案層破裂。(參照專利文獻(xiàn)2)
      [0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
      [0006]專利文獻(xiàn)
      [0007]專利文獻(xiàn)1:日本特開平8-20199號(hào)公報(bào)
      [0008]專利文獻(xiàn)2:日本特開平9-123694號(hào)公報(bào)

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0009]已知使用氨基醇酸樹脂作為脫模劑的轉(zhuǎn)印箔,如上所述,即使對(duì)于深拉伸形狀的成型品也能夠沒有問題地轉(zhuǎn)印,但根據(jù)轉(zhuǎn)印層的種類,存在利用模內(nèi)轉(zhuǎn)印法進(jìn)行轉(zhuǎn)印而成的成型品的表面,更具體而言是被轉(zhuǎn)印到成型品的表面的轉(zhuǎn)印層(裝飾層)產(chǎn)生裂紋這樣的問題。
      [0010]本發(fā)明的課題在于提供一種即使對(duì)于深拉伸形狀的成型品,在轉(zhuǎn)印時(shí)轉(zhuǎn)印層也不產(chǎn)生裂紋的轉(zhuǎn)印箔。
      [0011]本發(fā)明人等為了解決上述課題進(jìn)行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過查明轉(zhuǎn)印后的轉(zhuǎn)印層產(chǎn)生裂縫的原因是由于模內(nèi)成型時(shí)脫模層產(chǎn)生裂紋,并研究了成型時(shí)脫模層不產(chǎn)生裂紋的組成,能夠解決上述課題,進(jìn)而完成了本發(fā)明。[0012]即,本發(fā)明涉及一種含有氨基醇酸樹脂、具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物和酸的脫模劑用組合物。
      [0013]在本發(fā)明的脫模劑用組合物中,氨基醇酸樹脂優(yōu)選為含長鏈烷基的氨基醇酸樹月旨,具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物優(yōu)選為含有70%以上的1,2-鍵的聚丁二烯多元醇,另外,具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物的重均分子量優(yōu)選在1500~2500的范圍。
      [0014]另外,本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)印箔,在含有基材、脫模層、和轉(zhuǎn)印層的轉(zhuǎn)印箔中,脫模層是通過在該基材上涂布上述脫模劑組合物而得到的。
      [0015]在本發(fā)明的轉(zhuǎn)印箔中,轉(zhuǎn)印層優(yōu)選為含有有機(jī)無機(jī)復(fù)合物的層,該有機(jī)無機(jī)復(fù)合物含有:a)下述式(I)表示的有機(jī)硅化合物和/或其縮合物、b)紫外線固化性化合物、以及
      c)硅烷醇縮合催化劑。
      [0016]RnSiX4V..(I)
      [0017](式中,R表示碳原子與式中的Si直接鍵合的有機(jī)基團(tuán),X表示羥基或者水解性基團(tuán)。η表不I或2,η為2時(shí),2個(gè)R可以相同也可以不同,(4_η)為2以上時(shí),多個(gè)X可以相同也可以不同。)
      [0018]通過使用本發(fā)明的脫模劑組合物、及使用了該組合物的轉(zhuǎn)印箔,從而即使是深拉伸形狀的成型品,也能夠在轉(zhuǎn)印層不產(chǎn)生裂紋的情況下進(jìn)行轉(zhuǎn)印。
      【具體實(shí)施方式】
      [0019]本發(fā)明的脫模劑組合物含有氨基醇酸樹脂、具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物和酸。
      `[0020]本發(fā)明的脫模劑組合物中使用的氨基醇酸樹脂是將醇酸樹脂與氨基樹脂等固化成分混合并使其固化而成的。醇酸樹脂可以是公知的樹脂,但優(yōu)選使用油長為O~60、優(yōu)選為5~60、更優(yōu)選為20~40,酸值為I~30mgK0H/g、優(yōu)選為5~25mgK0H/g,羥值為50~300mgK0H/g、優(yōu)選為100~250mgK0H/g的椰子油、椰子油脂肪酸、大豆油、大豆油脂肪酸、蓖麻油、或者蓖麻油脂肪酸等制造而成的醇酸樹脂。另外,對(duì)于這些醇酸樹脂,也可以用丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂等進(jìn)行改性,或者混合使用。
