專利名稱：一種用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜、制備方法及其用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種硅膠復(fù)合膜、制備方法及其用途，該硅膠復(fù)合膜能夠用于采集生 物紋理(指紋或掌紋)并顯著提高生物紋理圖像(指紋或掌紋)的質(zhì)量，尤其是在干燥或潮濕 的環(huán)境中。
背景技術(shù)：
隨著社會(huì)的發(fā)展和公眾安全意識(shí)的增強(qiáng)，生物紋理采集技術(shù)(指紋和掌紋識(shí)別)因 其安全性、便利性、易操作性成為身份鑒別技術(shù)的熱點(diǎn)，尤其是指紋識(shí)別技術(shù)應(yīng)用非常廣 泛。指紋識(shí)別技術(shù)是利用圖像處理軟件從采集的圖像上找到特征節(jié)點(diǎn)，包括紋線的起點(diǎn)和 終點(diǎn)、結(jié)合點(diǎn)和分叉點(diǎn)。指紋特征點(diǎn)提取的好壞依賴于指紋圖像的質(zhì)量，主要是看指紋圖像 的脊線結(jié)構(gòu)是否清晰。一個(gè)好的指紋圖像脊和谷的對(duì)比度高，邊界比較清晰；而一個(gè)質(zhì)量不 好的指紋圖像脊和谷對(duì)比度低，邊界模糊。
除與脊谷線有關(guān)，指紋采集圖像的質(zhì)量也受到手指皮膚分泌的油脂和水分的影 響。在干燥環(huán)境中，手指表面一般比較干燥；這種“干”的指紋與圖像采集儀的玻璃窗口接 觸不好，很容易造成采集圖像中脊線的不連續(xù)和缺失；而在潮濕環(huán)境中，“濕”的指紋中會(huì)包 含一定量的水分，當(dāng)手指用力按壓圖像采集儀玻璃窗口表面時(shí)，指紋中的水分會(huì)接觸到玻 璃表面，使指紋采集圖像中產(chǎn)生大量的暗斑，并使指紋脊線粘合在一起(如圖1所示)。上述 情況均會(huì)造成指紋(或掌紋)特征點(diǎn)的缺失和失真，給后續(xù)的圖像處理和身份識(shí)別帶來很多 困難。
因此，提高圖像采集質(zhì)量成為指紋和掌紋識(shí)別技術(shù)的關(guān)鍵性問題。
目前國(guó)內(nèi)外有許多指紋識(shí)別技術(shù)的產(chǎn)品，而關(guān)于提高指紋圖像的采集質(zhì)量研究還 沒有報(bào)道。硅橡膠具有良好的變形能力，可以與指紋或掌紋有很好的接觸，改善“干”指紋 采集圖像中脊線的不連續(xù)和缺失等問題；而硅橡膠的疏水性，可以避免“濕”指紋中水分的 影響。室溫硫化硅橡膠具有加工過程簡(jiǎn)單，設(shè)備要求低、透光性好等優(yōu)點(diǎn)，可以作為制備采 集生物紋理圖像復(fù)合膜的理想材料。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一在于提供一種用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜，該硅膠復(fù) 合膜能夠顯著提高生物紋理圖像(指紋或掌紋)的采集質(zhì)量，尤其是在干燥或潮濕的環(huán)境 中。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案
一種用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜，所述硅膠復(fù)合膜自下而上依次包括襯 底薄膜和硅膠膜。
所述硅膠膜用于采集按壓在其表面的生物紋理(指紋或掌紋)，硅膠膜單面涂覆于 襯底薄膜表面，襯底薄膜對(duì)硅膠膜起到支撐作用。
優(yōu)選地，所述硅膠復(fù)合膜自下而上依次包括下保護(hù)膜、襯底薄膜、硅膠膜和上保護(hù)膜。硅膠復(fù)合膜未使用前，保護(hù)膜用于保護(hù)硅膠膜和襯底薄膜不受污染和刮傷。
所述的硅膠膜為硅橡膠，硅橡膠分高溫硫化硅橡膠和室溫硫化硅橡膠，本發(fā)明所述硅橡膠優(yōu)選室溫硫化硅橡膠。
硅橡膠具有良好的變形能力，可以與指紋或掌紋有很好的接觸，改善“干”指紋采集圖像中脊線的不連續(xù)和缺失等問題；而硅橡膠的疏水性，可以避免“濕”指紋中水分的影響。室溫硫化硅橡膠具有加工過程簡(jiǎn)單，設(shè)備要求低，透光性好等優(yōu)點(diǎn)，是制備采集生物紋理圖像復(fù)合膜的理想材料。
所述室溫硫化硅橡膠，按重量份數(shù)包括
補(bǔ)強(qiáng)材料5 30份助劑5-10份稀釋劑O 30份。
所述聚硅氧烷的重量份數(shù)為6(Γ90份，例如62份、65份、68份、71份、74份、77份、 80份、83份、86份、88份、89份。
所述補(bǔ)強(qiáng)材料的重量份數(shù)為5 30份，例如7份、9份、12份、15份、18份、21份、24 份、27份、29份。
