壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及壓痕機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]壓痕機(jī)是汽車過濾紙生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備，而壓痕輥組件則是壓痕機(jī)的核心部件。過濾紙的上膠量和上膠均勻度是由涂膠機(jī)來控制的，經(jīng)過干燥后的過濾紙進(jìn)入壓痕機(jī)，在上、下壓痕輥的擠壓作用下，將過濾紙擠壓成具有齒形狀的成品過濾紙，再進(jìn)行收卷以備后用，上下壓痕輥之間的間隙及上下壓痕輥齒形的準(zhǔn)確嚙合影響過濾紙的壓痕質(zhì)量，本實用新型因此而來。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型目的是提供一種壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，可保證上壓輥組件和下壓輥組件之間間隙滿足生產(chǎn)的需要，控制壓痕深度，并調(diào)整上下壓痕輥齒形的準(zhǔn)確嚙合，從而保證壓痕紙的壓痕質(zhì)量。
[0004]基于上述問題，本實用新型提供的技術(shù)方案是:
[0005]壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，包括設(shè)置在上機(jī)架上的上壓輥組件和設(shè)置在下機(jī)架上的下壓輥組件，所述上壓輥組件和所述下壓輥組件相對設(shè)置，所述上機(jī)架一端鉸接在所述下機(jī)架上，所述上機(jī)架的另一端連接至所述下機(jī)架內(nèi)氣缸的活塞桿，所述上壓輥組件和所述下壓輥組件之間設(shè)有位移傳感器，所述上機(jī)架和所述下機(jī)架之間還設(shè)有間隙微調(diào)裝置，所述位移傳感器與控制裝置信號連接，所述間隙微調(diào)裝置與所述控制裝置電連接。
[0006]進(jìn)一步的，所述上壓輥組件左右端部固定設(shè)置在所述上機(jī)架上，所述下壓輥組件的一端與所述下機(jī)架螺紋連接，所述下壓輥組件的另一端滑動設(shè)置在所述下機(jī)架上。
[0007]進(jìn)一步的，所述位移傳感器設(shè)置在所述上壓輥組件和所述下壓輥組件的直徑方向上。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點是:
[0009]1、采用本實用新型的技術(shù)方案，可精確調(diào)整上壓輥組件和下壓輥組件之間的間隙，從而控制壓痕深度，保證過濾紙的壓痕質(zhì)量；
[0010]2、采用本實用新型進(jìn)一步的技術(shù)方案，通過調(diào)整下壓輥組件在下機(jī)架上位置，使下壓輥組件和上壓輥組件的齒形準(zhǔn)確嚙合，從而保證過濾紙壓痕的對稱性，提高過濾紙的壓痕質(zhì)量。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本實用新型壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2為圖1的A-A剖視圖；
[0014]其中:
[0015]1、下機(jī)架；
[0016]2、上機(jī)架；
[0017]3、位移傳感器；
[0018]4、間隙微調(diào)裝置；
[0019]5、氣缸；
[0020]6、過濾紙；
[0021]7、上壓輥組件；
[0022]8、下壓輥組件。
【具體實施方式】
[0023]以下結(jié)合具體實施例對上述方案做進(jìn)一步說明。應(yīng)理解，這些實施例是用于說明本實用新型而不限于限制本實用新型的范圍。實施例中采用的實施條件可以根據(jù)具體廠家的條件做進(jìn)一步調(diào)整，未注明的實施條件通常為常規(guī)實驗中的條件。
[0024]參見圖1，為本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，提供一種壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，包括設(shè)置在上機(jī)架I上的上壓輥組件7和設(shè)置在下機(jī)架2上的下壓輥組件8，上壓輥組件7和下壓輥組件8相對設(shè)置，壓痕機(jī)工作時將過濾紙6置于上壓輥組件7和下壓輥組件8之間進(jìn)行壓印，上機(jī)架2 —端鉸接在下機(jī)架I上，上機(jī)架2的另一端連接至下機(jī)架I內(nèi)氣缸5的活塞桿，通過氣缸5工作拉動上機(jī)架2轉(zhuǎn)動使上壓輥組件7轉(zhuǎn)動至工作位置，為了實現(xiàn)上壓輥組件7和下壓輥組件8之間間隙的精確調(diào)節(jié)，在上壓輥組件7和下壓輥組件8之間設(shè)有位移傳感器3，優(yōu)選的，位移傳感器3設(shè)置在上壓輥組件7和下壓輥組件8的直徑方向上，同時在上機(jī)架2和下機(jī)架I之間設(shè)有間隙微調(diào)裝置4，間隙微調(diào)裝置4固定在上機(jī)架2上且其頂桿抵靠在下機(jī)架I上，還設(shè)有控制裝置，位移傳感器3與控制裝置信號連接，間隙微調(diào)裝置4與控制裝置電連接。
