專利名稱：應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，該方法可輕易的將所欲印制的圖形印制于光學(xué)模板上，而不容易被擦拭不見。
背景技術(shù)：
在已知技術(shù)中，于光學(xué)模板上印制圖形，需要先滾軋出一最初的光學(xué)模板的原膜，再經(jīng)由一裁切裝置裁切成所設(shè)定的大小，于裁切完后使光學(xué)模板先熟化(aging)，等經(jīng)過一段時(shí)間后再印制圖形于光學(xué)模板上，等候印制的圖形干燥后在進(jìn)行相關(guān)光學(xué)模板的處理。而在印制圖形的步驟上，起先是以人工的方式進(jìn)行印制的動作，但是人工印制無法很精準(zhǔn)的蓋印完成，其中，常會因?yàn)槎秳踊蚧瑒佣鵁o法印制的漂亮，且也無法相當(dāng)精準(zhǔn)的印制到指定位置，因而會遭到品質(zhì)管理部門或客戶退回的結(jié)果。因此，現(xiàn)今以自動印制的方式替代人工印制，不僅可精準(zhǔn)的印制到指定地方，且能節(jié)省大量人工成本及工時(shí)花費(fèi)，但上述兩種方式均存在共通的缺陷，即在印制完成后均須停滯一段時(shí)間，等印制時(shí)所用的顏料干燥才可在進(jìn)行后續(xù)的處理步驟，且使用的顏料由于附著能力較差，所以相對的所需成本也相當(dāng)高，所以在印制的過程中所花費(fèi)的顏料成本及時(shí)間成本都是相當(dāng)浪費(fèi)的。
諸如以上已知技術(shù)的缺陷，本發(fā)明為了改善此方法，以全力進(jìn)行研發(fā)改進(jìn)，終于提出一種設(shè)計(jì)合理，且能有效改善上述缺陷的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，該方法的主要技術(shù)特征是降低光學(xué)模板的接觸角后，使其表面變的粗造，本發(fā)明使用酸堿法及電暈法(Corona)，使薄膜表面變得粗化，以增加顏料附著于光學(xué)模板上的效果，使顏料不易被除去。
上述的電暈法的處理原理即是利用靜電放電(electrostaticdischarge)的方式以改善塑料薄膜的涂裝附著性，解決聚丙烯或聚乙烯薄膜的印刷方面所產(chǎn)生附著性的問題。除此之外，薄膜表面產(chǎn)生的水份和高固份放射固化油墨(high solids radiation cumable ink)都會導(dǎo)致表面能的增加，例如聚氯乙烯和聚酯都是屬于此種薄膜。一般薄膜采取的前處理包括燃燒處理、電暈處理或增進(jìn)附著性的涂裝作業(yè)。電暈處理系統(tǒng)包括發(fā)電機(jī)(generator)、高電壓變壓器(high voltage transformer和處理機(jī)器(treating machine)。而處理機(jī)器基本上是一個(gè)電容器(capacitor)，處理的材料被安置在電極之間，讓電壓逐漸增加直至達(dá)到電暈處理的目的。因此，電暈處理可以增加表面氧化，促使化學(xué)鍵的斷裂而造成更多的氫氧基團(tuán)(hydroxyl groups)、碳基團(tuán)(carbonyl bonds)和過氧化氫鍵，則薄膜表面會改變得粗化(rougheng)，使表面污染降低。塑料薄膜通常被安置在輥筒(roller)之間，并給予雙極性物質(zhì)處理，且通過電極與電極表面相離約數(shù)公分。電暈處理隨著時(shí)間的減少，其影響因素包括上升溫度(elevated temperature)和濕度(humidity)，除此之外，還有涂裝后減少表面能及改善滑性的添加劑，因此，電暈處理需避免塊狀的產(chǎn)生及表面能的增加而影響松卷與卷繞。
本發(fā)明提供的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其次要目的是可以獲得等待兩階段熟化(aging)的時(shí)間，本發(fā)明僅須于自動印制及裁切完成后即可等待光學(xué)模板熟化，因此可節(jié)省制作流程的時(shí)間。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)手段如下一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其步驟包括有(a)形成一光學(xué)模板的原膜；(b)使光學(xué)模板表面上的接觸角降低；(c)自動印制圖形于光學(xué)模板上；(d)裁切成所設(shè)定大小范圍；(e)放置一段時(shí)間使光學(xué)模板熟化(aging)；(f)完成。本發(fā)明中的光學(xué)模板經(jīng)由降低表面的接觸角后，即可增加顏料于光學(xué)模板表面的附著力，以可避免自動印制于光學(xué)模板上的圖形會輕易被除去。
為使熟悉該項(xiàng)技藝人士了解本發(fā)明的目的、特征及功效，茲通過下述具體實(shí)施例，并配合所示附圖，對本發(fā)明詳加說明如后。


圖1為本發(fā)明的步驟流程圖；圖2A為本發(fā)明光學(xué)模板原膜的示意圖；圖2B為本發(fā)明光學(xué)模板進(jìn)行表面處理的示意圖；圖2C為本發(fā)明光學(xué)模板表面處理完后的示意圖。
圖中符號說明10光學(xué)模板20電極21電極(a)形成一光學(xué)模板的原膜(b)使光學(xué)模板表面上的接觸角降低(c)自動印制圖形于光學(xué)模板上(d)裁切成所設(shè)定大小范圍(e)放置一段時(shí)間使光學(xué)模板熟化(aging)(f)完成具體實(shí)施方式