所述助劑的重量份數(shù)為5 10份，例如5. 5份、6份、6. 5份、7份、7. 5份、8份、8. 5 份、9份、9. 5份、9. 8份。
所述稀釋劑的重量份數(shù)為0 30份，例如O. 2份、1. 5份、4份、7份、10份、13份、16 份、19份、22份、25份、28份、29份。
所述聚硅氧烷為聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷或聚二苯基硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物，其中，所述聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷和聚二苯基硅氧烷的分子鏈至少有一個(gè)端基為乙烯基、烷基或羥基。示例性的聚硅氧烷選自羥基封端聚二甲基硅氧烷、羥基封端聚甲基苯基硅氧烷、羥基封端聚二苯基硅氧烷、乙烯基封端聚二甲基硅氧烷、乙烯基封端聚甲基苯基硅氧烷、乙烯基封端聚二苯基硅氧烷、烷基封端聚二甲基硅氧烷、烷基封端聚甲基苯基硅氧烷或烷基封端聚二苯基硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如燒基封端聚_■苯基娃氧燒和燒基封端聚甲基苯基娃氧燒的混合物，燒基封端聚_■甲基娃氧燒和乙稀基封端聚_■甲基娃氧燒的混合物，乙稀基封端聚甲基苯基娃氧燒和乙稀基封端聚_■甲基娃氧燒的混合物，輕基封端聚_■苯基娃氧燒和輕基封端聚甲基苯基娃氧燒的混合物，輕基封端聚~■甲基娃氧燒和燒基封端聚_■苯基娃氧燒的混合物，烷基封端聚甲基苯基硅氧烷和烷基封端聚二甲基硅氧烷的混合物，乙烯基封端聚二甲基娃氧燒和乙稀基封端聚甲基苯基娃氧燒的混合物，乙稀基封端聚_■甲基娃氧燒和輕基封端聚~■苯基娃氧燒的混合物，輕基封端聚甲基苯基娃氧燒和輕基封端聚_■甲基娃氧燒的混合物，烷基封端聚二苯基硅氧烷、烷基封端聚甲基苯基硅氧烷和烷基封端聚二甲基硅氧燒的混合物，乙 稀基封端聚_■苯基娃氧燒、乙稀基封端聚甲基苯基娃氧燒和乙稀基封端聚_■甲基娃氧燒的混合物，輕基封端聚_■苯基娃氧燒、輕基封端聚甲基苯基娃氧燒和輕基封端聚二甲基硅氧烷的混合物。
所述補(bǔ)強(qiáng)材料為二氧化硅，優(yōu)選氣相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅或無定形二氧化硅中的任意一種或者至少兩種的混合物，所述混合物例如沉淀法二氧化硅和無定形二氧化硅的混合物，無定形二氧化硅和氣相法二氧化硅的混合物，沉淀法二氧化硅和氣相法二氧化硅的混合物，沉淀法二氧化硅、無定形二氧化硅和氣相法二氧化硅的混合物。
所述助劑為流平劑、消泡劑或抗靜電劑中的任意一種或者至少兩種與催化劑和交聯(lián)劑的組合。所述組合例如交聯(lián)劑和催化劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑和流平劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑和消泡劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑和抗靜電劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑、流平劑和消泡劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑、流平劑和抗靜電劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑、消泡劑和抗靜電劑的組合，交聯(lián)劑、催化劑、流平劑、消泡劑和抗靜電劑的組合。
所述交聯(lián)劑選自甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丙酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅燒、甲基二甲氧基娃燒、甲基二乙氧基娃燒、乙稀基二甲氧基娃燒、_■甲基娃油或甲基含氣聚硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如甲基含氫聚硅氧烷和乙烯基三甲氧基硅烷的混合物，甲基三乙氧基硅烷和甲基三甲氧基硅烷的混合物，甲基三丁酮肟基硅烷和甲基三丙酮肟基硅烷的混合物，甲基三乙酰氧基硅烷和甲基含氫聚硅氧烷的混合物，乙烯基三甲氧基硅烷和甲基三乙氧基硅烷的混合物，甲基三甲氧基硅烷和甲基三丁酮肟基硅烷的混合物，甲基三丙酮肟基硅烷和甲基三乙酰氧基硅烷的混合物，甲基含氫聚娃氧燒、乙稀基二甲氧基娃燒和甲基二乙氧基娃燒的混合物，甲基二甲氧基娃燒、甲基二丁酮肟基硅烷和甲基三丙酮肟基硅烷的混合物，甲基三乙酰氧基硅烷、甲基含氫聚硅氧烷、乙稀基二甲氧基娃燒和甲基二乙氧基娃燒的混合物，甲基二甲氧基娃燒、甲基二丁麗]3虧基娃烷、甲基三丙酮肟基硅烷和甲基三乙酰氧基硅烷的混合物。所述甲基含氫聚硅氧烷，可以是直鏈的甲基含氫硅油，也可以是環(huán)狀的含氫聚硅氧烷，以甲基含氫硅油為主。