      [0021]氨基樹脂是指利用含有氨基的化合物與醛的縮合反應(yīng)而得到的樹脂,包括苯胺-醛樹脂、脲樹脂、三聚氰胺樹脂等。氨基樹脂可以使用各種市售的氨基樹脂,也可以根據(jù)公知的方法進(jìn)行合成。作為合成方法,例如,可以使用以含有羥甲基或者其醚的預(yù)聚物為原料樹脂而合成的各種氨基樹脂。更具體而言,可以使用甲基化三聚氰胺樹脂、丁基化三聚氰胺樹脂、甲基化脲樹脂、丁基化脲樹脂、甲基化苯并胍胺樹脂、丁基化苯并胍胺樹脂等各種公知樹脂,但從反復(fù)使用性的觀點(diǎn)出發(fā),優(yōu)選甲基化三聚氰胺樹脂,特別優(yōu)選以每個(gè)三嗪核含有I個(gè)以上羥甲基的甲基化三聚氰胺樹脂為主成分的樹脂。
      [0022]本發(fā)明中使用的氨基醇酸樹脂只要是上述樹脂就沒有特別限定,優(yōu)選含有碳原子數(shù)7~30左右的烷基的含長鏈烷基的氨基醇酸樹脂。
      [0023]作為本發(fā)明的脫模劑組合物所使用的具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物,例如可舉出聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇、氫化聚丁二烯多元醇、氫化聚異戊二烯多元醇等聚烯烴類多元醇。其中,特別優(yōu)選聚丁二烯多元醇,其重均分子量沒有特別限制,但優(yōu)選為1500~2500的范圍。另外,1,2-鍵與1,4-鍵的比例沒有特別限制,但1,2-鍵的比例優(yōu)選為70%以上,進(jìn)一步優(yōu)選為80%以上。
      [0024]作為聚丁二烯多元醇的市售品,可例示出光興產(chǎn)公司制的商品名“POLY bdR-45HT”(羥值=45.4mgK0H/g、Mn = 2470、氧含量2.57質(zhì)量%)、日本曹達(dá)公司制的商品名“NISSO PB-2000”(羥值=35_55mgK0H/g)等。
      [0025]氨基醇酸樹脂與具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物的混合比(氨基醇酸樹脂/具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物)沒有特別限制,以重量比計(jì)優(yōu)選為60/40~90/10的范圍,進(jìn)一步優(yōu)選為70/30~80/20的范圍。
      [0026]作為本發(fā)明的脫模劑組合物所使用的酸,可舉出乙酸、甲酸、草酸、酒石酸、苯甲酸等羧酸類,甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、三氟甲磺酸、樟腦磺酸等磺酸類等有機(jī)酸;鹽酸、硝酸、硼酸等無機(jī)酸,優(yōu)選有機(jī)酸。
      [0027]脫模層可以如下形成,即,將上述樹脂分散或溶解于溶劑,采用凹版涂布法、輥涂法、逗點(diǎn)涂布法、唇形涂布法等涂布法、凹版印刷法、網(wǎng)版印刷法等印刷法涂布于基材上并干燥,以溫度150°C~200°C左右燒制。作為脫模層的厚度,通常為0.01 μ m~5.0 μ m左右,優(yōu)選為0.1ym~2.0ym左右。
      [0028]另外,也可以在形成脫模層時(shí)對(duì)基體材料的表面進(jìn)行電暈處理或易粘接處理。
      [0029]作為本發(fā)明的轉(zhuǎn)印箔所使用的基材,只要具有耐熱性、制造時(shí)所需承受的機(jī)械強(qiáng)度、耐溶劑性等,就可以根據(jù)用途應(yīng)用各種材料,具體而言,可例示聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯類樹脂,聚酰胺類樹脂,聚氯乙烯等乙烯基類樹脂,丙烯酸類樹脂,酰亞胺 類樹脂,多芳基化合物等工程塑料,聚碳酸酯,環(huán)狀聚烯烴類樹脂,玻璃紙等纖維素類膜等。該基材可以是以這些樹脂為主成分的共聚樹脂、或混合物(包括聚合物合金)、或者由多層構(gòu)成的層疊體。通常,聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯類膜的耐熱性、機(jī)械強(qiáng)度優(yōu)異,所以優(yōu)選使用,最優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。
