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      光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的制作方法

      文檔序號:9034997閱讀:416來源:國知局
      光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及瓦楞紙板機(jī)械,特別是一種光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]參見圖6所示,為現(xiàn)有光壓輥下置式瓦楞機(jī)的下瓦楞輥與芯紙受力關(guān)系圖,所述下瓦楞輥包括輥體,輥體表面環(huán)形設(shè)有若干過流槽,相鄰兩條過流槽之間距離大于過流槽的寬度。結(jié)合圖7所示,由于現(xiàn)有光壓輥下置式瓦楞機(jī)均采用負(fù)壓密封罩使芯紙與下瓦楞輥貼合定型,瓦楞機(jī)工作過程中,芯紙貼于下瓦楞輥外,下瓦楞輥的過流槽具有負(fù)壓氣流,所以,導(dǎo)致芯紙往過流槽方向變形,影響加工出來瓦楞紙板的質(zhì)量。
      [0003]另外,由于負(fù)壓密封罩安裝于瓦楞紙出紙口的一側(cè),為了避開瓦楞紙出紙口,負(fù)壓密封罩需要安裝在較高位置。綜上所述不足之處,現(xiàn)有光壓輥下置式瓦楞機(jī)有待進(jìn)一步完口 o
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單、合理,對芯紙采用正壓定型、提高制作出來瓦楞紙板質(zhì)量的光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),以克服現(xiàn)有技術(shù)的不足。
      [0005]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
      [0006]一種光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),包括從上至下設(shè)置在機(jī)架上的上瓦楞輥、下瓦楞輥和光壓輥,上瓦楞輥與下瓦楞輥之間形成有芯紙進(jìn)紙口,下瓦楞輥和光壓輥之間形成面紙進(jìn)紙口,其特征在于:所述下瓦楞輥的一側(cè)設(shè)有上漿總成和正壓密封罩,正壓密封罩內(nèi)部形成有正壓腔,正壓密封罩表面設(shè)有進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口,進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口分別與正壓腔連通,出風(fēng)口至少包圍在上瓦楞輥對應(yīng)芯紙進(jìn)紙口和面紙進(jìn)紙口之間的位置。
      [0007]本實(shí)用新型的目的還可以采用以下技術(shù)措施解決:
      [0008]作為更具體的一種方案,所述下瓦楞輥包括輥體,輥體表面環(huán)形設(shè)有若干過流槽,相鄰兩條過流槽之間距離大于過流槽的寬度。
      [0009]所述上漿總成通過驅(qū)動氣缸與機(jī)架連接,通過驅(qū)動氣缸可控制上漿總成移動。
      [0010]所述正壓密封罩承接在軌道上,正壓密封罩底部至少前后兩副支承滾輪,軌道對應(yīng)支承滾輪設(shè)有定位槽。
      [0011]所述定位槽的深度H1大于支承滾輪與正壓密封罩底面之間距離H2,所以,當(dāng)支承滾輪落入定位槽后,正壓密封罩靠其底面承放在軌道上,正壓密封罩與軌道靜摩擦配合,以提高其穩(wěn)定性,減少震動,降低噪音。
      [0012]所述定位槽至少后端設(shè)有斜坡,便于支承滾輪后退時離開定位槽。
      [0013]所述正壓密封罩底部設(shè)有前支承滾輪和后支承滾輪,軌道分別對應(yīng)前支承滾輪和后支承滾輪設(shè)有前定位槽和后定位槽,前支承滾輪和后支承滾輪左右錯開,前定位槽和后定位槽左右錯開。前、后支承滾輪和前、后定位槽左右錯開,以免前支承滾輪后退時落入后定位槽內(nèi)。
      [0014]所述機(jī)架或軌道與正壓密封罩之間設(shè)有用于推動正壓密封罩、并使支承滾輪離開定位槽的推頂裝置。
      [0015]所述推頂裝置為絲杠推頂裝置,但不限于絲杠推頂裝置,其還可以氣缸推動等。由于正壓密封罩并不是經(jīng)常需要移動的,絲杠推頂裝置可以結(jié)合手動操控,符合其使用習(xí)慣,當(dāng)需要將正壓密封罩退后時,通過絲杠推頂裝置推頂正壓密封罩,當(dāng)正壓密封罩底面離開軌道頂面時,絲杠推頂裝置無需再作用,正壓密封罩靠支承滾輪與軌道滾動摩擦配合可輕松通過手推(或借助其它機(jī)動設(shè)備)實(shí)現(xiàn)正壓密封罩后退。
      [0016]所述軌道設(shè)有前后限位,以防止正壓密封罩運(yùn)動過程中與輥組碰撞或者脫離軌道。
      [0017]本實(shí)用新型的有益效果如下:
      [0018](I)此款光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的芯紙通過正氣壓受力貼緊在下瓦楞輥表面,芯紙表面受力均勻,即使下瓦楞輥表面具有較多細(xì)小的過流槽,芯紙也不會向過流槽內(nèi)凹陷,從而提高制作出來的瓦楞紙板質(zhì)量(所生產(chǎn)的瓦楞紙板平整、抗壓強(qiáng)度高);
      [0019](2)此款光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的正壓密封罩的安裝位置與瓦楞紙板的輸出位置相反,且安裝位置更低,以便于正壓密封罩的安裝;
      [0020](3)此款光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的正壓密封罩通過支承滾輪與軌道配合運(yùn)行,可以輕松打開正壓密封罩(使正壓密封罩后退離開下瓦楞輥)或關(guān)閉正壓密封罩(使正壓密封罩前進(jìn)靠近下瓦楞輥);
      [0021](4)此款光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的軌道設(shè)有定位槽與支承滾輪定位配合,其成本低,定位準(zhǔn)確。
      【附圖說明】
      [0022]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0023]圖2為本實(shí)用新型工作過程中芯紙受力結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0024]圖3為圖1中D處放大結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0025]圖4為正壓密封罩打開狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0026]圖5為圖4局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0027]圖6為現(xiàn)有光壓輥下置式瓦楞機(jī)工作時芯紙受力結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0028]圖7為現(xiàn)有光壓輥下置式瓦楞機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0029]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
      [0030]基本實(shí)施例,參見圖1和圖2所示,一種光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),包括從上至下設(shè)置在機(jī)架2上的上瓦楞輥1、下瓦楞輥3和光壓輥4,上瓦楞輥I與下瓦楞輥3之間形成有芯紙進(jìn)紙口 Jl,下瓦楞輥3和光壓輥4之間形成面紙進(jìn)紙口 J2,所述下瓦楞輥3的一側(cè)設(shè)有上楽總成6和正壓密封罩5,正壓密封罩5內(nèi)部形成有正壓腔E,正壓密封罩5表面設(shè)有進(jìn)風(fēng)口 51和出風(fēng)口 52,進(jìn)風(fēng)口 51和出風(fēng)口 52分別與正壓腔E連通,出風(fēng)口 52至少包圍在上瓦楞輥I對應(yīng)芯紙進(jìn)紙口 Jl和面紙進(jìn)紙口 J2之間的位置。
      [0031]其工作原理是:芯紙A經(jīng)上瓦楞輥1、芯紙進(jìn)紙口 Jl繞設(shè)在下瓦楞輥3朝向上漿總成6的一側(cè),正壓密封罩5給芯紙A提供正壓,使得芯紙A在成型時表面所受的壓力均勻,貼近下瓦楞輥3的瓦楞面(參見圖2所示,即使下瓦楞輥3的輥體表面環(huán)形設(shè)有若干過流槽31,但由于相鄰兩條過流槽31之間距離S1大于過流槽31的寬度S2,所以,芯紙A不會向過流槽31方向凹進(jìn))。同時,在正壓密封罩5的正壓腔E內(nèi)通過上漿總成6給形成瓦楞狀的芯紙A涂上漿料,然后,涂有漿料的芯紙A與從光壓輥4進(jìn)入的面紙C在面紙進(jìn)紙口 J2貼合在一起,形成瓦楞紙板B輸出。
      [0032]更佳的實(shí)施例,所述上漿總成6通過驅(qū)動氣缸7與機(jī)架2連接。
      [0033]結(jié)合圖3至圖5所示,所述正壓密封罩5承接在軌道8上,正壓密封罩5底部底部設(shè)有前支承滾輪52和后支承滾輪53,軌道8分別對應(yīng)前支承滾輪52和后支承滾輪53設(shè)有前定位槽81和后定位槽82,前支承滾輪52和后支承滾輪53左右錯開,前定位槽81和后定位槽82左右錯開。
      [0034]所述前定位槽81和后定位槽82的深度H1大于前支承滾輪52和后支承滾輪53與正壓密封罩5底面之間距離H2。
      [0035]所述定位槽至少后端設(shè)有斜坡83。
      [0036]所述機(jī)架2或軌道8與正壓密封罩5之間設(shè)有用于推動正壓密封罩5、并使支承滾輪離開定位槽的推頂裝置(圖中未示出)。所述推頂裝置為絲杠推頂裝置。
      [0037]所述軌道8設(shè)有前后限位(圖中未示出)。