所述催化劑選自有機(jī)錫、鈦酸酯、有機(jī)鈦絡(luò)合物或有機(jī)鉬化合物中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如有機(jī)錫和鈦酸酯的混合物，有機(jī)錫和有機(jī)鈦絡(luò)合物的混合物，有機(jī)錫和有機(jī)鉬化合物的混合物，鈦酸酯和有機(jī)鈦絡(luò)合物的混合物，鈦酸酯和有機(jī)鉬化合物的混合物，有機(jī)鈦絡(luò)合物、有機(jī)鉬化合物和鈦酸酯的混合物。所述有機(jī)鉬化合物包括有機(jī)鉬絡(luò)合物。
不例性的有機(jī)錫為二甲基錫、二甲基氣化錫、二乙基錫、二乙基氣化錫、二乙基漠化錫、二乙基鵬化錫、二乙基氧氧化錫、二乙基硫酸錫、二丁基氣化錫、二苯基氣化錫、二月桂酸_■丁基錫、二苯基乙酸錫、四乙基錫、四丁基錫、四苯基錫或二乙基漠化錫中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如三甲基錫和三甲基氯化錫的混合物，三乙基錫和三乙基氯化錫的混合物，三乙基溴化錫和三乙基碘化錫的混合物，三乙基氫氧化錫和三乙基硫酸錫的混合物，三丁基氯化錫和三苯基氯化錫的混合物，二月桂酸二丁基錫和三苯基乙酸錫的混合物，四乙基錫和四丁基錫的混合物，四苯基錫和二乙基漠化錫的混合物，二甲基錫、二甲基氣化錫和二乙基錫的混合物，二乙基氣化錫、二乙基漠化錫和二乙基鵬化錫的混合物，三乙基氫氧化錫、三乙基硫酸錫和三丁基氯化錫的混合物，三苯基氯化錫、二月桂酸_■丁基錫和二苯基乙酸錫的混合物，四乙基錫、四丁基錫、四苯基錫和二乙基漠化 錫的混合物。
所述流平劑選自聚丙烯酸酯、改性聚丙烯酸酯、有機(jī)硅樹脂或改性有機(jī)硅樹脂中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如改性有機(jī)硅樹脂和有機(jī)硅樹脂的混合物，有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，改性聚丙烯酸酯和聚丙烯酸酯的混合物，改性有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，有機(jī)硅樹脂和聚丙烯酸酯的混合物，改性有機(jī)硅樹脂、有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，改性聚丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、改性有機(jī)硅樹脂和有機(jī)娃樹脂的混合物。
所述消泡劑選自聚丙烯酸酯、改性聚丙烯酸酯、有機(jī)硅樹脂或改性有機(jī)硅樹脂中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如改性有機(jī)硅樹脂和有機(jī)硅樹脂的混合物，有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，改性聚丙烯酸酯和聚丙烯酸酯的混合物，改性有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，有機(jī)硅樹脂和聚丙烯酸酯的混合物，改性有機(jī)硅樹脂、有機(jī)硅樹脂和改性聚丙烯酸酯的混合物，改性聚丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、改性有機(jī)硅樹脂和有機(jī)娃樹脂的混合物。
所述抗靜電劑選自陽離子抗靜電劑、陰離子抗靜電劑或非離子型抗靜電劑中的任意一種或者至少兩種的混合物。所屬領(lǐng)域技術(shù)人員可以獲知的任意的陽離子抗靜電劑、陰離子抗靜電劑或非離子抗靜電劑均可實(shí)施本發(fā)明。
所述稀釋劑選自二甲苯、甲苯、丙酮、乙醚、石油醚、溶劑汽油、甘油、芳香醇或醋酸乙酯中的任意一種或者至少兩種的混合物。所述混合物例如二甲苯和甲苯的混合物，丙酮和乙醚的混合物，石油醚和溶劑汽油的混合物，甘油、芳香醇和醋酸乙酯的混合物，二甲苯、 甲苯和丙酮的混合物，乙醚、石油醚和溶劑汽油的混合物，甘油和芳香醇的混合物，醋酸乙酯、二甲苯和甲苯的混合物，丙酮、乙醚和石油醚的混合物，溶劑汽油、甘油、芳香醇和醋酸乙酯的混合物。