      [0030]另外,該基材可以是拉伸膜也可以是未拉伸膜,但出于提高強(qiáng)度的目的,優(yōu)選沿單軸方向或雙軸方向拉伸的膜。該基材的厚度通常10~100 μ m左右可以適用,優(yōu)選20~50 μ m,最優(yōu)選35~40 μ m。該基材可以在涂布前對(duì)涂布面進(jìn)行電暈放電處理、等離子體處理、臭氧處理、火焰處理、底漆(也稱為錨定涂層、粘接促進(jìn)劑、易粘接劑)涂布處理、預(yù)熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、堿處理等易粘接處理。另外,也可以根據(jù)需要加入填充劑、增塑劑、著色劑、抗靜電劑等添加劑。
      [0031]作為本發(fā)明的轉(zhuǎn)印箔所使用的轉(zhuǎn)印層,沒有特別限定,具體而言,可優(yōu)選例示作為表面保護(hù)膜的硬涂層。作為轉(zhuǎn)印層,具體而言,可例示含有有機(jī)無機(jī)復(fù)合物的層,該有機(jī)無機(jī)復(fù)合物含有:a)下述式(I)表示的有機(jī)硅化合物和/或其縮合物、b)紫外線固化性化合物、以及c)硅烷醇縮合催化劑。
      [0032]RnSiX4V..(I)
      [0033]硅烷醇縮合催化劑為金屬催化劑時(shí),a)與c)可以在相互非鍵合狀態(tài)下一方分散于另一方,也可以相互化學(xué)鍵合。例如有具有S1-O-M鍵的硅烷醇縮合催化劑(M表不硅烷醇縮合催化劑中的金屬原子)、由其混合狀態(tài)構(gòu)成的硅烷醇縮合催化劑。
      [0034]a)有機(jī)硅化合物
      [0035]式(I)表示的有機(jī)硅化合物中,R和X分別如下所述。[0036]R表示碳原子與式中的Si直接鍵合的有機(jī)基團(tuán)。作為上述有機(jī)基團(tuán),可舉出可具有取代基的烴基、由可具有取代基的烴的聚合物構(gòu)成的基團(tuán)等。
      [0037]作為烴基,優(yōu)選可具有取代基的碳原子數(shù)I~30的烴基,更優(yōu)選可具有取代基的碳原子數(shù)1~10的烷基、可具有取代基的碳原子數(shù)2~10的烯基或者碳原子數(shù)I~10的環(huán)氧烷基。
      [0038]另外,有機(jī)基團(tuán)可以含有娃原子,也可以是含有聚硅氧烷、聚乙烯基硅烷、聚丙稀?;柰榈染酆衔锏幕鶊F(tuán)。
      [0039]作為上述經(jīng)基,包括烷基、烯基、炔基、芳基等。
      [0040]此處,作為烷基,可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、異丁基、戊基、異戊基、叔戊基、己基、環(huán)己基、環(huán)己基甲基、環(huán)己基乙基、庚基、異庚基、叔庚基、正辛基、異辛基、叔辛基、2-乙基己基等,優(yōu)選碳原子數(shù)I~10的烷基。
      [0041]作為烯基,可舉出乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲基-3-丙烯基、3- 丁烯基、1-甲基-3- 丁烯基、異丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、環(huán)己烯基、雙環(huán)己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五碳烯基、二十碳烯基、三十碳烯基等,優(yōu)選碳原子數(shù)2~10的烯基。
      [0042]作為“可具有取代基的烴基”的取代基,可舉出鹵素原子、烷氧基、烯氧基、烯基羰基氧基、環(huán)氧基等。
      [0043]作為鹵素原子,可舉出氟、氯、溴、碘等。
      [0044]作為烷氧基,可舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、新戊氧基、1-甲基丁氧基、正己氧基、異己氧基、4-甲基戊氧基等,優(yōu)選碳原子數(shù)I~10的烷氧基。
      [0045]烯氧基是指,在任一位置以上具有碳-碳雙鍵的烯基與烷基介由氧原子鍵合而成的基團(tuán),例如,可舉出乙烯氧基、2-丙烯氧基、3- 丁烯氧基、4-戊烯氧基等,優(yōu)選碳原子數(shù)2~10的烯氧基。
      [0046]烯基擬基氧基是烯基與擬基氧基鍵合而成的基團(tuán),可舉出丙稀酸氧基、甲基丙稀酸氧基、稀丙基擬基氧基、3-丁烯基擬基氧基等,優(yōu)選碳原子數(shù)2~10的烯基擬基氧基。
      [0047]另外,具有環(huán)氧基作為取代基的烴基,可舉出環(huán)氧乙基、1,2-環(huán)氧丙基、環(huán)氧丙氧基烷基、環(huán)氧環(huán)己基乙基等。
