太陽(yáng)能鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型適用于鍍膜玻璃領(lǐng)域，提供了一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃，包括基底層和通過(guò)輥涂方式鍍制于所述基底層的減反膜層，所述減反膜層的底層與所述基底層相貼，所述減反膜層的表層為封閉的表層，所述減反膜層內(nèi)部包含通過(guò)微乳液法形成的微孔結(jié)構(gòu)層，所述微孔結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)用于增加太陽(yáng)光透過(guò)率的微孔。本實(shí)用新型提供的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其減反膜層（AR）內(nèi)部的微孔可以增加太陽(yáng)光透過(guò)率，提高太陽(yáng)能組件的光電轉(zhuǎn)換效率，減反膜層的表面封閉的表層，可以很方便地清除太陽(yáng)能組件后繼加工過(guò)程中極易出現(xiàn)的手指印、輥道印、皮帶印、殘留的EVA及硅膠等，另一方面，封閉的表層避免了水汽等雜質(zhì)的侵入，大大提高了太陽(yáng)能鍍膜玻璃的耐久性。
【專利說(shuō)明】太陽(yáng)能鍍膜玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型屬于鍍膜玻璃領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前的太陽(yáng)能鍍膜玻璃領(lǐng)域，主流的AR(減反膜）鍍膜工藝有：
[0003] -、真空磁控濺射鍍膜，利用磁控濺射技術(shù)鍍制多層膜系，通過(guò)合理地設(shè)計(jì)膜系結(jié) 構(gòu)，能取得很好的寬波段減反效果，且膜層的耐久性、耐磨性很好，缺點(diǎn)是其設(shè)備投資成本 高，鍍膜過(guò)程需在真空環(huán)境中進(jìn)行，靶材成本相對(duì)較高，導(dǎo)致鍍膜玻璃成本一直居高不下。
[0004] 二、溶膠-凝膠法鍍膜，其工藝簡(jiǎn)單、設(shè)備投資成本低，但膜層質(zhì)量差，只適合小樣 片制備，不適合大批量生產(chǎn)。
[0005] 三、噴涂和輥涂?jī)煞N鍍膜方式，是比較有競(jìng)爭(zhēng)力的兩種方法，該兩種方式都是采用 已經(jīng)配制好的鍍膜液，在玻璃表面形成一層多孔結(jié)構(gòu)的減反層，實(shí)現(xiàn)單層減反膜寬波段減 反效果，既取得了良好的減反效果，制造成本也相對(duì)較低。兩者的區(qū)別在于涂制方式的不 同，噴涂方式需要定期對(duì)噴嘴進(jìn)行處理，無(wú)法保證長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)生產(chǎn)，輥涂方式只要涂輥沒(méi)有 損壞，可以實(shí)現(xiàn)持續(xù)生產(chǎn)。
[0006] 而對(duì)于AR鍍膜玻璃，目前市場(chǎng)上的主流產(chǎn)品為開(kāi)孔結(jié)構(gòu)。為粒子簡(jiǎn)單填積在一 起，該結(jié)構(gòu)具有以下缺點(diǎn)：（2)表面開(kāi)孔結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致表面比表面積很大，空氣中的灰塵，以及 后繼處理過(guò)程中的手指印、輥道印、皮帶印等極易粘在鍍膜玻璃表面，且不易清除，影響鍍 膜玻璃的外在質(zhì)量；（2)表面開(kāi)孔結(jié)構(gòu)，還帶來(lái)一個(gè)更大的缺點(diǎn)，那就是，空氣中的水汽很 容易通過(guò)鍍膜玻璃孔隙間形成的毛細(xì)管道，積在玻璃表面，對(duì)玻璃進(jìn)行侵蝕，影響鍍膜玻璃 的耐久性。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0007] 本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃， 其不僅具有很好的減反性能，還具有很好的耐候性能，并且非常容易清潔。
[0008] 本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃，包括基底層和通過(guò)輥涂方式鍍 制于所述基底層的減反膜層，所述減反膜層的底層與所述基底層相貼，所述減反膜層的表 層為封閉的表層，所述減反膜層內(nèi)部包含通過(guò)微乳液法形成的微孔結(jié)構(gòu)層，所述微孔結(jié)構(gòu) 層包括多個(gè)用于增加太陽(yáng)光透過(guò)率的微孔。
[0009] 可選地，所述減反膜層的厚度為80nm至120nm。
[0010] 可選地，所述減反膜層的主要成分為硅氧化合物或鈦氧化合物或兩者的組合物。
[0011] 可選地，所述微孔的孔徑范圍為5nm至15nm。
[0012] 可選地，所述基底層為玻璃。
[0013] 可選地，所述減反膜層的表層為硅烷偶聯(lián)劑固化形成的填孔劑層，所述填孔劑層 涂覆于微孔結(jié)構(gòu)層。
[0014] 可選地，所述微孔具有多層且各微孔密集排列。
[0015] 本實(shí)用新型提供的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其減反膜層（AR)內(nèi)部包含著大量的通過(guò)微乳 液法形成的微孔，可以進(jìn)一步增加太陽(yáng)光透過(guò)率，提高太陽(yáng)能組件的光電轉(zhuǎn)換效率，且減反 膜層的表面通過(guò)填孔劑形成一個(gè)封閉的表層，一方面可以很方便地清除太陽(yáng)能組件后繼加 工過(guò)程中極易出現(xiàn)的手指印、輥道印、皮帶印、殘留的EVA及硅膠等，另一方面，該封閉表面 排除了水汽等雜質(zhì)的侵入，大大提高了太陽(yáng)能鍍膜玻璃的耐久性。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016] 為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的 附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng) 域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附 圖。
