專利名稱：一種低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
:本發(fā)明涉及玻璃鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及一種銀基低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品，尤其是安裝在交通工具上的單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
:低輻射(low-e)鍍膜玻璃具有透過可見光和反射紅外線的優(yōu)點，從而可以明顯地降低汽車的空調(diào)能耗以及提高駕駛員和乘客的舒適度，因此作為一種綠色環(huán)保產(chǎn)品在建筑和交通工具上面有巨大的市場需求。銀基低輻射鍍膜玻璃的核心材料是一層或者多層的銀(Ag)層，由于銀(Ag)層容易被腐蝕和氧化，所以必須在銀(Ag)層的上、下方都沉積有能夠透過可見光的透明介質(zhì)層；這些介質(zhì)層必須致密性好、熱穩(wěn)定性高，從而為銀層提供足夠的熱、力和化學(xué)保護。在銀基低輻射鍍膜玻璃的介質(zhì)層中，最靠近玻璃基板的介質(zhì)層和最遠離玻璃基板的銀層上方的介質(zhì)層對銀層的保護特別重要，特別是最靠近玻璃基板的介質(zhì)層必須能夠在高溫下阻隔來自玻璃中的堿金屬離子和氧原子的滲透作用。另一方面，這些介質(zhì)層也能夠起到對可見光的減反射作用，與銀層結(jié)合在一起實現(xiàn)可見光較好的透過和反射特性?，F(xiàn)有技術(shù)中，作為銀基低輻射鍍膜玻璃的介質(zhì)層要求具備較高的折射率，從而在與銀層結(jié)合使達到最好的可見光減反射效果，一般采用的折射率大于1.7，優(yōu)選地大于1.8，更優(yōu)選地大于2.0，選用的材料一般從Zn、Sn、T1、Nb、Zr、B1、Ta、N1、Cr等金屬及其合金的氧化物中選取，或者從S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中選取。然而，這種技術(shù)方案很難達到光學(xué)上的最佳效果，特別是對于可調(diào)參數(shù)相對較少的單銀和雙銀低輻射鍍膜玻璃，實際生產(chǎn)過程中容易出現(xiàn)外觀顏色不佳、近紅外區(qū)域反射率偏低等問題。

為解決上述問題，公開的文獻中已經(jīng)存在多種技術(shù)方案嘗試解決上述問題，例如美國專 ^lJ US6586102 (BI), US6589658 (BI), US6830817 (B2), US7090921 (B2)和US7455910(B2)披露了在單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃中最遠離玻璃基板的膜層為包含了SiON或SiO2的低折射率膜層，其膜層厚度為20 50nm，其發(fā)明目的是降低可見光反射率，提高可見光透過率和得到改進的反射顏色，但是該技術(shù)方案僅僅改進了其玻璃產(chǎn)品的外觀顏色，在玻璃產(chǎn)品的能量阻隔能力方面無顯著改善。為了得到改進的反射顏色，美國專利US5965246(A)公開了在原有的低輻射鍍膜中與玻璃基板直接接觸的介質(zhì)層和玻璃基板之間插入折射率比玻璃基板還低的AlOF(折射率為1.37)膜層，膜層厚度為30 50nm。該技術(shù)方案同樣僅僅改進了其玻璃產(chǎn)品的外觀顏色，在玻璃產(chǎn)品的能量阻隔能力方面無顯著改善。還有美國專利US6355334(B1)和中國專利CN1946645(A)公開了在原有低輻射鍍膜玻璃中最遠離玻璃基板的介質(zhì)層上依次疊加低折射率層和高折射率層的至少兩層膜層，并通過優(yōu)化調(diào)節(jié)各膜層的厚度，從而能夠得到改進的外觀顏色、增加近紅外區(qū)域反射率和提高紅外反射能力的優(yōu)點。然而該技術(shù)方案并未能減少在高溫熱處理過程中來自玻璃中的堿金屬離子的擴散破壞作用。此外，中國專利CN102092959(A)公開了一種含有三層復(fù)合減反層的髙遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃，該技術(shù)主要應(yīng)用于工程玻璃領(lǐng)域，其銀層與玻璃基板之間以及銀層與銀層之間均采用了 Si02+Zn0的雙層組合，該技術(shù)方案對低折射率層的引入并未起到顯著改善光學(xué)效果的作用
發(fā)明內(nèi)容
:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是顯著降低現(xiàn)有低輻射鍍膜玻璃的太陽能直接透過率和改善其外觀質(zhì)量，提供一種低輻射鍍膜玻璃，同時還提供一種應(yīng)用有該低輻射鍍膜玻璃的夾層玻璃制品。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和設(shè)置在玻璃基板表面上的低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質(zhì)層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質(zhì)層之間，其特征在于:在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設(shè)高折射率層和低折射率層，所述高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜；其中，所述高折射率層的折射率大于1.7，其厚度為40 150nm ;所述低折射率層的折射率小于1.7，其厚度為40 150nm ;所述高折射率層與所述低折射率層的折射率差不小于0.3。優(yōu)選地，所述高折射率層的折射率為1.9 2.7，所述低折射率層的折射率為1.4 1.6。優(yōu)選地，所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層。優(yōu)選地,所述高折射率層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。