      [0048]R為由聚合物構(gòu)成的基團(tuán)時(shí),作為可具有取代基的烴的聚合物,例如可舉出將以下化合物共聚而成的乙烯基類聚合物,即,(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯等(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸、衣康酸、富馬酸等羧酸以及馬來酸酐等酸酐;(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等環(huán)氧化合物;二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、氨基乙基乙烯基醚等氨基化合物;(甲基)丙烯酰胺、衣康酸二酰胺、α -乙基丙烯酰胺、巴豆酰胺、富馬酸二酰胺、馬來酸二酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺等酰胺化合物;選自丙烯腈、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯乙烯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯基系化合物。
      [0049]η表示I或2,更優(yōu)選η = I。η為2時(shí),2個(gè)R可以相互相同也可以不同。
      [0050]X表示羥基或水解性基團(tuán)。式(I)的(4-η)為2以上時(shí),X可以相互相同也可以不同。水解性基團(tuán)是指,例如通過在無催化劑、過量水的共存下以25°C~100°C加熱而能夠水解生成硅烷醇基的基團(tuán),或者能夠形成硅氧烷縮合物的基團(tuán),具體而言,可舉出烷氧基、酰氧基、鹵素原子、異氰酸酯基等,優(yōu)選碳原子數(shù)I~4的烷氧基或者碳原子數(shù)I~4的酰氧基。
      [0051]作為碳原子數(shù)I~4的烷氧基,可舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基等,作為碳原子數(shù)I~4的酰氧基,可舉出甲酰氧基、乙酰氧基、丙酰氧基等酰氧基。
      [0052]具體而言,作為有機(jī)硅化合物,可舉出甲基三氯硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基二丁氧基硅烷、乙基二甲氧基硅烷、乙基二異丙氧基硅烷、乙基二丁氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、五氟苯基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲氧基硅烷、三氟甲基三甲氧基硅烷、二甲基二氨基硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基二乙酰氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二丁基二甲氧基硅烷、二甲基氣硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3- (3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷甲氧基)丙基三甲氧基硅烷、氧雜環(huán)己基三甲氧基硅烷、甲基三(甲基)丙烯酰氧基硅烷、甲基[2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基]硅烷、甲基-三縮水甘油基氧基硅烷、甲基三(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷甲氧基)硅烷。
      [0053]它們可以單獨(dú)使用I種或者組合2種以上使用。
      [0054]將有機(jī)硅化合物組合使用時(shí),例如可優(yōu)選例示乙烯基三甲氧基硅烷與3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的組合、乙烯基三甲氧基硅烷與3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的組合。
      [0055]這些有機(jī)硅化合物可以是縮合物。縮合物具體而言,可舉出例如上述有機(jī)硅化合物水解縮合而形成了硅氧烷鍵的2聚體等。
      [0056]另外,式(I)表示的有機(jī)硅化合物和/或其縮合物中,R的碳原子數(shù)為3以下的化合物,優(yōu)選相對(duì)于式(I)表示的化合物`和/或其縮合物為30摩爾%以上,更優(yōu)選為50摩爾%以上。R的碳原子數(shù)為4以上的化合物,優(yōu)選相對(duì)于式(I)表示的化合物和/或其縮合物為5摩爾%以上。
