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      液滴沉積裝置的制作方法

      文檔序號(hào):2494682閱讀:287來源:國知局
      專利名稱:液滴沉積裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種噴墨式打印機(jī),更具體地說,涉及一種需要滴液的噴墨式打印機(jī)。
      背景技術(shù)
      現(xiàn)已不再簡(jiǎn)單地將噴墨式打印機(jī)視為辦公用打印機(jī)。現(xiàn)今,其多功能性還體現(xiàn)在其可用于數(shù)字印刷和其他工業(yè)市場(chǎng)。在打印頭中包含有超過500個(gè)的噴嘴十分常見,并且可以預(yù)測(cè)在不久的將來,包含有超過2000個(gè)噴嘴的“頁寬”打印頭也即將問世并且用于商業(yè)中。這些大型打印頭發(fā)展的趨勢(shì)將是靜止打印頭,并且每分鐘能夠打印超過120張具有相片級(jí)圖像的A4紙張。
      噴墨打印頭的噴嘴直徑通常小于50微米,并因此會(huì)受到墨水和紙張纖維中污物微粒的堵塞。采用各種諸如剝離、擦除和清洗之類的常規(guī)維護(hù)方法和技術(shù)可以去除這些堵塞物。采用掃描打印頭,通過眾所周知的圖像處理或打印常規(guī)程序可能會(huì)掩蓋噴嘴堵塞物,直到采用維護(hù)工序才進(jìn)行清除。
      頁寬數(shù)字打印每分鐘可以打印大約100張彩色頁面,因?yàn)闆]有掃描,通過噴射位于阻塞噴嘴位置處的不同噴嘴不可能掩蓋噴嘴的堵塞物,并因此在任何出現(xiàn)問題的時(shí)候,都需要采用常規(guī)維修解決。由于常規(guī)維修需要花費(fèi)幾分鐘時(shí)間才能完成,這將導(dǎo)致少打印幾百頁的損失,還不算在維修期間有幾百英尺長的紙張從打印頭下面通過所造成的損失。
      很顯然,打印頭盡可能長時(shí)間避免堵塞很重要,這可確保打印時(shí)間最長,紙張浪費(fèi)最小。
      有人提議在墨水進(jìn)入打印頭之前先過濾墨水,這仍是一個(gè)很明智的方法。然而,即使使用了過濾裝置,會(huì)堵塞噴嘴的大體積微粒,或者空氣還是可能進(jìn)入到噴射室中。
      當(dāng)然也可以通過減小過濾裝置的孔隙尺寸來阻擋越來越小的微粒。這也可以很好地理解為較小的孔隙尺寸又可能導(dǎo)致壓力增大的液滴不能通過過濾裝置。
      在WO00/38928的現(xiàn)有技術(shù)中,提供一種打印頭結(jié)構(gòu),其中墨水以大約十倍于最大噴射速率的容積流速不間斷地流過噴嘴。這種通向噴射噴嘴的打印頭的噴射端口與通道的縱軸形成有90°度角??梢园l(fā)現(xiàn)這種上游過濾裝置的流速可以減少污物微粒或空氣泡堵塞噴嘴的可能性。然而,特別是使用很“臟”的墨水或由于某種原因過濾裝置失靈時(shí),仍有污物進(jìn)入噴嘴的可能。
      本發(fā)明提供的一種液滴沉積裝置,其可以尋求增加維修工序的時(shí)間,并可以解決其他一些問題。