所述上保護(hù)膜和下保護(hù)膜獨(dú)立地選自聚丙烯薄膜(PP薄膜)、聚氯乙烯薄膜(PVC 薄膜)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PET薄膜)、聚乙烯薄膜(PE薄膜)或鄰苯基苯酚薄膜 (0ΡΡ薄膜)中的任意一種或者至少兩種的組合，所述組合例如PP薄膜和PVC薄膜的組合， PP薄膜和PET薄膜的組合，PP薄膜和PE薄膜的組合，PP薄膜和OPP薄膜的組合，PVC薄膜和PET薄膜的組合，PVC薄膜和PE薄膜的組合，PVC薄膜和OPP薄膜的組合，PET薄膜和PE 薄膜的組合，PET薄膜和OPP薄膜的組合，PE薄膜和OPP薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜和 PET薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜和PE薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜和OPP薄膜的組合， PP薄膜、PET薄膜和PE薄膜的組合，PP薄膜、PET薄膜和OPP薄膜的組合，PET薄膜、PE薄膜和OPP薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜、PET薄膜和PE薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜、PET 薄膜和OPP薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜、PE薄膜和OPP薄膜的組合，PP薄膜、PVC薄膜、 PET薄膜、PE薄膜和OPP薄膜的組合，優(yōu)選聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄或聚乙烯薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合。當(dāng)所述保護(hù)膜選擇至少兩種薄膜的組合時(shí)，至少兩種的薄膜的相對(duì)位置沒有限定。而且，硅膠復(fù)合膜兩側(cè)的保護(hù)膜，即上保護(hù)膜和下保護(hù)膜，可以選擇相同的薄膜，也可以選擇為不同的薄膜，本發(fā)明對(duì)此不作限定。
所述襯底薄膜選自聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚酰亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚甲醛薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚丙烯己二酯薄膜、聚四氟乙烯薄膜或聚砜薄膜中的任意一種或者至少兩種的組 合，所述組合例如聚砜薄膜和聚四氟乙烯薄膜的組合，聚丙烯己二酯薄膜和聚氯乙烯薄膜的組合，聚甲醛薄膜和聚苯乙烯薄膜的組合，聚酰亞胺薄膜和聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜的組合，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜和聚碳酸酯薄膜的組合，聚甲基丙烯酸甲酯薄膜和聚砜薄膜的組合，聚四氟乙烯薄膜好聚丙烯己二酯薄膜的組合，聚氯乙烯薄膜和聚甲醛薄膜的組合，聚苯乙烯薄膜和聚酰亞胺薄膜的組合，聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜和聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的組合，聚碳酸酯薄膜和聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的組合，聚砜薄膜、聚四氟乙烯薄膜和聚丙烯己二酯薄膜的組合，聚氯乙烯薄膜、聚甲醛薄膜和聚苯乙烯薄膜的組合，聚酰亞胺薄膜、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜和聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的組合，聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜和聚苯乙烯薄膜的組合，聚四氟乙烯薄膜、 聚丙烯己二酯薄膜、聚氯乙烯薄膜和聚甲醛薄膜的組合，聚苯乙烯薄膜、聚酰亞胺薄膜、聚 2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜和聚碳酸酯薄膜的組合，優(yōu)選聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合。當(dāng)所述襯底薄膜選擇的至少兩種薄膜的組合時(shí)，至少兩種的薄膜的相對(duì)位置沒有限定。
為了提高襯底薄膜與硅膠膜的附著力，防止硅膠復(fù)合膜在使用過程中分層，所述襯底薄膜經(jīng)過表面處理。