      [0057]換言之,優(yōu)選R的碳原子數(shù)為3以下的化合物為30~95摩爾%,R的碳原子數(shù)為4以上的化合物為5~70摩爾%,更優(yōu)選R的碳原子數(shù)為3以下的化合物為50~95摩爾%,R的碳原子數(shù)為4以上的化合物為5~50摩爾%。
      [0058]b)紫外線固化性化合物
      [0059]本發(fā)明的紫外線固化性化合物是利用活性能量線的照射而聚合的化合物。特別是,具有在光聚合引發(fā)劑的存在下利用紫外線的照射而引起聚合反應(yīng)的官能團(tuán)的化合物或樹脂,可例示(甲基)丙烯酸酯類化合物、環(huán)氧樹脂、除丙烯酸酯類化合物以外的乙烯基化合物等。官能團(tuán)個(gè)數(shù)只要是I個(gè)以上就沒有特別限定。
      [0060]作為丙烯酸酯類化合物,可舉出聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯基(甲基)丙烯酸酯、聚碳酸酯二丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、具有(甲基)丙烯酰氧基的硅氧烷聚合物等,優(yōu)選為聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯,更優(yōu)選為聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。[0061]只要與其它硬涂層組合物具有相溶性,分子量就沒有任何限制,通常以重均分子量計(jì)為500~50000,優(yōu)選為1000~10000。
      [0062]環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯例如可以利用低分子量的雙酚型環(huán)氧樹脂或酚醛清漆型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧乙烷環(huán)與丙烯酸的酯化反應(yīng)而得到。
      [0063]聚酯(甲基)丙烯酸酯例如如下得到,即,將通過多元羧酸與多元醇的縮合而得到的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基用丙烯酸進(jìn)行酯化?;蛘撸瑢h(huán)氧烷與多元羧酸加成而得到的低聚物的末端的羥基用丙烯酸進(jìn)行酯化。
      [0064]聚氨酯(甲基)丙烯酸酯是多元醇與二異氰酸酯反應(yīng)而得到的異氰酸酯化合物和具有羥基的丙烯酸酯單體的反應(yīng)生成物,作為多元醇,可舉出聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚碳酸酯二醇。
      [0065]作為本發(fā)明所使用的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯的市售品,例如可舉出荒川化學(xué)工業(yè)(株)制商品名:BEAMSET102、502H、505A-6、510、550B、551B、575、575CB、EM-90,EM92 ;San Nopco (株)制商品名:PH0T0MER6008、6210 ;新中村化學(xué)工業(yè)(株)制商品名:NK Oligo U-2PPA、U-4HA、U-6HA、H-15HA、UA-32PA、U-324A、U-4H、U-6H ;東亞合成(株)制商品名:ARONIX M-1100、M-1200、M-1210、M-1310、M-1600、M-1960 ;共榮社化學(xué)(株)制商品名:AH-600、AT606、UA-306H ;日本化藥(株)制商品名:KAYARAD UX-2201、UX-2301、UX-3204、UX-3301、UX-4101、UX-6101、UX-7101 ;日本合成化學(xué)工業(yè)(株)制商品名:紫光 UV-1700B、UV-3000B、UV-6100B、UV-6300B、UV-7000、UV-7600B、UV-2010B、UV-7610B、UV-7630B、UV-7550B ;根上工業(yè)(株)制商品名:Art Resin UN-1255, UN-5200, HDP-4T、HMP-2、UN-90 IT, UN-904M、UN-952, UN-3320HA、UN-3320HB、UN-3320HC、UN-3320HS、H-61、HDP-M20 ;Daicel-UCB (株)制商品名:Ebecryl6700、204、205、220、254、1259、1290K、1748、2002、2220、4833、4842、48 66、5129、6602、8301 ;Daicel-Cytec (株)制商品名:ACA200M、ACAZ230AA、ACAZ250、ACAZ300、ACAZ320 等。