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優(yōu)選地,所述低折射率層選自Si02、A1203、SiAlOx和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一種。優(yōu)選地，還包括保護層，所述保護層作為最外層而設(shè)置在最遠離玻璃基板的紅外反射層上方的介質(zhì)層之上，其中所述保護層的厚度為0.5 50nm。進一步地，所述低輻射薄膜包括兩個介質(zhì)層和一個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層、下介質(zhì)層、第一紅外反射層和上介質(zhì)層；其中，下介質(zhì)層的厚度為20 60nm,第一紅外反射層的厚度為7 20nm,上介質(zhì)層的厚度為20 50nm。更進一步地,所述介質(zhì)層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。可選地，在所述下介質(zhì)層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述上介質(zhì)層之間設(shè)置阻隔層，所述阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。
進一步地，所述低輻射薄膜包括三個介質(zhì)層和兩個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層、下介質(zhì)層、第一紅外反射層、中間介質(zhì)層、第二紅外反射層和上介質(zhì)層；其中，下介質(zhì)層的厚度為20 60nm，第一紅外反射層和第二紅外反射層的厚度均為7 20nm,中間介質(zhì)層的厚度為40 90nm,上介質(zhì)層的厚度為15 50nm。更進一步地,所述介質(zhì)層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。可選地，在所述下介質(zhì)層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述中間介質(zhì)層之間設(shè)置第一阻隔層，所述第一阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第一阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種?？蛇x地，在所述中間介質(zhì)層與所述第二紅外反射層之間和/或在所述第二紅外反射層與所述上介質(zhì)層之間設(shè)置第二阻隔層，所述第二阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第二阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。同時，本發(fā)明還提供一種夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和夾在兩塊玻璃之間的中間層，其特征在于:兩塊玻璃中至少一塊選自以上任意一項所述的低輻射鍍膜玻璃，所述低輻射鍍膜玻璃的鍍膜位于靠近中間層的一面。本發(fā)明由于采取了上述技術(shù)方案，其具有如下有益效果:本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品通過在低輻射薄膜與玻璃基板之間增設(shè)高折射率層和低折射率層一方面能夠更好地在高溫熱處理過程中阻擋玻璃中堿金屬離子的擴散，另一 方面能夠在保證可見光透過率基本不變的情況下大幅提高近紅外區(qū)域反射率，從而降低了太陽能直接透過率，使其具有更好的太陽能阻隔能力；并且本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品具備較好的熱穩(wěn)定性和更加中性的反射光顏色。


:圖1為本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明所述的單銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明所述的雙銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明所述的夾層玻璃制品的一個實施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明所述的夾層玻璃制品的另一個實施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本發(fā)明所述的實施例1、2及其對比例1、2的玻璃面反射光譜圖；圖7為本發(fā)明所述的實施例3及其對比例3的玻璃面反射光譜圖；圖8為本發(fā)明所述的實施例4及其對比例4的玻璃面反射光譜圖；圖中:Al，實施例1的玻璃面反射光譜曲線；B1，對比例I的玻璃面反射光譜曲線；A2，實施例2的玻璃面反射光譜曲線；B2，對比例2的玻璃面反射光譜曲線；A3，實施例3的玻璃面反射光譜曲線；B3，對比例3的玻璃面反射光譜曲線；