所述硅膠膜的厚度為30 500 μ m,例如 40 μ m、60 μ m、90 μ m、120 μ m、150 μ m、 180 μ m、210 μ m、240 μ m、270 μ m、280 μ m、320 μ m、350 μ m、380 μ m、410 μ m、440 μ m、470 μ m， 優(yōu)選50 480 μ m,進(jìn)一步優(yōu)選80 450 μ m。
本發(fā)明的目的之二在于提供一種如上所述的硅膠復(fù)合膜的制備方法，所述方法包括如下步驟
將硅橡膠涂布于襯底薄膜表面，固化，得到所述硅膠復(fù)合膜。
優(yōu)選地，所述硅橡膠的制備方法為按配方將各組分混合均勻，經(jīng)靜置排泡后，得到所述硅橡膠；然后將該硅橡膠涂布于襯底薄膜表面，固化，即可得到所述硅膠復(fù)合膜。
優(yōu)選地，將所述硅膠復(fù)合膜的兩側(cè)覆上保護(hù)膜和下保護(hù)膜，即得到自下而上依次包括下保護(hù)膜、襯底薄膜、硅膠膜、上保護(hù)膜的硅膠復(fù)合膜。
優(yōu)選地，對(duì)所述襯底薄膜進(jìn)行表面處理，以提高襯底薄膜與硅膠膜的附著力，防止硅膠復(fù)合膜在使用過程中分層。
所述表面處理方法為物理或化學(xué)方法。其中物理方法為電暈處理、等離子處理或火焰處理中的任意一種?；瘜W(xué)方法為在襯底薄膜表面涂覆附著力促進(jìn)劑。
優(yōu)選地，所述涂布方式為刮涂、旋涂、刷涂、噴涂或輥涂中的任意一種，優(yōu)選刮涂或旋涂。
所述固化溫度和固化時(shí)間，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中所公開的硅橡膠的固化溫度和固化時(shí)間，來選擇本發(fā)明所述的固化工藝參數(shù)。當(dāng)所述硅橡膠為室溫硫化硅橡膠時(shí)，所述固化溫度為室溫。
可以通過控制涂布工藝參數(shù)控制硅膠膜的厚度。
本發(fā)明的目的之三在于提供一種如上所述的用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜的用途，所述硅膠復(fù)合膜用于采集生物紋理圖像，例如指紋或者掌紋。
將所述硅膠復(fù)合膜兩側(cè)的保護(hù)膜撕掉，襯底薄膜未涂覆硅膠的表面通過靜電吸附作用粘附于圖像采集儀的玻璃窗口表面，用于采集生物紋理圖像。如果所述硅膠復(fù)合膜兩側(cè)無保護(hù)膜，則可直接將襯底薄膜未涂覆硅膠的表面通過靜電吸附作用粘附于圖像采集儀 的玻璃窗口表面，用于采集生物紋理圖像。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果
(I)本發(fā)明選用室溫硫化硅橡膠，通過刮涂或旋涂的方法，將其涂覆于經(jīng)過表面 處理的襯底薄膜上，并在一定溫度下固化成膜，得到硅膠復(fù)合膜，其中，襯底薄膜對(duì)硅膠膜 起到支撐作用，硅膠膜的厚度可以控制涂布工藝進(jìn)行調(diào)節(jié)；硅膠復(fù)合膜具有高透光率、低霧 度、高疏水性、耐刮擦性、高回彈性等特點(diǎn)；該硅膠復(fù)合膜通過靜電作用吸附于指紋(或掌 紋)圖像采集儀的玻璃窗口表面，指紋(或掌紋)紋線的脊和谷的對(duì)比度和清晰度提高，尤其 是在干燥或潮濕的環(huán)境中，提高了圖像采集靈敏度和改善成像質(zhì)量，降低了圖像處理軟件 分析圖像的難度，提高了指紋(或掌紋)的識(shí)別率；在干燥或潮濕環(huán)境中，該硅膠復(fù)合貼膜對(duì) 提高指紋(或掌紋)的圖像采集質(zhì)量特別有效。
(2)將本發(fā)明所述硅膠復(fù)合膜應(yīng)用于指紋(或掌紋)圖像采集儀上，提高了脊 和谷的對(duì)比度和清晰度，在干燥或潮濕的環(huán)境中，采集的圖像質(zhì)量顯著提高；根據(jù)(GB/ T9286-88)涂層劃格法測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，硅膠膜與表面處理之后的襯底薄膜的附著力達(dá)到等級(jí)I 以上；硅膠復(fù)合膜的透光率為93%以上(測(cè)試波長(zhǎng)400-1200nm)，霧度值低于O. 24% ；
(3)本發(fā)明的襯底薄膜，可以通過靜電吸附原理將硅膠復(fù)合膜粘附于圖像采集儀 玻璃窗口，該襯底薄膜與玻璃窗口的粘附性好，不易脫落，而且硅膠復(fù)合膜便于替換。


下面結(jié)合附圖并通過具體實(shí)施方式

來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
