一種電子產(chǎn)品抗菌層面板的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，包括透明基材，所述透明基材具有第一表面以及與第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面，所述透明基材的第一表面向外依次鍍有SiO2底層、增透鍍膜層及抗菌層，所述增透鍍膜層由若干層高折射率材料層和低折射率材料層依次交替層疊形成，所述抗菌層為復(fù)合銀材料層，上述增透鍍膜層及抗菌層均由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形；本實(shí)用新型不僅可以增加面板對(duì)光的透射率，減少面板表面對(duì)光的反射率，使人眼能看清屏上的內(nèi)容，同時(shí)表面的抗菌層具有較好的抗菌效果，可長(zhǎng)期有效抑制細(xì)菌生長(zhǎng)。
【專利說(shuō)明】一種電子產(chǎn)品抗菌層面板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種電子產(chǎn)品抗菌層面板。

【背景技術(shù)】
[0002]目前很多智能終端產(chǎn)品，如手機(jī)、平板電腦、筆記本電腦等，都存在一個(gè)缺點(diǎn)，即在戶外陽(yáng)光直射下，人可能會(huì)看不清屏上的內(nèi)容。這是因?yàn)殛?yáng)光在屏表面會(huì)產(chǎn)生反射，當(dāng)陽(yáng)光足夠強(qiáng)烈時(shí)，反射光會(huì)接近甚至超過(guò)屏本身背光的強(qiáng)度，這會(huì)對(duì)人眼造成極大的干擾。目前行業(yè)內(nèi)主要是通過(guò)增加背光亮度來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題，但是這樣做有很大的缺點(diǎn)，一是耗電量會(huì)增加，違背了目前節(jié)能減排的趨勢(shì)，并會(huì)導(dǎo)致電池使用時(shí)間縮短，需要更頻繁地充電；二是人眼接收的總光強(qiáng)會(huì)增加，因此長(zhǎng)時(shí)間看會(huì)影響人的健康；三是這樣做并不能完全消除陽(yáng)光的影響，而只能在一定程度上減小。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型目的是:提供一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其不僅可以增加面板對(duì)光的透射率，減少面板表面對(duì)光的反射率，使人眼能看清屏上的內(nèi)容，同時(shí)表面的抗菌層具有較好的抗菌效果，可長(zhǎng)期有效抑制細(xì)菌生長(zhǎng)。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，包括透明基材，所述透明基材具有第一表面以及與第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面，所述透明基材的第一表面向外依次鍍有Si02底層、增透鍍膜層及抗菌層，所述增透鍍膜層由若干層高折射率材料層和低折射率材料層依次交替層疊形成，所述抗菌層為復(fù)合銀材料層，上述增透鍍膜層及抗菌層均由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形。
[0005]所述抗菌層為無(wú)機(jī)氧化物中添加銀離子，銀離子濃度在0.5-5%之間。
[0006]所述Si02底層的厚度為0nm-200nm,所述抗菌層的厚度為5nm-150nm。所述各高折射率材料層均為Si3N4層。所述透明基材為透明塑料膜或玻璃。
[0007]所述增透鍍膜層一種【具體實(shí)施方式】為:所述增透鍍膜層由內(nèi)向外依次為第一高折射率材料層、第一低折射率材料層、第二高折射率材料層、及第二低折射率材料層，所述第一高折射率材料層的厚度為5nm-50nm、第一低折射率材料層的厚度為15nm_45nm、第二高折射率材料層的厚度為5nm-40nm、及第二低折射率材料層的厚度為5nm_120nm。
[0008]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:
[0009]1、本實(shí)用新型設(shè)定并精確控制增透鍍膜層中的各膜層的厚度，在增透鍍膜層各個(gè)膜層的作用下，使透明基材面板表面的可見(jiàn)光反射率由4.2%左右降低至0.8%以下，能大幅提高玻璃等透明材料的整體透光率。
[0010]、本實(shí)用新型最表面的抗菌層，有0.5^5%的銀離子緩慢析出，可長(zhǎng)期有效抑制細(xì)菌生長(zhǎng)，達(dá)到抗菌目的。
[0011]、本實(shí)用新型中增透鍍膜層由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形，每層鍍層使用不同材料且厚度不同，使可見(jiàn)光經(jīng)過(guò)不同鍍層的反射光產(chǎn)生光干涉，在可見(jiàn)光的范圍內(nèi)(40(T700nm)，使透明基材面板表面的可見(jiàn)光反射率降低，提高了透明基材的整體透光率。
[0012]、本實(shí)用新型中抗菌層由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形，與傳統(tǒng)的涂布方式相比，這樣的抗菌層在表面具有較好的牢固性及耐磨性，適用于具有觸摸屏的電子產(chǎn)品。
[0013]、本實(shí)用新型中Si02底層的設(shè)置，可起加固膜層作用。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
