專利名稱：透明性優(yōu)良的紅外線吸收膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有良好透明性且適合于，尤其適合于用作易腐敗食物的包裝材料和溫室覆蓋材料的紅外輻射吸收膜。
包裝食品和覆蓋保護園藝室，主要使用聚乙烯膜，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜，聚丙烯膜、聚氯乙烯膜等。提供這些具有紅外輻射吸收特性的薄膜技術(shù)已被廣泛用于包裝易腐敗食品等領(lǐng)域里，用于改進食品的熟化特性，保持性、風(fēng)味和香味;并用于溫室覆蓋物的夜間保溫能力。
當(dāng)某些合成樹脂用于制備薄膜時，例如聚氯乙烯樹脂和聚對苯二甲酸乙酯樹脂，其本身具有良好的紅外輻射吸收能力，其它樹脂如聚乙烯和聚丙烯樹脂，在紅外輻射吸收能力方面是很低的。對于提供具有較高紅外線吸收能力的合成樹脂，已知有許多方法，這些方法包括將某種特殊的無機化合物混入合成樹脂中從而當(dāng)暴露在紅外輻射中時利用這些無機化合物的離子晶格振動。
例如，日本審查過的專利(公告)公報No.13853/1972公開了一種農(nóng)業(yè)上使用的薄膜，該薄膜的透明性和保溫性優(yōu)異，是通過將1-10%(重量)的氧化硅混入聚乙烯或乙烯-乙酸乙烯酯共聚物而制得。日本審查過的專利(公告)公報No.5825/1982公開了一處類似于上述用于農(nóng)業(yè)用途的薄膜，這種薄膜包括含有數(shù)量為1-20%(重量)無水硅鋁酸鹽的聚乙烯或乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。
然而，含有這些無機化合物的這種合成樹脂薄膜確實具有紅外線吸收能力，但卻有一個問題，即可見光的透明性減弱。
為解決這一問題做了許多努力，例如將具有紅外線吸收能力的無機化合物的折射率調(diào)節(jié)到合成樹脂的折射率以致生成具有良好透明性的薄膜[日本審查過的專利(公告)公報No.50251/1984，日本審查過的專利(公告)公報No.5183/1984等]，或者添加具有特定粒度的氧化硅從而防止由于形成所謂硬斑(hard sport)或因氧化硅顆粒聚集形成的粒狀結(jié)構(gòu)而導(dǎo)致的透明度降低(日本審查過的專利(公告)公報No.13832/1988)。
為解決上述問題的目的可某種程度上用以下方法達到，即將特殊的無機化合物添加到合成樹脂中以使它們具有紅外吸收能力，同時控制所述無機化合物的折射率或使用特殊粒度品級的所述無機化合物從而獲得高度透明的薄膜。然而，效果一直不滿意。特別是，當(dāng)具有高紅外吸收能力的氧化硅添加到合成樹脂中時，并且當(dāng)所述氧化硅被精細破碎且平均粒度為4μm或更小時，細顆粒勢必聚集。當(dāng)成膜時，聚集物迅速導(dǎo)致在膜中形成大小為幾十至幾百微米的硬斑，降低了生成膜的透明性和外觀。有趣的是，早已發(fā)現(xiàn)當(dāng)使用具有較大平均粒度的氧化硅種類時，上述硬斑形成常常極少發(fā)生。然而，盡管很可能極少形成硬班，但具有較大粒度的氧化硅種類是不利的，因為膜的表面和膜中可見光的散射增加，并導(dǎo)致薄膜的透明性降低。
此外，大多數(shù)含有無機化合物作為添加劑的合成樹脂薄膜還有一個問題，即，當(dāng)它僅作很少拉伸時，拉伸過的部分往往會變白和不透明。
這種拉伸時的白化現(xiàn)象可認為是表明在包裝膜或農(nóng)業(yè)用途薄膜領(lǐng)域或某些情況下質(zhì)量低劣。
我們進行了充分的研究，以獲得具有良好透明性和良好抗拉伸白化性且基本上無硬斑的紅外線吸收薄膜。結(jié)果，我們發(fā)現(xiàn)，當(dāng)具有水下研磨而獲得之粉狀特征的氧化硅物料添加到合成樹脂中時，就可達到上述目的。這種發(fā)現(xiàn)目前已導(dǎo)致完成本發(fā)明。
因此，本發(fā)明提供了一種具有優(yōu)良透明性的含有合成樹脂和氧化硅的紅外線吸收薄膜，其中氧化硅的使用量，以合成樹脂重量為基準(zhǔn)，約為2-25%，其中由水下研磨得到的氧化硅其平均粒度不大于4μm，基本上沒有粒度超過20μm的顆粒，比表面積不大于20m2/g。
