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      一種具有耐磨復合膜的工件的制作方法

      文檔序號:2448261閱讀:147來源:國知局
      一種具有耐磨復合膜的工件的制作方法
      【專利摘要】一種具有耐磨復合膜的工件,包括工件本體以及設于工件本體外表面的耐磨復合膜,其特征在于:所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層,且所述耐磨層為摻雜有Si元素的薄膜層。本實用新型之工件,其耐磨復合膜硬度高、耐磨性好。
      【專利說明】一種具有耐磨復合膜的工件
      【技術領域】:
      [0001]本實用新型涉及一種具有耐磨復合膜的工件。
      【背景技術】:
      [0002]為提高工件的裝飾性,尤其是金屬工件的裝飾性,使金屬工件更加美觀,通常會在金屬工件的外表面鍍上復合膜。但現有的鍍設有復合膜的工件,普遍存在硬度低、耐磨性差的缺陷,故有必要對其作出改進。
      實用新型內容:
      [0003]本實用新型的目的在于提供一種具有耐磨復合膜的工件,其外表面的耐磨復合膜硬度高、耐磨性好。
      [0004]—種具有耐磨復合膜的工件,包括工件本體以及設于工件本體外表面的耐磨復合膜,其特征在于:所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層,且所述耐磨層為摻雜有Si元素的薄膜層。
      [0005]本實用新型之工件,其外表面的耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層,且所述耐磨層為摻雜有Si元素的薄膜層,可進一步提高耐磨層之硬度,使復合膜更加耐磨。
      [0006]本實用新型之耐磨復合膜,可通過如下方案進行改進:
      [0007]所述耐磨層為TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層,耐磨復合膜硬度高、耐磨性好。
      [0008]所述耐磨層的厚度為0.5~5.0 μ m,結構簡單,可進一步提高耐磨層之硬度,使本實用新型之復合膜更加耐磨。
      [0009]所述底層為Ti膜層,其厚度為0.01 μ m~0.5 μ m,可提高耐磨層與金屬工件的附著性。
      [0010]所述中介層為不銹鋼薄膜層,其厚度為0.1~0.5 μ m,可提高耐磨層與白色貴金屬膜層的附著力。
      [0011]所述白色貴金屬膜層是Pt、Pd、Rh、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層,其厚度為0.1~1.0μm.可提高工件的表面裝飾性,使工件更加美觀。
      [0012]所述工件為金屬工件。
      [0013]所述工件為金屬手表零配件或金屬首飾零配件。
      【專利附圖】

      【附圖說明】:
      [0014]圖1為本實用新型之工件的結構剖視圖。
      【具體實施方式】:
      [0015]如圖1所示,一種具有耐磨復合膜的工件,包括工件本體I以及設于工件本體外1表面的耐磨復合膜,所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層2、耐磨層3、中介層4、以及白色貴金屬膜層5,且所述耐磨層3為摻雜有Si元素的薄膜層。
      [0016]進一步地,所述耐磨層3為TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層。
      [0017]再進一步地,所述耐磨層3的厚度為0.5^5.0 μ m。
      [0018]再進一步地,所述底層2為Ti膜層,其厚度為0.01 μ πΟ.5 μ m。 [0019]再進一步地,所述中介層4為不銹鋼薄膜層,其厚度為0.1~0.5μπιο [0020]再進一步地,所述白色貴金屬膜層5是鉬金(Pt)、鈀金(Pd)、銠金(Rh)、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層,其厚度為0.?Λ?.Ομηι。
      [0021 ] 更進一步地,所述工件為金屬工件。
      [0022]具體地,所述工件為金屬手表零配件,如:表殼、表帶、圈、底蓋、螺釘等;所述工件還可以是金屬首飾零配件,如項鏈、手鏈、指環(huán)、耳環(huán)、手環(huán)等。
      [0023]本實用新型之工件,如金屬手表零配件、或金屬首飾零配件,在其外表面形成所述耐磨復合膜的工藝包括如下步驟:
      [0024]1、將待鍍工件檢查之后,固定于掛架上。
      [0025]2、以超聲波清洗,以去除工件表面所附著之油脂與拋光蠟。
      [0026]3、清洗完畢后,對工件進行烘干以去除所吸附之水分。
      [0027]4、將工件置入真空鍍膜機內,抽真空并加熱。所述真空鍍膜機的真空爐之真空壓力需低于7.5X10_3Pa,溫度須高于150°C。
      [0028]5、進入鍍膜程序之第一步驟:利用離子轟擊以去除工件表面氧化膜。
      [0029]6、進入鍍膜程序之第二步驟:采用陰極電弧蒸鍍與磁控濺射蒸鍍交互運用工藝,在工件表面鍍上底層2,即Ti膜層,其厚度為0.01 μ πΟ.5 μ m。
      [0030]7、進入鍍膜程序之第三步驟:采用陰極電弧蒸鍍與磁控濺射蒸鍍交互運用工藝,在底層2外表面鍍上耐磨層3,即TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層,其厚度為
      0.5~5.0 μ mD
      [0031]8、進入鍍膜程序之第四步驟:采用磁控濺射蒸鍍工藝,在耐磨層3外表面鍍上中介層4,即不銹鋼薄膜層,其厚度為0.1~0.5 μ m。
      [0032]9、進入鍍膜程序之第五步驟:采用磁控濺射蒸鍍工藝,在中介層4外表面鍍上白色貴金屬膜層5,該白色貴金屬膜層5是鉬金(Pt)、|fi金(Pd)、錯金(Rh)、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層,其厚度為0.1"!.0 μ m。
      [0033]10、待爐內冷卻后,破真空取出工件,進行檢查與包裝。
      [0034]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例,并非用來限定本實用新型實施的范圍,凡依本實用新型專利范圍所做的同等變化與修飾,皆落入本實用新型專利涵蓋的范圍。
      【權利要求】
      1.一種具有耐磨復合膜的工件,包括工件本體以及設于工件本體外表面的耐磨復合膜,其特征在于:所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層,所述耐磨層為TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層。
      2.根據權利要求1所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述耐磨層的厚度為0.5?5.0 μ m。
      3.根據權利要求1或2所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述底層為Ti膜層,其厚度為0.0l μ m?0.5 μ m。
      4.根據權利要求3所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述中介層為不銹鋼薄膜層,其厚度為0.1?0.5 μ m。
      5.根據權利要求4所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述白色貴金屬膜層是Pt、Pd、Rh、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層,其厚度為0.1?1.0 μ m。
      6.根據權利要求5所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述工件為金屬工件。
      7.根據權利要求6所述的一種具有耐磨復合膜的工件,其特征在于:所述工件為金屬手表零配件或金屬首飾零配件。
      【文檔編號】B32B9/04GK203438616SQ201320230508
      【公開日】2014年2月19日 申請日期:2013年4月28日 優(yōu)先權日:2013年4月28日
      【發(fā)明者】劉伍健, 劉金福, 高儷芝 申請人:中山源謚真空科技有限公司
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