A4，實施例4的玻璃面反射光譜曲線；B4，對比例4的玻璃面反射光譜曲線；1，玻璃基板；2，高折射率層；3，低折射率層；4，低輻射薄膜；401，單銀低輻射鍍膜玻璃中的下介質(zhì)層；402，單銀低輻射鍍膜玻璃中的第一紅外反射層；403，單銀低輻射鍍膜玻璃中的上介質(zhì)層；411，雙銀低輻射鍍膜玻璃中的下介質(zhì)層；412，雙銀低輻射鍍膜玻璃中的第一紅外反射層；413，雙銀低輻射鍍膜玻璃中的中間介質(zhì)層；414，雙銀低輻射鍍膜玻璃中的第二紅外反射層；415，雙銀低輻射鍍膜玻璃中的上介質(zhì)層；11，內(nèi)層玻璃基板；12，外層玻璃基板；13，中間層。
具體實施方式

:以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的內(nèi)容作進一步說明，其中的膜層厚度均為幾何厚度，膜層的折射率為550nm波長位置的折射率數(shù)值。如圖1所示，本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板I和設(shè)置在玻璃基板I表面上的低輻射薄膜4，所述低輻射薄膜4包括至少兩個介質(zhì)層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質(zhì)層之間。其中，所述紅外反射層主要功能是用于反射紅外線，減少紅外線從低輻射鍍膜玻璃中透射，所以所述紅外反射層的膜層材料可以選用能夠反射紅外能量的任何材料，例如(但不局限于)銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)等，在本發(fā)明中優(yōu)選為銀或含銀的合金，其中含銀的合金在本發(fā)明中優(yōu)選為銀與金、鋁、銅中至少一種的合金。在本發(fā)明的實施例中均選用了銀，實施例中銀的厚度不限制本發(fā)明的保護范圍，并且可以選擇，以提供低輻射系數(shù)的鍍膜玻璃。本發(fā)明的實施例中優(yōu)選厚度為7 20nm的銀層作為紅外反射層。在圖1中，在所述玻璃基板I表面和所述低輻射薄膜4之間增設(shè)高折射率層2和低折射率層3，所述高折射率層2、低折射率層3和低輻射薄膜4在所述玻璃基板I表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層2、低折射率層3和低輻射薄膜4 ;其中，所述高折射率層2的折射率大于1.7，其厚度為40 150nm ;所述低折射率層3的折射率小于1.7，其厚度為40 150nm ;所述高折射率層2與所述低折射率層3的折射率差不小于0.3 ;基于增設(shè)的高折射率層2和低折射率層3，使得所述低輻射鍍膜玻璃一方面能夠更好地在高溫熱處理過程中阻擋玻璃中堿金屬離子的擴散，另一方面能夠在保證可見光透過率基本不變的情況下大幅提高近紅外區(qū)域反射率，從而降低了太陽能直接透過率，使其具有更好的太陽能阻隔能力。同時，為了使本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃獲得更好的光學(xué)效果，取得更加中性的反射光顏色，優(yōu)選所述高折射率層2的折射率為1.9 2.7，所述低折射率層3的折射率為1.4 1.6，從而取得相對較大的所述高折射率層2與所述低折射率層3的折射率差值。為了滿足上述高折射率層2的折射率范圍的要求，所述高折射率層2選自鋅(Zn)、錫(Sn)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鉿(Hf)等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自硅(Si)、鋁(Al)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hf)、鈮(Nb)等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。在實際生產(chǎn)中常用的例如二氧化鈦(TiO2)、氮化硅(Si3N4)、鋅錫氧化物(ZnSnOx)、二氧化錫(SnO2)或氧化鋅(ZnO)等，此處僅為簡單舉例，并不影響本發(fā)明的保護范圍。為了滿足上述低折射率層3的折射率范圍的要求，所述低折射率層3選自二氧化硅(SiO2)、三氧化二鋁(Al2O3)、硅鋁混合氧化物(SiAlOx)和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一種，可以理解的是，并不限于此，其他符合要求的低折射率層材料均可。優(yōu)選地，該低輻射鍍膜玻璃還包括保護層(未示出)，所述保護層作為最外層而設(shè)置在最遠離玻璃基板I的紅外反射層上方的介質(zhì)層之上，所述保護層主要是在運輸儲存過程中提供附加的化學(xué)和機械耐用性，以提高低輻射鍍膜產(chǎn)品的穩(wěn)定性，本發(fā)明不限制所述保護層的膜層材料的種類，例如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員皆知的二氧化鈦(TiO2)、氮化硅(Si3N4)、二氧化鋯(ZrO2)、鈦(Ti)、二氧化硅(SiO2)、碳(C)等，所述保護層的厚度應(yīng)該在能夠提供足夠防護的厚度范圍內(nèi)，本發(fā)明優(yōu)選所述保護層的厚度為0.5 50nm。