[0017] 圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的鍍膜玻璃的平面示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0018] 為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施 例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋 本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0019] 需要說(shuō)明的是，當(dāng)元件被稱為"固定于"或"設(shè)置于"另一個(gè)元件，它可以直接在另 一個(gè)元件上或者可能同時(shí)存在居中元件。當(dāng)一個(gè)元件被稱為是"連接于"另一個(gè)元件，它可 以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。
[0020] 還需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中的左、右、上、下等方位用語(yǔ)，僅是互為相對(duì)概念或是 以產(chǎn)品的正常使用狀態(tài)為參考的，而不應(yīng)該認(rèn)為是具有限制性的。
[0021] 如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃，可用作太陽(yáng)能玻璃 等，例如太陽(yáng)能電池組件鍍膜蓋板玻璃。上述鍍膜玻璃包括基底層1和通過(guò)輥涂方式鍍制 于所述基底層1的減反膜層2 (AR膜層)，所述減反膜層2的底層與所述基底層1相貼。所 述減反膜層2的表層為封閉的表層4,所述減反膜層2內(nèi)部包含通過(guò)微乳液法形成的微孔結(jié) 構(gòu)層，所述微孔結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)用于增加太陽(yáng)光透過(guò)率的微孔3。具體應(yīng)用中，微孔3為在 AR(Anti-Reflection減反射）鍍膜液中加入微乳液，通于輥涂方式鍍制于基底層1表面， 并在固化和鋼化過(guò)程中，微乳液揮發(fā)后形成微孔3。微孔3可以進(jìn)一步增加太陽(yáng)光透過(guò)率， 提高太陽(yáng)能組件的光電轉(zhuǎn)換效率。封閉的表層4為在減反膜溶液中加入填孔劑，通過(guò)輥涂 方式鍍制于玻璃基板表面，該填孔劑主要成分為硅烷偶聯(lián)劑，在鋼化處理過(guò)程中，填孔劑相 互膠粘，形成封閉的表面使最上層的微孔3封閉，一方面可以很方便地清除太陽(yáng)能組件后 繼加工過(guò)程中極易出現(xiàn)的手指印、輥道印、皮帶印、殘留的EVA及硅膠等，另一方面，該封閉 表面排除了水汽等雜質(zhì)的侵入，大大提高了太陽(yáng)能鍍膜玻璃的耐久性。
[0022] 優(yōu)選地，所述減反膜層2的厚度為80nm至120nm，例如90nm、100nm、llOnm等。
[0023] 優(yōu)選地，所述減反膜層2的主要成分為硅氧化合物或鈦氧化合物或兩者的組合物 或其它合適的材料。
[0024] 優(yōu)選地，所述微孔3的孔徑范圍為5nm至15nm，例如7nm、9nm、llnm、13nm等。由于 鍍膜液是膠體粒子，本身帶有電荷，如果孔隙率做得過(guò)高，將導(dǎo)致膠體間形成團(tuán)聚，影響溶 液的穩(wěn)定性，所以該鍍膜方式孔隙率有一定的限制，起不到很好的減反效果。而微孔3的孔 徑范圍為5nm至15nm時(shí)，其孔隙率為較佳狀態(tài),減反效果好。
[0025] 優(yōu)選地，所述基底層1可為透明的玻璃。
[0026] 具體地，所述減反膜層2的表層4為硅烷偶聯(lián)劑固化形成的填孔劑層，所述填孔劑 層涂覆于微孔3結(jié)構(gòu)層。
[0027] 具體地，所述微孔3具有多層且各微孔3密集排列，減反效果好。
[0028] 本實(shí)用新型所提供的鍍膜玻璃，在減反膜層2內(nèi)部包含大量的微孔3,可以進(jìn)一步 增加太陽(yáng)光透過(guò)率，提高太陽(yáng)能組件的光電轉(zhuǎn)換效率；而且減反膜層2具有封閉表層4, 一 方面可以很方便地清除太陽(yáng)能組件后繼加工過(guò)程中極易出現(xiàn)的手指印、輥道印、皮帶印、殘 留的EVA及硅膠等，另一方面，該封閉表面排除了水汽等雜質(zhì)的侵入，可以大大提高太陽(yáng)能 鍍膜玻璃的耐久性。
[0029] 以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本 實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型 的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種太陽(yáng)能鍍膜玻璃，包括基底層和通過(guò)輥涂方式鍍制于所述基底層的減反膜層， 所述減反膜層的底層與所述基底層相貼，其特征在于，所述減反膜層的表層為封閉的表層， 所述減反膜層內(nèi)部包含通過(guò)微乳液法形成的微孔結(jié)構(gòu)層，所述微孔結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)用于增 加太陽(yáng)光透過(guò)率的微孔。
2. 如權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述減反膜層的厚度為80nm至 120nm〇
3. 如權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述減反膜層的主要成分為硅 氧化合物或鈦氧化合物。
4. 如權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述微孔的孔徑范圍為5nm至 15nm〇
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述基底層為玻 3?〇
6. 如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述減反膜層的表 層為硅烷偶聯(lián)劑固化形成的填孔劑層，所述填孔劑層涂覆于微孔結(jié)構(gòu)層。
7. 如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的太陽(yáng)能鍍膜玻璃，其特征在于，所述微孔具有多層 且各微孔密集排列。
【文檔編號(hào)】B32B33/00GK203864114SQ201420109221
【公開(kāi)日】2014年10月8日 申請(qǐng)日期:2014年3月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月11日
【發(fā)明者】董清世, 趙鳳剛, 李曉東, 陳建才, 劉笑榮 申請(qǐng)人:信義光伏產(chǎn)業(yè)(安徽)控股有限公司