      發(fā)明內(nèi)容
      根據(jù)本發(fā)明所提供的一種液滴沉積裝置,其包括至少一個(gè)在其液體入口和液體出口之間延伸的噴射室、并包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口、以及具有接收用于從其噴嘴出口噴射出的噴射室液體的入口、作用于所述噴射室以用于給流過噴射室的噴射液體施加壓力的致動(dòng)器裝置、以及設(shè)置成鄰接所述噴射端口入口,用于阻止在所述液體入口和液體出口之間流動(dòng)的所述噴射液體中的顆粒進(jìn)入所述端口的裝置。
      在優(yōu)選
      具體實(shí)施例方式
      中,提供一種液滴沉積裝置,其包括至少一個(gè)各在其液體入口和液體出口之間延伸的噴射室,并包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口、并具有接收用于從其噴嘴出口噴射出的噴射室噴射液體的到入口的斜面邊緣。
      優(yōu)選地,可以選擇斜面的結(jié)構(gòu)和尺寸以及沿通道且通過端口的液體流速(其優(yōu)選為在8至30倍的最大液滴噴射量),這樣可以將污物微粒留在噴嘴中的可能性減少到令人滿意的程度。
      優(yōu)選地,通道為一個(gè)相互彼此平行延伸以形成排列的相似通道。
      優(yōu)選地,斜面具有相對(duì)于通道底部有10°至70°的入口角度,并且在可選結(jié)構(gòu)中,斜面入口的內(nèi)徑一直延伸到至少一個(gè)噴射室側(cè)面的上方。
      在本發(fā)明的第二具體實(shí)施方式

      中,設(shè)置有至少一個(gè)各在其液體入口和出口之間延伸的噴射室,并包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口,并具有接收用于從其噴嘴出口噴射出的噴射室液體的入口、以及設(shè)置在所述的噴射室和所述噴射入口之間,用于阻止在所述液體入口和液體出口之間流動(dòng)的噴射液體中的顆粒進(jìn)入所述端口的過濾裝置。
      優(yōu)選地,噴射板中的孔隙比蓋板的端口小2至10倍。
      優(yōu)選地,所述過濾裝置是多孔板,并形成所述至少一個(gè)噴射室的壁面。更優(yōu)選地是,過濾裝置形成多個(gè)所述至少一個(gè)噴射室的壁面。
      在本發(fā)明的另一方面,其提供一種液滴沉積裝置,其包括在其液體入口和液體出口之間延伸的伸長噴射室、提供用于液體沿噴射室長度方向以速度VT流動(dòng)的液體供給裝置、位于液體入口和液體出口之間,并與噴射室長度方向成直角方向上的噴射端口、所供液體中的顆粒在噴射端口方向上具有漂移速度VD,其中設(shè)置有一個(gè)與噴射室和噴射端口交叉處的液體入口相對(duì)的撓曲面,其可用于使流入噴射端口的噴射室中的顆粒產(chǎn)生偏斜。
      有益地是,撓曲面與噴射室長度方向的角度大于tan-1(VD/VT),并且優(yōu)選地大于tan-1(2(VD/VT)),并且撓曲面與噴射室長度方向的角度小于tan-1(VT/VD),并且優(yōu)選地小于tan-1(1/2(VT/VD))。
      有意義地是,撓曲面分別定義為在噴射端口和噴射室的正交曲面之間的斜面。


      參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明,本發(fā)明的上述和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將得到更加清晰地理解。其中圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的雙端打印頭;圖2是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的通流打印頭;圖3是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的通流打印頭;圖4是圖3中通流打印頭的分解透視圖;圖5是圖3和4中蓋板和噴嘴板的展開圖;圖6是描述根據(jù)本發(fā)明打印頭中噴射液體中包含的微粒的軌跡的示意圖。
      圖7是描述根據(jù)本發(fā)明的蓋板的展開圖;圖8是描述通流因數(shù)和進(jìn)入圖6和7中的蓋板的20μm(微米)微粒的百分?jǐn)?shù)之間關(guān)系的示意圖;
      圖9是描述在通道一個(gè)邊界下面延伸的斜面;圖10是根據(jù)本發(fā)明第二具體實(shí)施方式