作為本發(fā)明中使用的合成樹脂，可舉出各種烯烴樹脂，例如烯烴聚合物，二種或多種烯烴的共聚物以及至少一種烯烴(作為主要成分)和一種或多種其它單體的共聚物，并且對樹脂的類型沒有特殊限制，只要它們能形成透明膜。更具體地說，上述樹脂，其中包括聚乙烯類，(如低密度聚乙烯、中密度聚乙烯和高密度聚乙烯)，乙烯和α-烯烴(如丁烯-1，4-甲基戊烯-1，己烯-1或辛烯-1(L-LDPE)]的共聚物，乙烯-乙酸乙酯共聚物，乙烯-丙烯酸共聚物，乙烯-烷基(甲基)丙烯酸酯共聚物，離子鍵樹脂，聚丙烯，乙烯-丙烯共聚物，丙烯-丁烯-1共聚物和聚氯乙烯樹脂。最好使用熔體流動速率(FMR)約為0.1g-4g/10分鐘的烯烴樹脂。聚氯乙烯樹脂用至少一種或多種已知的和本技術(shù)領(lǐng)域中通常使用的增塑劑進行增塑。這種增塑劑的例子是鄰苯二甲酸酯(如鄰苯二甲酸二辛酯和鄰苯二甲酸二-(2-乙基己)酯)，磷酸酯[如磷酸三(甲基酯)或磷酸三辛酯]、己二酸二正丁酯，馬來酸二正丁酯、環(huán)氧化豆油、環(huán)氧化聚丁二烯等。增塑劑的用量是每100(重量)份聚氯乙烯約為20-100(重量)份。優(yōu)選的聚氯乙烯的聚合度約為800-2500。這些樹脂中，低密度聚乙烯或乙烯-α烯烴共聚物的密度均為0.935g/cm3或更低，具體說，均為0.910-0.935g/cm3;乙烯-乙酸乙烯酯共聚物中的乙酸乙烯酯含量不超過約30%(重量)，具體說約為5-25%(重量);聚氯乙烯樹脂，從透明性、耐氣候性、柔軟性和成本方面來看，是優(yōu)選的。
按照本發(fā)明，使用的氧化硅是由水下研磨或粉碎而制成。它的平均粒度不大于4μm，具體說是1-4μm，基本上沒有粒度超過20μm的顆粒，且比表面積不大于20m2/g，具體說是5-20m2/g。最好是，它的平均粒度應(yīng)不大于3μm，具體說是1-3μm，基本上沒有粒度超過10μm的粒子，且比表面積不大于15m2/g，具體說是5-15m2/g。本發(fā)明中使用的氧化硅可由天然產(chǎn)品或合成產(chǎn)品獲得。然而，最重要的是它應(yīng)由水下研磨，例如裝在合適的研磨裝置(如球磨機，氧化硅和水一起球磨而引起氧化硅?；蝾w粒中磨擦，或在上述流程中使用球作為輔助手段)中而形成的。上述氧化硅的制備還可以是將干法如機械干研磨法粉碎的氧化硅經(jīng)受上述水下研磨而制得。關(guān)于制備具有上述規(guī)定粉末特征氧化硅的方法，沒有特別的限制。然而，這種粉末最好按以下方法制備。首先，將原料氧化硅顆粒粗粉碎，如果希望，可粉碎至合適的粒度，例如約30-100mm，并將粗粉碎過的氧化硅和水放置在合適的粉碎或研磨裝置如球磨機中，然后按通常方法操作，直至大部分顆粒具有上述規(guī)定的粉末特征。當(dāng)使用每批料為4噸容量的球磨機時，這種水中研磨所需要的時間范圍約為20-100小時。由此獲得的氧化硅顆粒漿按普通方法脫水和干燥，然后用普通的粉末分離器將干燥顆粒分級，從而得到具有上述規(guī)定粉末特征的理想氧化硅顆粒。上述方法將在下述參考實施例1中進一步更詳細地說明。
用干法制得的氧化硅顆粒，當(dāng)混入用于生產(chǎn)薄膜的合成樹脂中時，顯示出很差的分散性，特別是當(dāng)拉伸時導(dǎo)致明顯的膜的白化現(xiàn)象。
重要的是，本發(fā)明使用的氧化硅不僅用水下研磨制得，而且還應(yīng)具有不大于4μm的粒度，基本上沒有粒度超過20μm的顆粒，且比表面積不大于20m2/g。超出這些范圍或限制透明性往往會變差，特別是作為本發(fā)明重要特性的有關(guān)拉伸時薄膜白化現(xiàn)象的改進會失去。
添加到合成樹脂中的氧化硅量，可根據(jù)待生產(chǎn)薄膜期望的紅外線吸收水平而變化。然而，一般優(yōu)選的添加量，以合成樹脂為基準(zhǔn)，約為2-25%(重量)，更好約為5-15%(重量)。如果所述量低于2%(重量)，則在所得膜中很難看到紅外線吸收性的改進效果，反之，添加量超過25%(重量)也是不希望的，因為會引起薄膜強度降低。