銀基低輻射鍍膜玻璃根據(jù)銀層數(shù)量的不同較常見地分為單銀低輻射鍍膜玻璃、雙銀低輻射鍍膜玻璃和三銀低輻射鍍膜玻璃。其中，圖2示出的是單銀低輻射鍍膜玻璃的膜系結(jié)構(gòu)，其中所述低輻射薄膜4包括兩個介質(zhì)層和一個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層2和低折射率層3在所述玻璃基板I表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層2、低折射率層3、下介質(zhì)層401、第一紅外反射層402和上介質(zhì)層403。其中，所述低輻射薄膜4中各膜層的厚度根據(jù)薄膜光學(xué)設(shè)計理論和方法進行優(yōu)化設(shè)計，從而優(yōu)選下介質(zhì)層401的厚度為20 60nm，第一紅外反射層402的厚度為7 20nm，上介質(zhì)層403的厚度為20 50nm。在單銀低輻射鍍膜玻璃中，所述第一紅外反射層402為銀層或含銀的合金層，所述介質(zhì)層即下介質(zhì)層401和上介質(zhì)層403用于封閉和阻隔來自玻璃表面和空氣中的氧原子及其他原子在熱處理過程中向紅外反射層的擴散導(dǎo)致的紅外反射層被氧化破壞，以及用于減少可見光區(qū)域的反射。所述下介質(zhì)層401和上介質(zhì)層403可以為單獨的一種材料膜層，也可以是由多種不同材料沉積成多個膜層的疊層。優(yōu)選地，所述下介質(zhì)層401和上介質(zhì)層403的折射率大于1.7，主要目的是減少第一紅外反射層402的可見光區(qū)域的反射，為了滿足該折射率范圍的要求，所述介質(zhì)層即下介質(zhì)層401和上介質(zhì)層403選自鋅(Zn)、錫(Sn)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鉿(Hf)等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自硅(Si)、鋁(Al)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hf)、鈮(Nb)等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種?？蛇x地，為進一步增強鍍膜產(chǎn)品的力學(xué)特性和熱穩(wěn)定性，在所述下介質(zhì)層401與所述第一紅外反射層402之間和/或在所述第一紅外反射層402與所述上介質(zhì)層403之間設(shè)置阻隔層(未示出)，所述阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述阻隔層選自鈦(Ti)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鋁(Al)、鋯(Zr)、鋅(Zn)、鈮(Nb)、鉭(Ta)等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。如前所述，該低輻射鍍膜玻璃還包括保護層(未示出)，所述保護層設(shè)置在所述上介質(zhì)層403上。其中，圖3示出的是雙銀低輻射鍍膜玻璃的膜系結(jié)構(gòu)，其中所述低輻射薄膜4包括三個介質(zhì)層和兩個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層2和低折射率層3在所述玻璃基板I表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層2、低折射率層3、下介質(zhì)層411、第一紅外反射層412、中間介質(zhì)層413、第二紅外反射層414和上介質(zhì)層415。其中，所述低輻射薄膜4中各膜層的厚度 根據(jù)薄膜光學(xué)設(shè)計理論和方法進行優(yōu)化設(shè)計，從而優(yōu)選下介質(zhì)層411的厚度為20 60nm，第一紅外反射層412和第二紅外反射層414的厚度均為7 20nm,中間介質(zhì)層413的厚度為40 90nm,上介質(zhì)層415的厚度為15 50nm。在雙銀低輻射鍍膜玻璃中，所述第一紅外反射層412和第二紅外反射層414為銀層或含銀的合金層，所述下介質(zhì)層411用于封閉和阻隔來自玻璃基板I表面的堿金屬離子、氧原子及其他破壞性原子在熱處理過程中向紅外反射層的擴散導(dǎo)致的紅外反射層被氧化破壞，以及用于減少可見光區(qū)域的反射；所述中間介質(zhì)層413用于減少可見光區(qū)域的反射；所述上介質(zhì)層415用于減少可見光區(qū)域的反射和熱處理過程中阻隔氧原子擴散。下介質(zhì)層411、中間介質(zhì)層413和上介質(zhì)層415可以為單獨的一種材料膜層，也可以是由多種不同材料沉積成多個膜層的疊層。優(yōu)選地，所述下介質(zhì)層411、中間介質(zhì)層413和上介質(zhì)層415的折射率大于1.7，主要目的是減少紅外反射層(即第一紅外反射層412和第二紅外反射層414)的可見光區(qū)域的反射，為了滿足該折射率范圍的要求，所述介質(zhì)層即下介質(zhì)層411、中間介質(zhì)層413和上介質(zhì)層415選自鋅(Zn)、錫(Sn)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鉿(Hf)等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自硅(Si)、鋁(Al)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hf)、鈮(Nb)等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。