[0025]在實際生產(chǎn)過程中，根據(jù)所需生產(chǎn)過濾紙的壓痕深度來設(shè)定上壓輥組件7和下壓輥組件8之間的間隙距離，位移傳感器3將采集的上壓輥組件7和下壓輥組件8之間間隙的數(shù)據(jù)傳送至控制裝置，當(dāng)檢測值與設(shè)定值不一致時，控制裝置控制間隙微調(diào)裝置4的頂桿動作從而對上壓輥組件7和下壓輥組件8的間隙進(jìn)行微調(diào)整。
[0026]為了進(jìn)一步優(yōu)化本實用新型的實施效果，使上壓輥組件7和下壓輥組件8的齒形準(zhǔn)確嚙合，保證過濾紙的壓痕質(zhì)量，本例中將上壓輥組件7固定設(shè)置在上機(jī)架2上，而下壓輥組件8則可調(diào)節(jié)設(shè)置在下機(jī)架I上，具體的，上壓輥組件7左右端部固定設(shè)置在上機(jī)架2上，下壓輥組件8的一端與下機(jī)架I螺紋連接，下壓輥組件8的另一端滑動設(shè)置在下機(jī)架I上，通過轉(zhuǎn)動下壓輥組件8可實現(xiàn)下壓輥組件8的左右調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)上壓輥組件7和下壓輥組件8齒形的嚙合。
[0027]上述實例只為說明本實用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人是能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所做的等效變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，其特征在于:包括設(shè)置在上機(jī)架(2)上的上壓輥組件(7)和設(shè)置在下機(jī)架(I)上的下壓輥組件(8)，所述上壓輥組件(7)和所述下壓輥組件(8)相對設(shè)置，所述上機(jī)架(2) —端鉸接在所述下機(jī)架(I)上，所述上機(jī)架(2)的另一端連接至所述下機(jī)架(I)內(nèi)氣缸(5)的活塞桿，所述上壓輥組件(7)和所述下壓輥組件(8)之間設(shè)有位移傳感器(3)，所述上機(jī)架(2)和所述下機(jī)架(I)之間還設(shè)有間隙微調(diào)裝置(4)，所述位移傳感器(3)與控制裝置信號連接，所述間隙微調(diào)裝置(4)與所述控制裝置電連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，其特征在于:所述上壓輥組件(7)左右端部固定設(shè)置在所述上機(jī)架(2)上，所述下壓輥組件(8)的一端與所述下機(jī)架(I)螺紋連接，所述下壓輥組件(8)的另一端滑動設(shè)置在所述下機(jī)架(I)上。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，其特征在于:所述位移傳感器(3)設(shè)置在所述上壓輥組件(7)和所述下壓輥組件(8)的直徑方向上。
【專利摘要】本實用新型公開了壓痕機(jī)壓痕輥調(diào)整裝置，包括設(shè)置在上機(jī)架(2)上的上壓輥組件(7)和設(shè)置在下機(jī)架(1)上的下壓輥組件(8)，所述上壓輥組件(7)和所述下壓輥組件(8)相對設(shè)置，所述上機(jī)架(2)一端鉸接在所述下機(jī)架(1)上，所述上機(jī)架(2)的另一端連接至所述下機(jī)架(1)內(nèi)氣缸(5)的活塞桿，所述上壓輥組件(7)和所述下壓輥組件(8)之間設(shè)有位移傳感器(3)，所述上機(jī)架(2)和所述下機(jī)架(1)之間還設(shè)有間隙微調(diào)裝置(4)，所述位移傳感器(3)與控制裝置信號連接，所述間隙微調(diào)裝置(4)與所述控制裝置電連接。本實用新型提供的調(diào)整裝置，可實現(xiàn)上壓輥組件和下壓輥組件之間間隙的精確調(diào)節(jié)，保證過濾紙壓痕的質(zhì)量。
【IPC分類】B31F1/08
【公開號】CN204914723
【申請?zhí)枴緾N201520663555
【發(fā)明人】徐年梓, 富雯里, 吳新癸
【申請人】蘇州市益維高科技發(fā)展有限公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年8月28日