本發(fā)明的實踐中，用普通方法，例如在轉(zhuǎn)筒式或密閉式混合器擠壓機中進行混合或混練，使氧化硅和合成樹脂摻混，然后用基體合成樹脂技術(shù)領(lǐng)域已知的合適模塑方法，例如吹脹，壓延或T-模擠塑方法，將混合物模塑成薄膜。一般說來，薄膜制造適合于在130℃～200℃的加工溫度下進行。
混合氧化硅和合成樹脂，可采用所謂母料配入(masterbatching)技術(shù)，它包括用上述相同方法預(yù)先混合或混練氧化硅和同于基體樹脂的合成樹脂來制取氧化硅含量高的母料，然后，在制膜階段，用基體合成樹脂摻混母料以便調(diào)節(jié)氧化硅含量至一預(yù)定的添加水平，隨后進行膜的模塑。
本發(fā)明之含有氧化硅的合成樹脂可用作各種用途;另一方面，當(dāng)透明的合成樹脂層層壓在由這種含氧化硅合成樹脂構(gòu)成的膜的至少一個表面上時，生成的膜可具有更優(yōu)良的透明性。
層壓所用的透明合成樹脂層由前述烯烴樹脂構(gòu)成。形成合成樹脂層的樹脂最好是盡可能地屬于構(gòu)成含氧化硅合成樹脂膜的同類樹脂。對于要求較高透明度的用途，最好使用一種在含氧化硅合成樹脂兩個表面上層壓透明合成樹脂層而制得的三層膜?？捎帽绢I(lǐng)域中已知的任何技術(shù)，例如層壓膜生產(chǎn)中的干層壓、熱層壓、擠出層壓或多層共擠壓等，進行層壓。其中，從模塑簡便，產(chǎn)品膜中的層間粘結(jié)，透明性和成本觀點來看，擠出層壓法和多層共擠壓法尤其好，多層共擠壓吹脹方法也是希望的，因為農(nóng)業(yè)用途中最好是寬幅膜。
這種含氧化硅合成樹脂膜的厚度以及層壓在上述膜至少一個表面上的透明層壓樹脂層(以下稱為層壓膜)的厚度，根據(jù)預(yù)定的最終使用和希望的改進(透明性、紅外線吸收性)決定。關(guān)于含氧化硅合成樹脂膜，其厚度約20-300μm，最好是20-200μm一般就足夠了，盡管該厚度可以根據(jù)基體合成樹脂和氧化硅添加水平而變化。對于層壓膜，厚度約5-100μm，特別是10-50μm一般就足夠了。
用上述方法獲得的薄膜可含如脫水山梨糖醇脂肪酸酯(例如，脫水山梨糖醇-硬脂酸脂)或甘油脂肪酸酯(例如甘油-硬脂酸酯)，之類的分散劑，含量是每100(重量)份含氧化硅膜為0.2-2(重量)份，用于進一步有效地改善氧化硅的分散性。薄膜還可根據(jù)需要含有適量的穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑和/或抗靜電劑，此外，還可含水滴抑制劑等。
按本發(fā)明制得的膜，其透明性和紅外線吸收性能優(yōu)良，特別是可避免含無機化合物薄膜的特征即拉伸時出現(xiàn)白化的現(xiàn)象。因此，它們是非常有用的，例如作為食品包裝材料以及農(nóng)業(yè)和特殊園藝室所用的覆蓋材料等。
實施例以下參考實施例(氧化硅粉制備實施例)和實施例進一步說明本發(fā)明。然而，應(yīng)該注意，它們僅僅起進一步說明的目的，并不意味著限制本發(fā)明的范圍。


圖1是某些實施例和對比例中獲得的各種膜在拉伸時白化現(xiàn)象的圖示。圖中示出相對于拉伸前薄膜霧度值的霧度值百分增量(△霧度)(縱座標(biāo))與膜拉伸(橫座標(biāo))之間的關(guān)系曲線。
用以下測量方法獲得實施例和對比例中示出的透明性，拉伸-白化現(xiàn)象和紅外線吸收性數(shù)據(jù)。
透明性(1)總光線透明度和霧度用日本Seimitsu Kogaku株式會社生產(chǎn)的薄膜霧度測量儀根據(jù)JIS.K-6714進行測量。
(2)目視透明性(NAS)用Toyo Seiki株式會社生產(chǎn)的目視透明性試驗儀通過小角散射確定透視度。
拉伸時的白化用薄膜霧度測量儀(由日本Seimitsu Kogaku生產(chǎn))測定在200mm/分鐘牽引率下拉伸至預(yù)定伸長的試樣膜(寬40mm，長70mm)的霧度。開始發(fā)生白化現(xiàn)象(由“拉伸后的霧度值一初始霧度值＝10%”表示)時的拉伸百分率用作拉伸時白化的指數(shù)。