圖1 :本發(fā)明所述硅膠復(fù)合膜的結(jié)構(gòu)示意圖2 :指紋圖像對(duì)比圖，圖2-1為干的環(huán)境下，采用現(xiàn)有技術(shù)的復(fù)合膜得到的指紋 采集圖像，圖2-2為濕的環(huán)境下，采用現(xiàn)有技術(shù)的復(fù)合膜得到的指紋采集圖像，圖2-3為濕 的環(huán)境下，采用本發(fā)明所述的硅膠復(fù)合膜得到的指紋采集圖像，圖2-4為干的環(huán)境下，采用 本發(fā)明所述的硅膠復(fù)合膜得到的指紋采集圖像；
本發(fā)明說明書附圖中標(biāo)記如下所示
1-上保護(hù)膜2-硅膠膜3-襯底薄膜4-下保護(hù)膜。具體實(shí)施方式

為更好地說明本發(fā)明，便于理解本發(fā)明的技術(shù)方案，本發(fā)明的典型但非限制性的 實(shí)施例如下
實(shí)施例1
按照表I所述的組合物配方配制好，用攪拌器在2000轉(zhuǎn)/分鐘下攪拌15分鐘，靜 置排泡10分鐘，即可得到所需的室溫硫化硅橡膠組合物。
表I組合物配方
組分用量/g乙稀基封端聚—甲基桂氧焼100
權(quán)利要求
1.一種用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述硅膠復(fù)合膜自下而上依次包括襯底薄膜(3 )和硅膠膜(2 )。
2.如權(quán)利要求1所述的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述硅膠復(fù)合膜自下而上依次包括下保護(hù)膜(4 )、襯底薄膜(3 )、硅膠膜(2 )和上保護(hù)膜(I);優(yōu)選地，所述硅膠膜(2)為硅橡膠，所述硅橡膠優(yōu)選室溫硫化硅橡膠；優(yōu)選地，所述室溫硫化硅橡膠，按重量份數(shù)包括聚石$:氧院60 90份補(bǔ)強(qiáng)材料5 30份助劑5-10份稀釋劑O 30份。
3.如權(quán)利要求2所述的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述聚硅氧烷為聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷或聚二苯基硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物，其中，所述聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷和聚二苯基硅氧烷的分子鏈至少有一個(gè)端基為乙烯基、烷基或輕基；優(yōu)選地，所述聚硅氧烷選自羥基封端聚二甲基硅氧烷、羥基封端聚甲基苯基硅氧烷、羥基封端聚二苯基硅氧烷、乙烯基封端聚二甲基硅氧烷、乙烯基封端聚甲基苯基硅氧烷、乙烯基封端聚二苯基硅氧烷、烷基封端聚二甲基硅氧烷、烷基封端聚甲基苯基硅氧烷或烷基封端聚二苯基硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述補(bǔ)強(qiáng)材料為二氧化硅，優(yōu)選氣相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅或無定形二氧化硅中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述助劑為流平劑、消泡劑或抗靜電劑中的任意一種或者至少兩種與催化劑和交聯(lián)劑的組合。
4.如權(quán)利要求3所述的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述交聯(lián)劑選自甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丙酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、二甲基硅油或甲基含氫聚硅氧烷中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述催化劑選自有機(jī)錫、鈦酸酯、有機(jī)鈦絡(luò)合物或有機(jī)鉬化合物中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述流平劑選自聚丙烯酸酯、改性聚丙烯酸酯、有機(jī)硅樹脂或改性有機(jī)硅樹脂中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述消泡劑選自聚丙烯酸酯、改性聚丙烯酸酯、有機(jī)硅樹脂或改性有機(jī)硅樹脂中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述抗靜電劑選自陽離子抗靜電劑、陰離子抗靜電劑或非離子型抗靜電劑中的任意一種或者至少兩種的混合物。