      的打印頭的示意圖;以及圖11是根據(jù)本發(fā)明第三具體實(shí)施方式

      的打印頭的示意圖。
      具體實(shí)施方式

      在根據(jù)如圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)的打印頭中,眾所周知其具有雙端通道,墨水從兩個(gè)管道2和4中供給,并且從形成在位于通道6中心的噴嘴板10上的噴嘴8中噴射出。通道采用含有金剛石的圓鋸在壓電陶瓷塊和特殊的PZT(壓電換能器)中鋸成。PZT(壓電換能器)在與延長方向成直角的方向上極化,并且與限制通道的壁面的表面平行。獨(dú)立的電極5通過恰當(dāng)?shù)姆椒ㄐ纬捎诒诿娴娜魏我幻妫⑶彝ㄟ^接線盒7與驅(qū)動(dòng)芯片(未示出)相連。在壁面的相對(duì)面上電極之間施加電場(chǎng)時(shí),壁面發(fā)生剪切變形以便給通道中的墨水施加壓力。這個(gè)過程已廣為人知,例如這里可以參考EP-A-0 200703和EP-A-0 278 590,以及其他的一些應(yīng)用。
      在如圖2所示的現(xiàn)有技術(shù)的另一打印頭中,端口12形成于模壓壓電基底中。設(shè)置噴嘴板14容納噴嘴16。墨水通過中心入口18供給噴射室20,并且通過位于噴射室相對(duì)端的端口22可以排除。要注意地是,在這種規(guī)格中,墨水可以隨意地通過各個(gè)噴射室20進(jìn)行循環(huán),從而達(dá)到清潔的目的。
      端口12是錐形形狀,有助于從模塊中取出壓電材料。因此,端口的角度相當(dāng)尖銳,并通常小于5°。
      在如圖3所示的現(xiàn)有技術(shù)的另一打印頭中,噴嘴板24連結(jié)在蓋件26上,蓋件還進(jìn)一步連結(jié)在限制噴射室的壁面28上。蓋件具有連接噴嘴30和噴射通道28的直邊端口29。墨水從形成于底座部件36中的管道32和34中流過通道。管道32作為墨水入口,同時(shí)位于通向墨水入口的通道的相對(duì)端的管道34作為出口管道。甚至在打印期間,墨水也會(huì)流過通道。
      墨水流動(dòng)增加了污物微粒或顆粒留在墨水中,而不進(jìn)入噴嘴的可能。然而,可以發(fā)現(xiàn)污物微粒仍有機(jī)會(huì)能夠進(jìn)入噴嘴中。
      不希望受理論的限制,申請(qǐng)人認(rèn)為由于重力和對(duì)污物微粒或空氣泡的噴射影響可能會(huì)導(dǎo)致污物微粒進(jìn)入噴嘴。其中打印頭安排成向下噴射比液體具有更高密度的污物微粒,在重力的影響下,有向噴嘴漂移的趨勢(shì)。如果打印頭安排成垂直向上噴射空氣泡,其具有比液體要低的密度,有向噴嘴漂移的趨勢(shì)。作用在噴射通道的助力器產(chǎn)生朝噴嘴方向的墨水運(yùn)動(dòng),并且任何污物或空氣由于這種墨水運(yùn)動(dòng)同樣推向噴嘴,甚至當(dāng)助力器水平排列用于噴射時(shí),也是如此。
      總體上說,通過簡(jiǎn)單地去除蓋板,不可能避免污物微粒的滯留,因?yàn)樯w件是用于使噴嘴的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的。其中所采用的噴嘴板是隔離的,并發(fā)現(xiàn)不可能存在嚴(yán)密的墨水高通流或可以提供足夠的硬度以便當(dāng)激勵(lì)而不彎曲時(shí),在噴射室中保持一定的壓力。