可選地，為進一步增強鍍膜產(chǎn)品的力學(xué)特性和熱穩(wěn)定性，在所述下介質(zhì)層411與所述第一紅外反射層412之間和/或在所述第一紅外反射層412與所述中間介質(zhì)層413之間設(shè)置第一阻隔層(未示出·)，所述第一阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第一阻隔層選自鈦(Ti)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鋁(Al)、錯(Zr)、鋅(Zn)、銀(Nb)、鉭(Ta)等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種?？蛇x地，為進一步增強鍍膜產(chǎn)品的力學(xué)特性和熱穩(wěn)定性，在所述中間介質(zhì)層413與所述第二紅外反射層414之間和/或在所述第二紅外反射層414與所述上介質(zhì)層415之間設(shè)置第二阻隔層(未示出)，所述第二阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第二阻隔層選自鈦(Ti)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鋁(Al)、錯(Zr)、鋅(Zn)、銀(Nb)、鉭(Ta)等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。如前所述，該低輻射鍍膜玻璃還包括保護層(未示出)，所述保護層設(shè)置在所述上介質(zhì)層415上。如圖4和圖5所示的本發(fā)明所述的夾層玻璃制品，包括內(nèi)層玻璃基板11、中間層
13、外層玻璃基板12、高折射率層2、低折射率層3和低輻射薄膜4，所述內(nèi)層玻璃基板11是指裝配在汽車上時面向車內(nèi)的玻璃；所述外層玻璃基板12是指裝配在汽車上時面向車外的玻璃；在圖4中，高折射率層2、低折射率層3和低輻射薄膜4依次設(shè)置在外層玻璃基板12的表面上，且位于外層玻璃基板12上靠近中間層13的一面，即此夾層玻璃制品的外層玻璃為低輻射鍍膜玻璃；在圖5中，高折射率層2、低折射率層3和低輻射薄膜4依次設(shè)置在內(nèi)層玻璃基板11的表面上，且位于內(nèi)層玻璃基板11上靠近中間層13的一面，也即此夾層玻璃制品的內(nèi)層玻璃為低輻射鍍膜玻璃；可以理解的是，本發(fā)明保護的夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和夾在兩塊玻璃之間的中間層，其中，兩塊玻璃中至少一塊選自以上所述的低輻射鍍膜玻璃，所述低輻射鍍膜玻璃的鍍膜位于靠近中間層的一面。為了更詳細地說明和更具說服力地支撐本發(fā)明的發(fā)明點，現(xiàn)列舉一些實施例進行詳細闡述。實施例1 2以厚度為2.1毫米的鈉鈣硅酸鹽浮法白玻為基片，經(jīng)過切割、磨邊、洗滌和烘干等工序后，進入磁控濺射鍍膜線進行鍍膜沉積，本底真空度高于6 X 10_4Pa，其中如表I所示，在對比例I 2和實施例1 2的玻璃基板上依次沉積表I中列出的膜層。膜層沉積結(jié)束后，將該沉積有對比例I 2和實施例1 2膜層結(jié)構(gòu)的鍍膜玻璃分別和2.1毫米厚度的白玻配片，按照汽車玻璃烘彎成型工藝烘彎成型，再中間夾上一片0.76毫米厚度的無色PVB膠片，在高壓釜中高壓合片，最終制成單銀低輻射鍍膜夾層玻璃制品。將上述得到的對應(yīng)對比例I 2和實施例1 2的單銀低輻射鍍膜夾層玻璃制品通過采用分光光度計測量其玻璃面反射光譜和透過光譜，并用霧度計測量其霧度，其技術(shù)參數(shù)的測量結(jié)果如表I所示，玻璃面反射光譜如圖5所示。表1:對比例I 2和實施例1 2的膜層結(jié)構(gòu)及其構(gòu)成的夾層玻璃制品的技術(shù)
參數(shù)
權(quán)利要求
1.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和設(shè)置在玻璃基板表面上的低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質(zhì)層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質(zhì)層之間，其特征在于:在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設(shè)高折射率層和低折射率層，所述高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜；其中，所述高折射率層的折射率大于1.7，其厚度為40 150nm ;所述低折射率層的折射率小于1.7，其厚度為40 150nm ;所述高折射率層與所述低折射率層的折射率差不小于0.3。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述高折射率層的折射率為1.9 2.7，所述低折射率層的折射率為1.4 1.6。