一種可靜電粘附隔熱膜及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種透光性能優(yōu)良、紅外和紫外反射率均較高、制造工藝簡單，經(jīng)久耐用的可靜電粘附隔熱膜的制造方法，可靜電粘附隔熱膜的制造方法，通過在所提供的基材層上疊加各功能層實現(xiàn)。
【專利說明】—種可靜電粘附隔熱膜及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種可靜電粘附隔熱膜及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隔熱膜的主要作用是在阻礙熱量的傳遞。隔熱膜不僅廣泛使用于各種交通工具上，也大量使用在建筑物上。據(jù)統(tǒng)計，在一般的商業(yè)大樓中，和空調(diào)相關(guān)的用電量約占總用電量的47%。所以，降低空調(diào)的用電需求，對于節(jié)省大樓運作成本是一項很重要的課題。
[0003]太陽光中的紅外線部分是自然界最主要的熱源。太陽光(特別是其中的紅外線部分)進入商業(yè)大樓內(nèi)部后，會使得室內(nèi)溫度提高，為降低進入建物內(nèi)的太陽輻射，一般會在商業(yè)大樓的窗戶貼上隔熱膜。然而，隔熱膜除了能夠阻擋太陽光中的紅外線部分，也會阻擋太陽光中的可見光，而導致商業(yè)大樓內(nèi)部空間的亮度降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種透光性能優(yōu)良、紅外和紫外反射率均較高、制造工藝簡單，經(jīng)久耐用的可靜電粘附隔熱膜及其制造方法。
[0005]本發(fā)明的目的通過如下技術(shù)方案實現(xiàn):
[0006]一種可靜電粘附隔熱膜的制造方法，包括以下步驟:
[0007](I)提供基材；
[0008](2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材上表面沉積鈦層，在沉積過程中對沉積表面施加一個方向控制電場，使得鈦層晶粒沉積方向一致；
[0009](3)將步驟⑵制得的半成品烘干；
[0010](4)采用偏壓磁控濺射方法再沉積一層鍍膜層；
[0011](5)將步驟⑷制得的半成品烘干；
[0012](6)基材下表面涂布硅膠層；
[0013](7)在基材下表面的硅膠層上覆蓋移除膜；
[0014](8)最后經(jīng)過干燥，一體成型得到所述的可靜電粘附隔熱膜。
[0015]優(yōu)選的，基材為碳纖維膜；
[0016]優(yōu)選的，所施加的方向控制電場為豎直方向，使得鈦層晶粒呈豎條狀排列。
[0017]優(yōu)選的，在鈦層表面沉積氮化鈦層采用物理氣相沉積工藝。
[0018]優(yōu)選的，所述鍍膜層為氧化銀、氧化鋅或氧化鎳。
[0019]優(yōu)選的，所述抗刮層為PET保護膜。
[0020]優(yōu)選的，所述移除膜為PET保護膜。
[0021]優(yōu)選的，物理氣相沉積工藝(PVD)的沉積溫度為50_100°C，沉積時間為0.5-lh。
[0022]優(yōu)選的，所述烘干溫度為80_110°C，烘干時間為2_3h;所述干燥溫度為120-140°C，干燥時間為3-4h。
[0023]優(yōu)選的，在鈦層表面與鍍膜層之間還沉積有氮化鈦層；在鍍膜層表面涂布一層抗刮層。
[0024]更優(yōu)選的，在鍍膜層上還涂布有一電介質(zhì)層。
[0025]更優(yōu)選的，在步驟(6)和步驟(7)之間增加電介質(zhì)沉積工藝在鍍膜層上沉積二氧化硅電介質(zhì)層，該電介質(zhì)沉積工藝采用等離子變頻功率逐漸增強的方法進行電介質(zhì)層沉積，使得在沉積過程中，沉積速率隨時間不斷提高，該層的沉積品質(zhì)也顯著提高。
[0026]更優(yōu)選的，在PET保護膜表面再覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳素網(wǎng)；在絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護膜。
[0027]更優(yōu)選的，在第二 PET保護膜上覆蓋耐磨層，耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成。
[0028]更優(yōu)選的，在第二 PET保護膜上覆蓋隔熱增強層和耐磨層之間增加隔熱增強層；所述隔熱增強層的組份組成(Kg)如下:
[0029]
【權(quán)利要求】
1.一種可靜電粘附隔熱膜的制造方法，包括以下步驟: (1)提供基材； (2)采用物理氣相沉積工藝(PVD)在基材上表面沉積鈦層，在沉積過程中對沉積表面施加一個方向控制電場，使得鈦層晶粒沉積方向一致； (3)將步驟(2)制得的半成品烘干； (4)采用偏壓磁控濺射方法再沉積一層鍍膜層； (5)將步驟(4)制得的半成品烘干； (6)基材下表面涂布硅膠層； (7)在基材下表面的硅膠層上覆蓋移除膜； (8)最后經(jīng)過干燥，一體成型得到所述的可靜電粘附隔熱膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所施加的方向控制電場為豎直方向，使得鈦層晶粒呈豎條狀排列，在鈦層表面沉積氮化鈦層采用物理氣相沉積工藝；在鈦層表面與鍍膜層之間還沉積有氮化鈦層；在鍍膜層表面涂布一層抗刮層。
3.根據(jù)權(quán)利要求 1-2任一所述的方法，其特征在于:所述鍍膜層為氧化銀、氧化鋅或氧化鎳。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的方法，其特征在于:所述抗刮層為PET保護膜；基材為碳纖維膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的方法，其特征在于:在鍍膜層與抗刮層之間還涂布有一層電介質(zhì)層，所述電介質(zhì)層為采用等離子變頻功率逐漸增強的方法進行電介質(zhì)層沉積的二氧化硅電介質(zhì)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的方法，其特征在于:在PET保護膜表面再覆蓋一層絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)為銀絲網(wǎng)或碳素網(wǎng)；在絲網(wǎng)表面再次涂布一層第二 PET保護膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的方法，其特征在于:在第二PET保護膜上覆蓋耐磨層，耐磨層由透明丙烯酸層構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的方法，其特征在于: 在第二 PET保護膜上覆蓋隔熱增強層和耐磨層之間增加隔熱增強層；所述隔熱增強層的組份組成(Kg)如下:

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一所述的方法，其特征在于: 物理氣相沉積工藝(PVD)的沉積溫度為50-100°C，沉積時間為0.5-lh ;所述烘干溫度為80-110°C，烘干時間為2-3h ;所述干燥溫度為120-140°C，干燥時間為3_4h。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9所 述的方法制造得到的可靜電粘附隔熱膜。
【文檔編號】B32B27/12GK103481565SQ201310380346
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】葛敏軍 申請人:杭州正奧科技有限公司