      因此,問題仍然是要避免或減少污物微粒陷在墨水噴射端口的可能性。
      參照?qǐng)D3至11,將對(duì)通過本發(fā)明所解決問題和方法進(jìn)行詳細(xì)地說明。
      在圖3和4的打印頭中,墨水通過中心入口32供給到形成于壓電材料塊28中的兩排通道40和42中。墨水在進(jìn)入打印頭之前先經(jīng)過預(yù)過濾,以便去除所有的大顆粒,為了減少噴嘴堵塞的機(jī)會(huì),并以十倍于最大打印速率的速度通過通道進(jìn)行循環(huán)。不打印的墨水隨后流過出口端34到準(zhǔn)備再次循環(huán)的貯液器中。
      通道40和42通常具有75微米的寬度,300微米的高度。蓋子上的孔直徑為100微米。打印頭可以打印的液滴在3pl和50pl之間,這時(shí)頻率為6.2KHz,這也意味著通過噴嘴的最大流速為3.1×10-10m3/s。以此10倍的速率,墨水沿通道的速度為0.14m/s。
      與通流相關(guān)的雷諾數(shù)νρD/μ可以用液壓直徑D=4A/P的特征長度來估計(jì)。式中A為通道橫截面積,而P是其周長。因此,墨水的黏度為10Cp,密度為900kg/m3時(shí),雷諾數(shù)為1.4。溫度變化對(duì)雷諾數(shù)的影響很小。
      雷諾數(shù)提供了速率相對(duì)于粘性效應(yīng)的慣性的指數(shù)。雷諾數(shù)低于1,表示當(dāng)壁面受激勵(lì)時(shí),在噴嘴處墨水中的懸浮的顆粒可能以同樣的壓力在與表面垂直的通道中流動(dòng)。即雷諾數(shù)高于1,表示慣性效應(yīng)占主導(dǎo),當(dāng)壁面受激勵(lì)時(shí),顆粒不太可能偏離。在這種情況中,雷諾數(shù)正好為1,墨水沿通道的流動(dòng)動(dòng)量是十倍于最大打印速率的速度也不可能阻止顆粒進(jìn)入噴嘴而引起堵塞。
      圖5的箭頭VT和VD分別表示墨水沿墨水通道的流動(dòng)和朝著噴嘴的有效漂移速度。漂移速度相當(dāng)于通過蓋孔區(qū)域進(jìn)入噴嘴的最大流速,從而在最大的打印速率時(shí),漂移速度為0.039m/s。VT和VD之間的高比率意味著顆粒不太可能偏斜進(jìn)入噴嘴,并且只有那些已在通道底部的顆粒將會(huì)偏斜進(jìn)入噴嘴。在VD是VT的29%的情況中,很重要的是那些微粒因此從通道底部的相當(dāng)大的區(qū)域中偏斜進(jìn)入通道。
      圖6和7描述了由于漂移速度VD的作用,微粒44朝噴嘴的運(yùn)動(dòng)。如上所述,通過噴嘴的最大流速為V,漂移速度可以計(jì)算得VD=V/πd2/4。污物微粒的中心最初在離通道底部s的距離,向下漂移r=dVD/VT的距離。式中s大,r小,微粒避免進(jìn)入噴嘴,如果s小,r大,微粒進(jìn)入噴嘴。如果s和r同等,微粒將撞擊蓋孔的邊緣。
      如圖6所示,端口邊是直的,并且根據(jù)現(xiàn)有技術(shù),任何撞擊壁面或端口邊緣的微粒會(huì)增加進(jìn)入噴嘴的可能。一旦微粒出現(xiàn),并進(jìn)入端口里,如果沒有進(jìn)一步的諸如反沖、或清洗之類的維修工序,墨水的流速VT不可能單獨(dú)清除掉微粒。
      如在圖7中可以發(fā)現(xiàn),根據(jù)本發(fā)明第一具體實(shí)施方式