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述高折射率層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述低折射率層選自Si02、A1203、SiAlOx和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:還包括保護層，所述保護層作為最外層而設(shè)置在最遠離玻璃基板的紅外反射層上方的介質(zhì)層之上，其中所述保護層的厚度為0.5 50nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述低輻射薄膜包括兩個介質(zhì)層和一個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層、下介質(zhì)層、第一紅外反射層和上介質(zhì)層；其中，下介質(zhì)層的厚度為20 60nm，第一紅外反射層的厚度為7 20nm,上介質(zhì)層的厚度為20 50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述介質(zhì)層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:在所述下介質(zhì)層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述上介質(zhì)層之間設(shè)置阻隔層，所述阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述低輻射薄膜包括三個介質(zhì)層和兩個紅外反射層，所述介質(zhì)層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設(shè)置:高折射率層、低折射率層、下介質(zhì)層、第一紅外反射層、中間介質(zhì)層、第二紅外反射層和上介質(zhì)層；其中，下介質(zhì)層的厚度為20 60nm,第一紅外反射層和第二紅外反射層的厚度均為7 20nm,中間介質(zhì)層的厚度為40 90nm,上介質(zhì)層的厚度為15 50nm。
11.根據(jù)權(quán)利要求 10所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述介質(zhì)層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:在所述下介質(zhì)層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述中間介質(zhì)層之間設(shè)置第一阻隔層，所述第一阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第一阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:在所述中間介質(zhì)層與所述第二紅外反射層之間和/或在所述第二紅外反射層與所述上介質(zhì)層之間設(shè)置第二阻隔層，所述第二阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第二阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。
14.一種夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和夾在兩塊玻璃之間的中間層，其特征在于:兩塊玻璃中至少一塊選自權(quán)利要求1-13任意一項所述的低輻射鍍膜玻璃，所述低輻射鍍膜玻璃的鍍膜位于靠近中 間層的一面。
全文摘要
本發(fā)明涉及玻璃鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及一種低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品，尤其是安裝在交通工具上的單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃。所述的低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板和低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質(zhì)層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質(zhì)層之間，在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設(shè)高折射率層和低折射率層。所述的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品通過增設(shè)高折射率層和低折射率層一方面能夠更好地在高溫熱處理過程中阻擋玻璃中堿金屬離子的擴散，另一方面能夠在保證可見光透過率基本不變的情況下大幅提高近紅外區(qū)域反射率，從而降低了太陽能直接透過率，使其具有更好的太陽能阻隔能力。
文檔編號B32B17/06GK103073196SQ201310050528
公開日2013年5月1日 申請日期2013年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月8日
發(fā)明者曹暉, 袁軍林, 福原康太, 林柱, 何立山, 盧國水, 彭穎昊, 王騰, 朱謐 申請人:福耀玻璃工業(yè)集團股份有限公司