      [0038]其工作原理是:工作時,將正壓密封罩5推進(jìn)主機(jī),靠近下瓦楞輥3,前支承滾輪52和后支承滾輪53分別掉入軌道8的前定位槽81和后定位槽82,使正壓密封罩5底面與軌道8頂面接觸,故而工作時穩(wěn)定可靠。檢修時,通過絲杠推頂裝置使正壓密封罩5向后移動,前支承滾輪52和后支承滾輪53沿定位槽的斜坡83上升,正壓密封罩5底面與軌道8頂面離開,從靜摩擦轉(zhuǎn)變?yōu)闈L動摩擦,直至前支承滾輪52和后支承滾輪53滾動至軌道8頂面,即可不依賴絲杠推頂裝置而采用人手(或者其它驅(qū)動機(jī)構(gòu)輔助)推動正壓密封罩5后退。由于前支承滾輪52和后支承滾輪53左右錯開,前定位槽81和后定位槽82左右錯開,所以,避免前支承滾輪后退時落入后定位槽內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),包括從上至下設(shè)置在機(jī)架上的上瓦楞輥、下瓦楞輥和光壓輥,上瓦楞輥與下瓦楞輥之間形成有芯紙進(jìn)紙口,下瓦楞輥和光壓輥之間形成面紙進(jìn)紙口,其特征在于:所述下瓦楞輥的一側(cè)設(shè)有上漿總成和正壓密封罩,正壓密封罩內(nèi)部形成有正壓腔,正壓密封罩表面設(shè)有進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口,進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口分別與正壓腔連通,出風(fēng)口至少包圍在上瓦楞輥對應(yīng)芯紙進(jìn)紙口和面紙進(jìn)紙口之間的位置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述下瓦楞輥包括輥體,輥體表面環(huán)形設(shè)有若干過流槽,相鄰兩條過流槽之間距離大于過流槽的寬度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述上漿總成通過驅(qū)動氣缸與機(jī)架連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述正壓密封罩承接在軌道上,正壓密封罩底部至少前后兩副支承滾輪,軌道對應(yīng)支承滾輪設(shè)有定位槽。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述定位槽的深度Hl大于支承滾輪與正壓密封罩底面之間距離H2。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述定位槽至少后端設(shè)有斜坡。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述正壓密封罩底部設(shè)有前支承滾輪和后支承滾輪,軌道分別對應(yīng)前支承滾輪和后支承滾輪設(shè)有前定位槽和后定位槽,前支承滾輪和后支承滾輪左右錯開,前定位槽和后定位槽左右錯開。8.根據(jù)權(quán)利要求4所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述機(jī)架或軌道與正壓密封罩之間設(shè)有用于推動正壓密封罩、并使支承滾輪離開定位槽的推頂裝置。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述推頂裝置為絲杠推頂裝置。10.根據(jù)權(quán)利要求4所述光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),其特征在于:所述軌道設(shè)有前后限位。
      【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī),包括從上至下設(shè)置在機(jī)架上的上瓦楞輥、下瓦楞輥和光壓輥,上瓦楞輥與下瓦楞輥之間形成有芯紙進(jìn)紙口,下瓦楞輥和光壓輥之間形成面紙進(jìn)紙口,所述下瓦楞輥的一側(cè)設(shè)有上漿總成和正壓密封罩,正壓密封罩內(nèi)部形成有正壓腔,正壓密封罩表面設(shè)有進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口,進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口分別與正壓腔連通,出風(fēng)口至少包圍在上瓦楞輥對應(yīng)芯紙進(jìn)紙口和面紙進(jìn)紙口之間的位置。此款光壓輥下置式正壓瓦楞機(jī)的芯紙通過正氣壓受力貼緊在下瓦楞輥表面,芯紙表面受力均勻,即使下瓦楞輥表面具有較多細(xì)小的過流槽,芯紙也不會向過流槽內(nèi)凹陷,從而提高制作出來的瓦楞紙板質(zhì)量。
      【IPC分類】B31F1/20
      【公開號】CN204687445
      【申請?zhí)枴緾N201520226279
      【發(fā)明人】羅偉彬, 韋義林, 呂鴻鈞
      【申請人】廣東萬聯(lián)包裝機(jī)械有限公司
      【公開日】2015年10月7日
      【申請日】2015年4月15日
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