      ,在端口邊提供一個(gè)深度為c的斜面以增加微粒不進(jìn)入噴嘴的可能。如圖7所示,任何撞擊斜面的微粒,其中VT大于VD,可能使微粒向后運(yùn)動(dòng)進(jìn)入通流。然而,微粒撞擊孔的非斜面部分(或如圖6所示的無斜面的情況中,在孔的邊緣)可能停止在噴嘴中,而引起堵塞??赡芤鹞⒘_M(jìn)入噴嘴的s的臨界值可以定義為滿足s小于r-c的任何值。
      穿過高度為h的通道,微粒趨向于均勻分布,因此s的值在p/2至(h-p/2)之間。微粒進(jìn)入系數(shù)因此可以定義為f=[(r-c)-(p/2)]/(h-p/2)圖8分別顯示微粒進(jìn)入的百分?jǐn)?shù)和通流因數(shù)以及斜面深度之間的關(guān)系。
      可以發(fā)現(xiàn),20微米的斜面深度和45°的斜面角,以及十倍于最大打印速率的墨水循環(huán)速率將很大程度上減少微粒進(jìn)入的可能,同時(shí)仍然可以采用可接受的循環(huán)速率。
      可以發(fā)現(xiàn)斜面角度與板面的關(guān)系很重要。當(dāng)角度很小或很大時(shí),與斜面部分的深度或長度無關(guān),穿過蓋板的端口能有效地起作用,好像沒有斜面存在一樣。
      優(yōu)選地,斜面角度大于tan-1(VD/VT)并小于tan-1(VT/VD)。更優(yōu)選地是角度大于tan-1(2(VD/VT))并小于tan-1(1/2(VT/VD))。
      斜面有益于減少對(duì)位于打印頭上游以阻擋微粒的過濾裝置的需要。這意味著過濾裝置可以制造成較低規(guī)格以減少成本,也可以制造成具有較大的孔隙,從而可以減少穿過孔隙時(shí)的壓力損失。
      優(yōu)選地,斜面深度大于1/2的平均微粒尺寸,更優(yōu)選地是大于或等于平均微粒尺寸。實(shí)際應(yīng)用中,過濾裝置用在打印頭的上游,斜面將大于1/2的孔隙尺寸,并且優(yōu)選地是大于或等于孔隙尺寸。
      斜面角度和深度可以是如圖9所示,入口邊延伸到一個(gè)通道邊界的下方,圖9示出了噴嘴30的截面圖。
      同樣也可能調(diào)節(jié)端口的一邊以減少如可選的具體實(shí)施方式

