專利名稱：適用于印章的光敏墊及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種人造樹脂為主的微孔泡沫材料及其制備方法，具體說是光敏印章用的印章墊及其制備方法。
背景技術(shù)：
隨著印章業(yè)的不斷發(fā)展，制作印章用材料要求越來越高。目前，制作萬次印章(一次加油墨，可使用萬次以上的滲透型印章)使用最廣泛的材料為聚氯乙稀粉末燒結(jié)材料，即原子印章。其報(bào)道有JP8011882、JP8022962、JP81151586、JP8037331所述，該方法是聚氯乙烯粉狀原料和增塑劑、穩(wěn)定劑、填料及其他助劑混合后，制成粒料，粒料經(jīng)低溫粉碎得到大部分超過200目的微小顆粒，微小顆粒加入到相應(yīng)模具中，經(jīng)加熱燒結(jié)得到多孔材料，該多孔材料可作為儲(chǔ)存印油的印章材料。中國(guó)專利93114619采用軟質(zhì)聚氯乙烯，經(jīng)粉碎到60～150目通過，將粉料加入模具中，經(jīng)加熱燒結(jié)，得到多孔材料，用于儲(chǔ)油印章材料。上述幾種方法都需要經(jīng)低溫粉碎，得到微小粉末，再將粉末加入到模具中加溫?zé)Y(jié)而成。這種方法得到儲(chǔ)油印章材料工藝復(fù)雜、投資大(需低溫粉碎設(shè)備)、多孔材料孔徑尺寸大、均勻性差，產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定。用該材料制作印章工序復(fù)雜，印章解晰度低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種穩(wěn)定性好、圖文制作簡(jiǎn)單方便、經(jīng)濟(jì)、適用于印章的光敏墊及其制備方法，以克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷。
本發(fā)明光敏墊材料為一種微孔泡沫材料，組分和重量百分比包括聚烯烴或其共聚物樹脂70～90％
有機(jī)顏料光敏助劑0.1～5％酚類抗氧劑 0.5～3％非離子表面活性劑0.5～3％其他助劑5～25％。
優(yōu)選的重量百分比為聚烯烴或其共聚物樹脂75～85％有機(jī)顏料光敏助劑0.5～5％酚類抗氧劑 1～2％非離子表面活性劑1～2％其他助劑10～20％更優(yōu)選的為聚烯烴或其共聚物樹脂78～82％有機(jī)顏料光敏助劑1～3％酚類抗氧劑 1～2％非離子表面活性劑1～2％其他助劑12～18％。
微孔尺寸為3微米～100微米，最好微孔尺寸為10微米～40微米，微孔為開孔結(jié)構(gòu)，其開孔率為70～99％，最好開孔率為95～99％。
所述及的有機(jī)顏料光敏助劑、酚類抗氧劑、非離子表面活性劑的具體品種，行業(yè)內(nèi)技術(shù)人員都是公知的。
有機(jī)顏料光敏助劑選自色淀顏料中的一種或其混合物，優(yōu)選炭黑、黑色素或深色顏料，如蘭色、棕色、綠色、紅色等；所說的酚類抗氧劑優(yōu)選2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧劑246)、2，2’-甲撐雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧劑2246)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羥基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧劑1010)。
非離子表面活性劑選自高級(jí)醇環(huán)氧乙烷加成物、烷基酚環(huán)氧乙烷加成物、脂肪酸環(huán)氧乙烷加成物及多元醇類非離子表面活性劑等，優(yōu)選脂肪醇聚氧乙烯醚(如平平加O-20)、烷基酚聚氧乙烯醚(如乳化劑OP)、脂肪酸聚氧乙烯醚(如乳化劑A110、A115)或失水山梨醇脂肪酸酯(如斯潘20、60、80)。
所述及的聚烯烴或其共聚物樹脂選自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚異戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一種或一種以上；所述及的其他助劑為加工助劑，選自硬脂酸、石蠟、油酸酰胺、芥酸酰胺、雙硬脂酸酰胺、聚乙烯蠟、氧化聚乙烯蠟、硬脂酸鋅、硬脂酸鋇或硬脂酸鈣中的一種或一種以上。
本發(fā)明的適用于印章的光敏墊的制備方法包括如下步驟將聚烯烴或其共聚物樹脂、有機(jī)顏料光敏助劑、酚類抗氧劑、非離子表面活性劑和其他助劑經(jīng)初步混合，并加入上述總重量3～5倍的無機(jī)填料，混合均勻，采用常規(guī)的模壓、擠出或注塑等方法，制備型材，即料胚，將料胚浸漬于溶劑中，常溫下溶解，除去料胚中的無機(jī)填料，形成微孔開孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏墊。
所說的無機(jī)填料選自碳酸鉀、碳酸鈣、碳酸鈉、碳酸鎂、氫氧化鋁、氫氧化鎂、氫氧化鋇、硝酸鉀、硝酸鈉、氯化鉀、氯化鈉、氯化鈣、氯化鎂、磷酸鉀、磷酸鈉或硫酸鈉中的一種或其混合物；所說的溶劑選自鹽酸、硫酸、水、碳酸、硝酸或醋酸中的一種或其混合物。
本發(fā)明的用于印章的光敏墊，性能優(yōu)良，將其制備成為光敏印章在眾多性能上均優(yōu)于原子印章。
由上述公開的技術(shù)方案看見，本發(fā)明的用于印章的光敏墊，多孔材料孔徑尺寸小、均勻性好，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。能夠滿足有關(guān)方面的需要。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1將聚乙烯樹脂70質(zhì)量份，色素碳黑5.0質(zhì)量份，四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羥基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧劑1010)3.0質(zhì)量份，失水山梨醇單月桂酸酯(斯潘20)3.0質(zhì)量份，硬脂酸5質(zhì)量份，石蠟8質(zhì)量份，聚乙烯蠟3質(zhì)量份，硬脂酸鈣2質(zhì)量份，石蠟油7質(zhì)量份、碳酸鈣400質(zhì)量份，用混合均勻，模壓、擠出、注塑成型得到料胚)，料胚浸漬于重量濃度為1％的鹽酸水溶液中洗滌，去除碳酸鈣，得到較軟微孔光敏墊。