紅外線吸收性使用以下定義的吸收輻射能和下述的測量方法測定各試驗?zāi)さ募t外線吸收性。
假定絕對溫度300°k時試樣的光吸收率為Aλ-T，可算出被試樣吸收的輻射能Eλ·T如下，其中波長范圍為2.5-30.3μm，
式中Jλ-T是根據(jù)Planck定律的黑體輻射的強度分布，即
式中，C1＝3.7402x10-12(W/cm2)C2＝1.43848(cm·deg.)(立體角)
λ＝波長(cm)T＝溫度，300°K樣品的吸收率A可由絕對溫度300°K時紅外線分光光度測定法所獲得的紅外吸收譜數(shù)據(jù)，按下式算計出Aλ·T＝1-Jλ/JOλ式中，JOλ是入射光強度，Jλ是透射光強度。
吸收的輻射能由2.5-30.3μm波長間距0.02μm子區(qū)間的積分而計算出。
每個膜的紅外吸收光譜用紅外線分光光度測定儀(日本Bunko生產(chǎn))由普通方法測得。
為了上述透明性和紅外線吸收能力測量，制備厚度為高精度的膜并進行測量。
參考實施例1氧化硅粉末的生產(chǎn)將天然硅石(約100mmΦ)用水清洗并在錘式粉碎機中進行粗粉碎。將經(jīng)過粗粉碎的硅石和水一起裝入球磨機中研磨70小時使硅石之間產(chǎn)生摩擦力。由此形成的硅石漿被等分成三部分，然后分別送到三個沉淀罐中并經(jīng)受沉降分級。經(jīng)過100，50和20小時沉降處理后取出硅石漿，然后脫水在250℃溫度下用熱空氣使之干燥，并用普通的粉末分離器(商標(biāo)名“Power Micron Separator”，由Hosokawa Micron生產(chǎn))進行分級得到理想的粒度。經(jīng)過100，50和20小時沉降后獲得的氧化硅粉末以下分別稱為氧化硅A、B和C。
另外，與上述所用相同的硅石用水清洗并在錘式粉碎機進行粗粉碎。將粗粉碎的硅石裝入錘式粉碎機類型的研磨機中，并在進一步干機械研磨后，將所得之粉末在250℃溫度下用熱空氣干燥，然后用上述粉末分離器使之分級成理想的粒度，從而得到氧化硅D。
測定由此獲得的氧化硅物料的粉末特征，并示于下表1。粒度由庫爾特顆粒計數(shù)器測定，比表面積用BET法測定。
表1氧化硅 A B C D研磨方法 水 下 研 磨 干機械研磨SiO2含量(%) 99 99 99 99平均粒度(μm) 1.3 3.8 4.3 2.6＞10μm顆粒 0 1.6 4.5 0.5的含量(%)＞20μm顆粒 0 0 1.1 0的含量(%)比表面積(m2/g) 11 10 9 10實施例1其中乙酸乙烯酯含量為15%(重量)的乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(Evatate H 2021，由Sumitomo Chemical Co.生產(chǎn)，MFR＝2g/10分鐘)和8%(重量)氧化硅A以及0.8%(重量)甘油-硬脂酸酯(分散劑)，在130-150℃的樹脂溫度下于5升密閉式混練器中進行混練10分鐘。用擠出機將所得之混合物造粒成球丸。以下將這種組合物稱為含氧化硅樹脂組合物。
將上述含氧化硅樹脂組合物，在熔融區(qū)溫為180℃且模溫為190℃時和夾層形成的出料速度為9kg/小時時，通過擠出機(內(nèi)腔40mm)送到設(shè)有二部件三層吹模(內(nèi)腔150mm)的多層吹塑裝置中。為了形成外層和內(nèi)層，將乙酸乙烯酯含量為5%(重量)的乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(Evatate D2021，由Sumitomo Chemical Co.生產(chǎn)，MFR＝2g/分鐘)，在熔融區(qū)溫為180℃且模溫為190℃時和出料速度為4.2kg/小時時，被供入所述模的外層和內(nèi)層中。供入三層模中的三種樹脂膜在所述模中結(jié)合，將所得之具有三層疊層結(jié)構(gòu)的管狀體引出，吹脹率為2.4，霜白線間距為200mm和引出速度為4.9m/分鐘，從而獲得由0.013mm厚內(nèi)層，0.05mm厚夾層和0.013mm厚外層構(gòu)成的三層疊層結(jié)構(gòu)的膜。經(jīng)展平的管的寬度為365mm。由此獲得的膜的典型特性，即透明性(總的光線透射，霧度和NAS)，拉伸時的白化，紅外線吸收性以及由于氧化硅聚集而形成的硬斑，均列于表3。