      的圖中所描述的堵塞可能性。在此具體實(shí)施方式

      中,只有端口的下游邊是斜面,并且可以發(fā)現(xiàn)還能進(jìn)一步減少堵塞的可能性。優(yōu)選地,斜面的角度為小于45°,更優(yōu)選地是小于30°以有助于使微粒排出。斜面的角度應(yīng)該相對(duì)于蓋板平面不小于tan-1(VT/VD)。在這兩個(gè)具體實(shí)施方式

      中,優(yōu)選地,為了便于制造,端口為矩形。
      端口中的孔采用諸如蝕刻、燒蝕、打孔等之類的合適技術(shù)形成。仔細(xì)地控制這些技術(shù),或進(jìn)一步采用蝕刻或燒蝕技術(shù)以形成斜面。
      在圖11的可選具體實(shí)施方式

      中,多孔過濾層設(shè)置在蓋板和噴射室之間,過濾層中孔隙的尺寸正好可以阻擋微粒進(jìn)入噴嘴區(qū)域??梢粤钊梭@奇地發(fā)現(xiàn),這個(gè)多孔板不會(huì)顯著地降低打印頭的效率。
      在蓋板中孔隙60的直徑尺寸大約為100微米??梢园l(fā)現(xiàn)過濾層中孔隙的尺寸在10微米和50微米之間,以提供最佳的噴射。雖然不需要以10倍的最大打印速率,但墨水仍然需要連續(xù)地流過噴射室。
      過濾層為進(jìn)一步層壓到并且基本延伸到整個(gè)蓋板表面的板。多孔形成于與蓋板的端口相對(duì)應(yīng)的位置。這些孔可能遍布在相當(dāng)大的區(qū)域以方便排列對(duì)正。蓋板可以由任何合適的,與墨水相容的材料形成,可以發(fā)現(xiàn)聚酰亞胺特別適合。過濾孔可以通過燒蝕、蝕刻或其他任何合適的方法制成。
      雖然本發(fā)明參照液體中的污物和顆粒進(jìn)行了說明,但是其也同樣適用于容納在液體中的氣泡,并具有相同的限定技術(shù)效果。
      公開于此說明書中的任何特征(包括權(quán)利要求中的內(nèi)容)和/或顯示于附圖中的內(nèi)容可以與其它公開和/或顯示的特征獨(dú)立地或組合地進(jìn)行結(jié)合。
      權(quán)利要求
      1.一種液滴沉積裝置,包括至少一個(gè)在其液體入口和液體出口之間延伸的噴射室,包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口、并具有接收用于從其噴嘴出口噴射出的噴射室液體的入口;作用于所述噴射室以用于給流過噴射室的噴射液體施加壓力的致動(dòng)器裝置;以及設(shè)置成鄰接所述噴射入口,用于阻止在所述液體入口和液體出口之間流動(dòng)的所述噴射液體中的污物進(jìn)入所述噴射端口的裝置。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述顆粒包括空氣泡。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于所述裝置包括到所述噴射端口入口的斜面邊緣。
      4.一種液滴沉積裝置,包括至少一個(gè)在其液體入口和液體出口之間延伸的噴射室,包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口、并具有接收用于從其噴嘴的出口噴射出的噴射室噴射液體的到入口的斜面邊緣。
      5.根據(jù)前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置,其特征在于所述噴射室是一個(gè)通道。
      6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任何一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于所述斜面相對(duì)于噴射室的軸線方向具有在20°至70°的角度。
      7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任何一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于所述斜面延伸到至少一個(gè)噴射室一面的上方。
      8.根據(jù)權(quán)利要求3至7中任何一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于所述斜面設(shè)置成鄰接所述端口的下游邊緣。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于所述裝置包括設(shè)置在所述噴射室和所述端口之間的過濾裝置。
      10.一種液滴沉積裝置,包括至少一個(gè)各在其液體入口和液體出口之間延伸的噴射室,包括位于液體入口和液體出口之間的噴射端口,并具有位于液體入口和液體出口之間的噴射端口,還具有接收用于從其噴嘴出口噴射出的噴射室液體的入口,以及設(shè)置在所述噴射室和所述噴射端口入口之間,用于阻止在所述液體入口和液體出口之間流動(dòng)的噴射液體中的顆粒進(jìn)入所述端口的過濾裝置。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其特征在于所述顆粒包括空氣泡。
      12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任何一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于所述過濾裝置為多孔板,并形成所述至少一個(gè)噴射室的一個(gè)壁面。
      13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其特征在于所述過濾裝置形成多個(gè)所述至少一個(gè)噴射室的壁面。
      14.根據(jù)前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置,其特征在于所述噴射液體在墨水入口和墨水出口之間是以1至30倍的最大液滴噴射速率流動(dòng)。
      15.根據(jù)前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置,其特征在于所述噴射液體在墨水入口和墨水出口之間是以1至10倍的最大液滴噴射速率流動(dòng)。
      16.根據(jù)前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置,還包括與各噴射室相關(guān)聯(lián)用于實(shí)現(xiàn)從噴射室的噴嘴噴射液體的致動(dòng)器裝置。
      17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置,其特征在于所述致動(dòng)器裝置還進(jìn)一步包括至少限制所述噴射室的壓電壁面部分。
      18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置,其特征在于所述壓電壁面以剪切模式運(yùn)行。
      19.一種液滴沉積裝置,包括在其液體入口和液體出口之間延伸的伸長噴射室、提供用于液體沿噴射室長度方向上,速度為VT流動(dòng)的液體供給裝置、位于液體入口和液體出口之間,并與噴射室長度方向成直角方向上的噴射端口、所供液體中的顆粒具有在噴射端口方向上的流速VD的漂移速度,其中設(shè)置有一個(gè)與在噴射室和噴射端口交叉處的液體入口相對(duì)的撓曲面,以用于使流入噴射端口的噴射室中的顆粒產(chǎn)生偏斜。
      20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置,其特征在于所述撓曲面與噴射室長度方向的角度大于tan-1(VD/VT),并且優(yōu)選大于tan-1(2(VD/VT))。
      21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的裝置,其特征在于所述撓曲面與噴射室長度方向的角度小于tan-1(VT/VD),并且優(yōu)選小于tan-1(1/2(VT/VD))。
      22.根據(jù)權(quán)利要求19至20中任何一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于所述撓曲面分別定義為在噴射端口和噴射室的正交表面之間的斜面。
      全文摘要
      一種具有墨水流過墨水噴射室以及通向噴嘴的墨水噴射端口的噴墨打印機(jī),其具有例如在噴射室和噴射端口的交叉處的斜面的撓曲面,以便阻止顆粒進(jìn)入端口。
      文檔編號(hào)B41J2/14GK1551834SQ02817372
      公開日2004年12月1日 申請(qǐng)日期2002年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月7日
      發(fā)明者羅伯特·哈維, 斯蒂芬·坦普爾, 霍華德·約翰·曼寧, 坦普爾, 約翰 曼寧, 羅伯特 哈維 申請(qǐng)人:薩爾技術(shù)有限公司
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