      [0066]另外,作為除丙烯酸酯類化合物以外的乙烯基化合物,有N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內(nèi)酰胺、乙酸乙烯酯、苯乙烯、不飽和聚酯等,作為環(huán)氧樹脂,可舉出氫化雙酚A 二縮水甘油醚、3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基-3,4-環(huán)氧環(huán)己烷羧酸酯、2- (3,4-環(huán)氧環(huán)己
      基-5,5-螺-3,4-環(huán)氧)環(huán)己烷間二》惡烷、雙(3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基)己二酸酯等。
      [0067]作為光聚合引發(fā)劑,可舉出(i)利用光照射而產(chǎn)生陽離子種的化合物,和(ii)利用光照射而產(chǎn)生活性自由基種的化合物等。
      [0068]作為利用光照射而產(chǎn)生陽離子種的化合物,例如可舉出具有下述式(II)表示的結(jié)構(gòu)的?鹽作為優(yōu)選例。該#.鹽是通過接受光而釋放路易斯酸的化合物。
      [0069][R1aR2bR3cR4dW]+e [MLe+f] _e (I I)
      [0070]式(II)中,陽離子為4翁離子,W為 S、Se、Te、P、As、Sb、B1、0、1、fc、Cl、或者 N = N-,
      R1U以及R4為相同或不同的有機(jī)基團(tuán),a、b、c、以及d各自為O~3的整數(shù),(a + b +c + d)與W的價(jià)數(shù)相等。M為鹵化物配合物[MLe+ f]的中心原子,例如為B、P、As、Sb、Fe、Sn、B1、Al、Ca、In、T1、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co 等。L 例如為 F、Cl、fc 等鹵素原子,e 為鹵化物配合物離子的凈電荷,f為M的化合價(jià)。
      [0071]作為上述式(II)中的陰離子(MLe + f)的具體例,可舉出四氟硼酸鹽(BF4_)、六氟磷酸鹽(PF6O、六氟鋪酸鹽(SbFf )、六氟砷酸鹽(AsF6O、六氯鋪酸鹽(SbC V)等。
      [0072]另外,也可以使用具有式〔MLf (0Η)?所示的陰離子的4翁鹽。另外,也可以是具有高氯酸根離子(C104_)、三氟甲磺酸根離子(CF3S03_)、氟磺酸根離子(fso3_)、甲苯磺酸根離子、三硝基苯磺酸陰離子、三硝基甲苯磺酸陰離子等其它陰離子的4翁鹽。它們可以單獨(dú)使用I種或者組合2種以上使用。
      [0073]作為利用光照射而產(chǎn)生活性自由基種的化合物,例如可舉出苯乙酮、苯乙酮芐基縮酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、占噸酮、芴酮、苯甲醛、芴、蒽醌、三苯胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4’ - 二甲氧基二苯甲酮、4,4’ - 二氨基二苯甲酮、苯偶姻丙基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶酰二甲基縮酮、1- (4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、噻噸酮、二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基-1- [4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1- (4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,4- (2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、雙-(2,6-二甲氧基苯甲?;?-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、低聚(2-羥基-2-甲基-1- (4- (1-甲基乙烯基)苯基)丙酮)等。
      [0074]本發(fā)明中所使用的光聚合引發(fā)劑的配合量優(yōu)選相對(duì)于(甲基)丙烯酸酯類等紫外線固化性化合物的固體成分配合0.01~20質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選配合0.1~10質(zhì)量%。
      [0075]應(yīng)予說明,在本發(fā)明中,可以根據(jù)需要添加敏化劑,例如,可以使用三甲胺、甲基二甲醇胺、三乙醇胺、對(duì)二甲基氨基苯乙酮、對(duì)二甲基氨基苯甲酸乙酯、對(duì)二甲基氨基苯甲酸異戊酯、N, N- 二甲基芐胺以及4,4’ -雙(二乙基氨基)二苯甲酮等。