實施例2將低密度聚乙烯(Sumikathene F 401，由Sumitomo Chemical Co.生產(chǎn)，密度＝0.925g/cm3，MFR＝3.8g/10分鐘)和40%(重量)氧化硅A以及1.5%(重量)甘油-硬脂酸酯(分散劑)，在150-170℃的樹脂溫度下于5升密閉式混合器中混煉10分鐘。用擠出機將所得混合物造粒。以下稱這種混合物為母料A。
用同于實施例1的方法生產(chǎn)76μm厚的三層膜，不同之處是由80%(重量)低密度聚乙烯(Sumikathene F 208-1，由Sumitomo Chemical Co.生產(chǎn)，密度＝0.924g/cm3，MFR＝1.5g/分鐘)和20%(重量)上述母料A構(gòu)成的混合球粒，在實施例1中用于夾層形成和外層及內(nèi)層形成的相同條件下，通過擠出機(內(nèi)腔40mm)送到多層吹塑裝置的二部件三層吹塑模(內(nèi)腔150mm)中，將L-LDPE(Sumikathene L FA201，由Sumitomo Chemical Co.生產(chǎn)，密度＝0.920g/cm3，MFR＝2.1g/分鐘)在熔融區(qū)溫為190℃且模溫為190℃時和出料速度為4.2kg/小時時供入上述模中。所得薄膜的典型特性列于表3。
實施例3用同于實施例1的方法制備用于形成夾層的含氧化硅樹脂組合物，不同之處是實施例1中用作夾層的樹脂組合物中氧化硅含量上升至12%(重量)。然后用實施例1相同方法，經(jīng)過三層膜模塑制得76μm厚薄膜。薄膜的典型特性列于表3。
實施例4用相同方法重復(fù)實施例1過程以生產(chǎn)76μm厚的三層膜，不同之處是使用氧化硅B來代替氧化硅A。薄膜的典型特性列于表3。
實施例5在Henschel混合機中，將由100(重量)份聚氯乙烯(Sumilite SX-11，由Sumitomo chemical Co.生產(chǎn))，37(重量)份鄰苯二甲酸二辛酯，3(重量)份磷酸(三甲苯酯)，3(重量)份含鋇和含鋅復(fù)合穩(wěn)定劑和0.5(重量)份亞磷酸酯螯合劑構(gòu)成的增塑透明聚氯乙烯組合物和5%(重量)氧化硅B混合，將該混合物熔融并在5升密閉式混練機中混練，并在四個8英寸滾子倒轉(zhuǎn)L壓延機上模塑成75μm厚度的薄膜。薄膜的典型特性列于表3。
對比例1-4用相同方法重復(fù)實施例1過程，不同之處是各自使用下表2中所規(guī)定的氧化硅類來代替實施例1所用的氧化硅A。由此獲得76μm厚度的薄膜的特性列于表4。
表2對比例1 對比例2對比例3對比例4氧化硅C氧化硅D NipsilVN－3 Durosil氧化硅 (天然產(chǎn)品)(天然產(chǎn)品) (合成產(chǎn)品) (合成產(chǎn)品)2)研磨方法水下機械機械 機械SiO299 99 94 98
(%)平均粒度 4.32.6 0.020.04(μm)>10μm4.50.5 0 0顆粒的含量(％)>20μm1.1 0 0 0顆粒的含量(％)比表面積 910 240 62(m2/g)注1)由日本Silica Industrial Co.生產(chǎn)的氧化硅，2)由Degussa(德國)生產(chǎn)的氧化硅。
對比例5用相同方法重復(fù)實施例1過程以生產(chǎn)76μm厚度的薄膜，不同之處是沒有添加氧化硅。薄膜的典型特性列于表4。
對比例6用相同方法重復(fù)實施例5過程以生產(chǎn)75μm厚度的薄膜，不同之處是使用氧化硅D來代替氧化硅B。薄膜的典型特性列于表4。
由上述實施例和對比例可清楚地看出，本發(fā)明薄膜，即含有由水下研磨制得且具有特殊粉末特性之氧化硅的合成樹脂薄膜，具有良好的透明性，特別是大大降低拉伸時的白化傾向，并且還具有很高的紅外線吸收能力。因此，它們特別適合于用作包裝膜和農(nóng)業(yè)用途上的薄膜。