請參閱如圖1所示，為本發(fā)明的步驟流程圖。本發(fā)明的一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其步驟包括有(a)一光學(xué)模板10(如偏光板)(請參閱圖2A)的原料經(jīng)由滾軋而形成光學(xué)模板10的原膜，其光學(xué)模板10材料可為酪醋酸纖維(CAB)或三醋酸纖維(TAC)；(b)使光學(xué)模板10表面上的接觸角降低，其中，以破壞光學(xué)模板10的表面，使光學(xué)模板表面10變的粗糙，以降低接觸角，以增加光學(xué)模板10表面的附著力，而降低光學(xué)模板10表面的接觸角可使用酸堿法及電暈法(Corona)等，均能有效的降低光學(xué)膜板10表面的接觸角；(c)自動印制圖形于光學(xué)模板10上，其中，自動印制于光學(xué)模板10的方式將顏料以自動噴墨于光學(xué)模板10上，因顏料主要均是液態(tài)的形式，所以該顏料會因?yàn)楸砻鎻埩Φ木売啥纬尚∷闋?，如此容易造成不易干燥情形發(fā)生，所以將顏料自動印制于前述經(jīng)過處理后的光學(xué)模板10上，因該光學(xué)模板10表面上為粗糙不平，因此容易降低顏料的表面張力的接觸角，以至于可以使顏料較輕易的附著于光學(xué)模板10表面上，且不容易遮受外在環(huán)境破壞而除去；(d)裁切成所設(shè)定大小范圍，將顏料自動印制于光學(xué)模板10表面后，即可立刻對光學(xué)模板10進(jìn)行裁切的動作，裁切成以事先設(shè)計(jì)的大小(e)放置一段時(shí)間使光學(xué)模板10熟化(aging)，裁切后需將光學(xué)模板10放置一段時(shí)間，不僅可使光學(xué)模板10熟化，且可一并等待自動印制于光學(xué)模板10上的尚未干燥的顏料干燥；(f)完成，其后端的處理并非本發(fā)明的重點(diǎn)(如去除光學(xué)模板10于裁切后所產(chǎn)生的毛邊)，所以并不在此再多加闡述。
請參閱圖2A、圖2B及圖2C所示，圖2A本發(fā)明光學(xué)模板原膜的示意圖；圖2B本發(fā)明光學(xué)模板進(jìn)行表面處理的示意圖；圖2C本發(fā)明光學(xué)模板表面處理完后的示意圖。該光學(xué)模板10的原料經(jīng)由滾軋而形成光學(xué)模板的原膜，其光學(xué)模板材料可為酪醋酸纖維(CAB)或三醋酸纖維(TAC)，而光學(xué)模板10可經(jīng)由兩電極20、21產(chǎn)生的放電(即電暈法)而使得光學(xué)模板10表面電的粗糙，如此當(dāng)顏料自動印制于上時(shí)，而能輕易的破壞原先的表面張力，使該光學(xué)模板10能輕易使顏料附著于其表面。
由此，本發(fā)明提供有關(guān)于一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面的圖形自動印制方法，主要是利用使光學(xué)模板表面變的粗糙后，相對的能降低接觸角，使得顏料自動印制于光學(xué)模板更加不易被去除，且于制作流程上僅需一次的熟化時(shí)間，而可節(jié)省于制作時(shí)間上的成本，因此本發(fā)明極具進(jìn)步性及符合申請發(fā)明專利的要件，依法提出申請。
雖然本發(fā)明已以一較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的申請專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，該步驟包括有(a)形成一光學(xué)模板的原膜；(b)使光學(xué)模板的表面上接觸角降低；(c)自動印制圖形于光學(xué)模板上；(d)裁切成所設(shè)定大小范圍；(e)放置一段時(shí)間使光學(xué)模板熟化；(f)完成。
2.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，該光學(xué)模板的原膜以經(jīng)由滾軋制作而成。
3.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，該光學(xué)模板可為一三醋酸纖維。
4.如權(quán)利要求3所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，以酸堿法降低該光學(xué)模板接觸角。
5.如權(quán)利要求3所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，以電暈法降低該光學(xué)模板接觸角。
6.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，該光學(xué)模板可為一酪醋酸纖維。
7.如權(quán)利要求6所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，以酸堿法降低該光學(xué)模板接觸角。
8.如權(quán)利要求6所述的應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其特征是，以電暈法降低該光學(xué)模板接觸角。
全文摘要
本發(fā)明為一種應(yīng)用于光學(xué)模板表面圖形的自動印制方法，其步驟包括有(a)形成一光學(xué)模板的原膜；(b)使光學(xué)模板的表面上的接觸角降低；(c)印制圖形于光學(xué)模板上；(d)裁切成所設(shè)定大小范圍；(e)放置一段時(shí)間使光學(xué)模板熟化(aging)；(f)完成。本發(fā)明中的光學(xué)模板經(jīng)由降低表面的接觸角后，即可增加顏料于其表面的附著力，以可避免印制于光學(xué)模板上的圖形會被輕易的除去。
文檔編號B41M1/00GK1796150SQ2004101019
公開日2006年7月5日 申請日期2004年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月20日
發(fā)明者徐維鉉, 李昌衡, 賴義成 申請人:力特光電科技股份有限公司