      [0076]紫外線固化性化合物優(yōu)選相對(duì)于轉(zhuǎn)印層形成用組合物的固體成分的總質(zhì)量為80質(zhì)量%以下。
      [0077]c )硅烷醇縮合催化劑`[0078]作為硅烷醇縮合催化劑,只要是將式(I)表示的化合物中的水解性基團(tuán)水解,使硅烷醇縮合而形成硅氧烷鍵的硅烷醇縮合催化劑就沒有特別限制,可舉出有機(jī)金屬、有機(jī)酸金屬鹽、酸、堿、金屬螯合化合物等。硅烷醇縮合催化劑可以單獨(dú)使用I種或者以2種以上的組合使用。
      [0079]作為有機(jī)金屬,具體而言,例如可舉出四異丙氧基鈦、四丁氧基鈦、雙乙酰丙酮鈦等烷基欽酸酷等有機(jī)欽化合物;烷氧基招類等。
      [0080]作為有機(jī)酸金屬鹽,例如可舉出辛酸鋅、2-乙基己酸鉛、二乙酸二丁基錫、二乳酸二丁基錫、辛酸亞錫、環(huán)烷酸鋅以及辛酸亞鐵、辛酸錫、二羧酸二丁基錫等羧酸金屬鹽、羧酸堿金屬鹽、羧酸堿土類金屬鹽等。
      [0081]作為酸,可舉出有機(jī)酸、無機(jī)酸,具體而言,例如作為有機(jī)酸,可舉出乙酸、甲酸、草酸、碳酸、鄰苯二甲酸、三氟乙酸、對(duì)甲苯磺酸、甲磺酸等,作為無機(jī)酸,可舉出鹽酸、硝酸、硼酸、氟硼酸等。
      [0082]此處,作為酸,還包括利用光照射而產(chǎn)生酸的光酸產(chǎn)生劑,具體而言,包括二苯基碘?六氟磷酸鹽、三苯基f象六氟磷酸鹽等。
      [0083]作為堿,可舉出四甲基胍、四甲基胍基丙基三甲氧基硅烷等強(qiáng)堿類;有機(jī)胺類、有機(jī)胺的羧酸中和鹽、季銨鹽等。
      [0084]作為金屬螯合化合物,可舉出鋁螯合物類,具體而言,可舉出下述所示的物質(zhì)。
      [0085]Al (acac) 3, Al (O-1-Pr) (acac) 2,Al (O-1-Pr) 2 (acac),


      O
      [0086]Al (0-1-Bu) (acac),, Al (O-1—Bu), (acac),
      【權(quán)利要求】
      1.一種脫模劑用組合物,含有氨基醇酸樹脂、具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物和酸。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫模劑組合物,其中,氨基醇酸樹脂為含長鏈烷基的氨基醇Ife樹.月旨。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的脫模劑組合物,其中,具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物為含有70%以上的1,2-鍵的聚丁二烯多元醇。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的脫模劑組合物,其中,具有2個(gè)以上羥基的烴類聚合物的重均分子量在1500~2500的范圍。
      5.一種轉(zhuǎn)印箔,在含有基材、脫模層、和轉(zhuǎn)印層的轉(zhuǎn)印箔中,脫模層是通過在該基材上涂布權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的脫模劑組合物而得到的。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)印箔,其中,轉(zhuǎn)印層是含有有機(jī)無機(jī)復(fù)合物的層,該有機(jī)無機(jī)復(fù)合物含有: a)下述式(I)表示的有機(jī)硅化合物和/或其縮合物、 b)紫外線固化性化合物、以及 c)硅烷醇縮合催化劑, RnSiX4V..⑴ 式中,R表示碳原子與式中的Si直接鍵合的有機(jī)基團(tuán),X表示羥基或者水解性基團(tuán),η表示I或2, η為2時(shí),2個(gè)R相同`或不同,4_η為2以上時(shí),多個(gè)X相同或不同。
      【文檔編號(hào)】B32B27/00GK103517961SQ201280022509
      【公開日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2012年5月9日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月11日
      【發(fā)明者】長谷川一希 申請(qǐng)人:日本曹達(dá)株式會(huì)社
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