另一方面，含有由干法制得的氧化硅粉末或不符合特定粉末特性要求的氧化硅粉末的合成樹脂膜，無論是天然的或合成的，確實由于氧化硅的混入而具有紅外線吸收能力，但卻沒有足夠的透明性。而且它們還有可能形成硬斑。因此它們不適合于用作包裝材料或農(nóng)業(yè)用途的薄膜。早在很小伸長時就已經(jīng)在它們之中發(fā)生拉伸時的白化現(xiàn)象，以致它們很少實用。
權(quán)利要求
1.一種透明性優(yōu)良的紅外線吸收膜，它包括合成樹脂和氧化硅，其中氧化硅的用量，以合成樹脂重量為基準(zhǔn)，約為2-25%，其中氧化硅是由水下研磨制得，平均粒度不大于4μm，基本上沒有粒度超過20μm的顆粒，并且具有不大于20m2/g的比表面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中氧化硅由水下研磨制得，平均粒度不大于3μm，基本上沒有粒度超過10μm的顆粒，并且具有不大于15m2/g的比表面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，它的厚度約為20-300μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是烯烴樹脂。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中合成樹脂的熔體流動速率約為0.1-4g/10分鐘。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是各自密度為0.935g/cm3或更低的低密度聚乙烯或乙烯-α烯烴共聚物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是乙烯-乙酸乙烯酯共聚物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是聚氯乙烯樹脂。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的紅外線吸收膜，它還包括在含有合成樹脂和氧化硅的膜的至少一個表面上形成的透明樹脂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中透明樹脂層是由合成樹脂構(gòu)成，該合成樹脂是與構(gòu)成含氧化硅膜的合成樹脂屬于同一類型。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是烯烴樹脂。
12.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是熔體流動速率為0.1g-4g/10分鐘的烯烴樹脂。
13.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是各自密度為0.935g/cm3或更低的低密度聚乙烯或乙烯-α烯烴共聚物。
14.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是乙烯-乙酸乙烯酯共聚物
15.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中合成樹脂是聚氯乙烯樹脂。
16.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，它包括在含有合成樹脂和氧化硅的膜的兩個表面上形成的透明樹脂層。
17.根據(jù)權(quán)利要求9的紅外線吸收膜，其中透明樹脂層的厚度約為5-100μm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種包括合成樹脂和氧化硅的紅外線吸收膜，其中氧化硅的用量，以合成樹脂重量為基準(zhǔn)，約為2—25％，其中氧化硅是由水下研磨制得，平均粒度不大于4μm，基本上沒有粒度超過20μm的顆粒，并且具有不大于20m
文檔編號B32B27/20GK1060660SQ91109590
公開日1992年4月29日 申請日期1991年10月3日 優(yōu)先權(quán)日1990年10月3日
發(fā)明者兒谷晃造, 子川英雄 申請人:住友化學(xué)工業(yè)株式會社