5.如權(quán)利要求2-4之一所述的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述稀釋劑選自二甲苯、甲苯、丙酮、乙醚、石油醚、溶劑汽油、甘油、芳香醇或醋酸乙酯中的任意一種或者至少兩種的混合物；優(yōu)選地，所述上保護(hù)膜(I)和下保護(hù)膜(4)獨(dú)立地選自聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜或鄰苯基苯酚薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合，優(yōu)選聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄或聚乙烯薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合。
6.如權(quán)利要求1-5之一所述的硅膠復(fù)合膜，其特征在于，所述襯底薄膜(3)選自聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚酰亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚甲醛薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚丙烯己二酯薄膜、聚四氟乙烯薄膜或聚砜薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合，優(yōu)選聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、 聚碳酸酯薄膜或聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜中的任意一種或者至少兩種的組合；優(yōu)選地，所述襯底薄膜(3)經(jīng)過表面處理；優(yōu)選地，所述硅膠膜(2)的厚度為30 500 μ m,優(yōu)選50 480 μ m,進(jìn)一步優(yōu)選80 450 μ m。
7.—種如權(quán)利要求1-6之一所述的娃膠復(fù)合膜的制備方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟將硅橡膠涂布于襯底薄膜(3)表面，固化，得到所述硅膠復(fù)合膜。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述硅橡膠的制備方法為按配方將各組分混合均勻，經(jīng)靜置排泡后，得到所述硅橡膠；優(yōu)選地，將所述硅膠復(fù)合膜的兩側(cè)覆上保護(hù)膜(I)和下保護(hù)膜(4)。
9.如權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于，對(duì)所述襯底薄膜(3)進(jìn)行表面處理，以提高襯底薄膜與硅膠膜的附著力，防止硅膠復(fù)合膜在使用過程中分層；優(yōu)選地，所述表面處理方法為物理或化學(xué)方法；優(yōu)選地，所述物理方法為電暈處理、等離子處理或火焰處理中的任意一種；優(yōu)選地，化學(xué)方法為在襯底薄膜表面涂覆附著力促進(jìn)劑；優(yōu)選地，所述涂布方式為刮涂、旋涂、刷涂、噴涂或棍涂中的任意一種，優(yōu)選刮涂或旋涂O
10.一種如權(quán)利要求1-6之一所述的用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜的用途，其特征在于，所述硅膠復(fù)合膜用于采集生物紋理圖像。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于采集生物紋理圖像的硅膠復(fù)合膜及其制備方法，其采用旋涂或刮涂等涂布技術(shù)，將液體硅膠涂布于經(jīng)過表面處理后的襯底薄膜表面，并通過調(diào)整涂裝工藝控制硅膠膜的膜厚，最終固化形成硅膠復(fù)合膜。本發(fā)明的硅膠復(fù)合膜具有高透光率、低霧度、高疏水性、耐刮擦性、高回彈性，通過靜電作用吸附于指紋(或掌紋)圖像采集儀的玻璃窗口表面，提高了圖像采集靈敏度和改善成像質(zhì)量，降低了圖像處理軟件分析圖像的難度，提高了指紋(或掌紋)的識(shí)別率，在干燥或潮濕環(huán)境中，該硅膠復(fù)合膜對(duì)提高指紋(或掌紋)的圖像采集質(zhì)量特別有效。
文檔編號(hào)B32B27/08GK103057229SQ2013100020
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2013年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月4日
發(fā)明者褚鵬飛, 周凌云, 張暉, 張忠 申請(qǐng)人:國(guó)家納米科學(xué)中心