微孔尺寸為10微米，微孔為開孔結(jié)構(gòu)，其開孔率為95％。
采用本方法制備成為光敏印章，與萬次印章性能比較，其結(jié)果如下

實(shí)施例2將聚乙烯樹脂90質(zhì)量份，色素碳黑0.1質(zhì)量份，2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧劑246)0.5質(zhì)量份，脂肪醇聚氧乙烯(20)醚(平平加O-20)0.5質(zhì)量份，硬脂酸1質(zhì)量份，石蠟1質(zhì)量份，聚乙烯蠟1質(zhì)量份，石蠟油2質(zhì)量份、碳酸鈣400質(zhì)量份，用混合均勻，模壓、擠出、注塑成型得到型材(料胚)，料胚浸漬于重量濃度為0.5％的硝酸水溶液中洗滌，去除碳酸鈣，得到比實(shí)例1中較硬微孔光敏墊。
微孔尺寸為40微米，微孔為開孔結(jié)構(gòu)，其開孔率為99％。
采用本方法制備成為的光敏印章，與萬次印章性能比較，其結(jié)果如下

實(shí)施例3將實(shí)施例1中聚乙烯樹脂改用共聚聚丙烯樹脂，制得與實(shí)例2相似軟硬微孔光敏墊。
實(shí)施例4將實(shí)施例1中聚乙烯樹脂改用乙烯醋酸乙烯共聚物，制得比實(shí)例1更軟微孔光敏墊。
實(shí)施例5將實(shí)施例1中碳酸鈣改用硫酸鈉，料胚浸漬于水中洗滌，除去硫酸鈉，制得與實(shí)例1相似軟硬微孔光敏墊。
權(quán)利要求
1.一種適用于印章的光敏墊，其特征在于，為一種微孔泡沫材料，組分和重量百分比包括聚烯烴或其共聚物樹脂 70～90％有機(jī)顏料光敏助劑 0.1～5％酚類抗氧劑0.5～3％非離子表面活性劑 0.5～3％其他助劑 5～25％。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，優(yōu)選的重量百分比為聚烯烴或其共聚物樹脂 75～85％有機(jī)顏料光敏助劑 0.5～5％酚類抗氧劑1～2％非離子表面活性劑 1～2％其他助劑 10～20％。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，更優(yōu)選的為聚烯烴或其共聚物樹脂 78～82％有機(jī)顏料光敏助劑 1～3％酚類抗氧劑1～2％非離子表面活性劑 1～2％其他助劑 12～18％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，微孔尺寸為3微米～100微米，微孔為開孔結(jié)構(gòu)，其開孔率為70～99％。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，有機(jī)顏料光敏助劑選自色淀顏料中的一種或其混合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，所說的酚類抗氧劑選自2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧劑246)、2，2’-甲撐雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧劑2246)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羥基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧劑1010)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，非離子表面活性劑選自高級(jí)醇環(huán)氧乙烷加成物、烷基酚環(huán)氧乙烷加成物、脂肪酸環(huán)氧乙烷加成物或多元醇類非離子表面活性劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，所述及的聚烯烴或其共聚物樹脂選自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚異戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一種或一種以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊，其特征在于，所述及的其他助劑為加工助劑，選自硬脂酸、石蠟、油酸酰胺、芥酸酰胺、雙硬脂酸酰胺、聚乙烯蠟、氧化聚乙烯蠟、硬脂酸鋅、硬脂酸鋇或硬脂酸鈣中的一種或一種以上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述的用于印章的光敏墊的制備方法，其特征在于，包括如下步驟將聚烯烴或其共聚物樹脂、有機(jī)顏料光敏助劑、酚類抗氧劑、非離子表面活性劑和其他助劑經(jīng)初步混合，并加入上述總重量3～5倍的無機(jī)填料，混合均勻，采用常規(guī)的模壓、擠出或注塑等方法，制備型材，即料胚，將料胚浸漬于溶劑中溶解，除去料胚中的無機(jī)填料，形成微孔開孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏墊。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種適用于印章的光敏墊及其制備方法。本發(fā)明光敏墊材料為一種微孔泡沫材料，組分包括聚烯烴或其共聚物樹脂、有機(jī)顏料光敏助劑、酚類抗氧劑、非離子表面活性劑和其他助劑。本發(fā)明的用于印章的光敏墊，孔徑尺寸小、均勻性好，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。能夠滿足有關(guān)方面的需要。
文檔編號(hào)B41K1/36GK1672953SQ20051002488
公開日2005年9月28日 申請(qǐng)日期2005年4月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月5日
發(fā)明者陸沖, 王慶海, 唐頌超 申請(qǐng)人:張志華, 王衛(wèi)榮