[0015]圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的示意圖。
[0017]其中:I透明基材；
[0018]2Si02 底層;
[0019]3增透鍍膜層；31第一高折射率材料層；32第一低折射率材料層；33第二高折射率材料層；34第二低折射率材料層；
[0020]4抗菌層。

【具體實(shí)施方式】
[0021]實(shí)施例:如圖1和2所示，一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，包括透明基材1，所述透明基材I具有第一表面以及與第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面，所述透明基材I的第一表面向外依次鍍有Si02底層2、增透鍍膜層3及抗菌層4。
[0022]所述增透鍍膜層3由若干層高折射率材料層和低折射率材料層依次交替層疊形成。本實(shí)施例中，所述增透鍍膜層3由內(nèi)向外依次為第一高折射率材料層31、第一低折射率材料層32、第二高折射率材料層33、及第二低折射率材料層34，所述第一高折射率材料層31的厚度為5nm-50nm、第一低折射率材料層32的厚度為15nm_45nm、第二高折射率材料層33的厚度為5nm-40nm、及第二低折射率材料層34的厚度為5nm_120nm。本實(shí)用新型設(shè)定并精確控制增透鍍膜層3中的各膜層的厚度，在增透鍍膜層3各個(gè)膜層的作用下，使透明基材面板表面的可見(jiàn)光反射率由4.2%左右降低至0.8%以下，能大幅提高玻璃等透明材料的整體透光率。
[0023]所述抗菌層4為復(fù)合銀材料層。本實(shí)施例中，所述抗菌層4為無(wú)機(jī)氧化物中添加銀離子，銀離子濃度在0.5-5%之間。該抗菌層，有0.5^5%的銀離子緩慢析出，可長(zhǎng)期有效抑制細(xì)菌生長(zhǎng)，達(dá)到抗菌目的。
[0024]進(jìn)一步的，所述Si02底層2的厚度為0nm-200nm，所述抗菌層4的厚度為5nm-150nm。所述各高折射率材料層均為Si3N4層。所述透明基材I為透明塑料膜或玻璃。
[0025]本實(shí)用新型中增透鍍膜層3由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形，每層鍍層使用不同材料且厚度不同，使可見(jiàn)光經(jīng)過(guò)不同鍍層的反射光產(chǎn)生光干涉，在可見(jiàn)光的范圍內(nèi)(40(T700nm)，使透明基材面板表面的可見(jiàn)光反射率降低，提高了透明基材的整體透光率。本實(shí)用新型中抗菌層4由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形，與傳統(tǒng)的涂布方式相比，這樣的抗菌層4在表面具有較好的牢固性及耐磨性，適用于具有觸摸屏的電子產(chǎn)品。
[0026]以上僅是本實(shí)用新型的具體應(yīng)用范例，對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限制。除上述實(shí)施例外，本實(shí)用新型還可以有其它實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，包括透明基材(1 )，所述透明基材(1)具有第一表面以及與第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面，其特征在于:所述透明基材(1)的第一表面向外依次鍍有Si02底層(2)、增透鍍膜層(3)及抗菌層(4)，所述增透鍍膜層(3)由若干層高折射率材料層和低折射率材料層依次交替層疊形成，所述抗菌層(4 )為復(fù)合銀材料層，上述增透鍍膜層(3)及抗菌層(4)均由磁控濺射鍍膜方式鍍膜成形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其特征在于:所述抗菌層(4)為無(wú)機(jī)氧化物中添加銀離子，銀離子濃度在0.5-5%之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其特征在于:所述Si02底層(2)的厚度為0nm-200nm,所述抗菌層(4)的厚度為5nm_150nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其特征在于:所述增透鍍膜層(3)由內(nèi)向外依次為第一高折射率材料層(31)、第一低折射率材料層(32)、第二高折射率材料層(33)、及第二低折射率材料層(34)，所述第一高折射率材料層(31)的厚度為5nm-50nm、第一低折射率材料層(32)的厚度為15nm-45nm、第二高折射率材料層(33)的厚度為5nm-40nm、及第二低折射率材料層(34)的厚度為5nm_120nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其特征在于:所述各高折射率材料層均為Si3N4層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的一種電子產(chǎn)品抗菌層面板，其特征在于:所述透明基材(1)為透明塑料膜或玻璃。
【文檔編號(hào)】B32B17/06GK204079783SQ201420526719
【公開(kāi)日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2014年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月12日
【發(fā)明者】王立新 申請(qǐng)人:蘇州勝利光學(xué)玻璃有限公司