專利名稱：可印刷不易揭破的反光膜的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種反光膜的制備方法，尤其是一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法。
背景技術(shù)：
目前市場上銷售的PET型商業(yè)級反光膜表面采用的PET吸墨性能較差，印刷在表面的油墨很難滲透到PET內(nèi)層。所以通常為了增強印刷制品的耐用性，很多企業(yè)只有選擇日本十條產(chǎn)PET專用油墨，此油墨價格很高，目前市場上銷售的紅色油墨為人民幣520元/千克，大大增加印刷成本。市場上銷售的壓克力型商業(yè)級反光膜雖然比PET型商業(yè)級反光膜有較強的吸墨性能，可由于采用壓克力為表面層極易揭破，可操作性較差。

發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的提供一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法，具有如下工藝步驟a、涂粘合劑，用PET做載膜，在PET上采用刮涂方式均勻地涂布一層5～10μm的粘合劑，經(jīng)過80℃烘箱烘烤2分鐘，在沒有完全干的時候?qū)⑵淙〕?；b、植珠，將直徑為42～50μm的玻璃微珠通過流化氣壓植在PET上膠面，經(jīng)過4Kg氣壓的橡膠壓輥，把微珠壓進粘合劑中；c、涂間隔層，將植有微珠的PET做載體，在微珠面通過刮涂方式將丙烯酸乳液涂布在微珠上作間隔層，間隔層均勻地包覆在微珠表面；d、鍍反射層，將做好間隔層的半成品放入真空鍍鋁機鍍上反射層，鋁蒸氣分子在真空度為5×10-1～6×10-2Pa的蒸發(fā)室內(nèi)，由于分子熱運動作直線飛行，沉積在間隔層上，從而在間隔層上形成一層厚為30～35nm的致密而又光亮的反射層；e、涂保護層，將有機硅改性丙烯酸樹脂稀釋后加入涂布機膠槽中，采用刮涂方式涂布在反光膜的鍍鋁層上作保護層，經(jīng)過110℃烘烤10分鐘成膜并收卷；f、涂吸墨層，將有機硅改性丙烯酸樹脂涂布于鋁層面的反光膜反過來，在反光膜表面PET上采用刮涂丙烯酸樹脂作吸墨層，經(jīng)100℃烘箱烘烤4分鐘成膜；g、復(fù)合，將涂有吸墨層的反光膜通過與帶壓敏膠的離型紙復(fù)合制成反光膜成品。
本發(fā)明的有益效果是，利用本發(fā)明的制備方法所制得的可印刷不易揭破的反光膜，與PET型商業(yè)級反光膜相比，利用本發(fā)明的制備方法所制得的可印刷不易揭破的反光膜可印刷、噴繪性能更佳，對油墨的選擇性更廣，與壓克力型商業(yè)級反光膜相比，利用本發(fā)明的制備方法所制得的可印刷不易揭破的反光膜不易揭破，可操作性更強。
具體實施例方式
一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法，具有如下工藝步驟a、涂粘合劑，用PET做載膜，在PET上采用刮涂方式均勻地涂布一層5～10μm的粘合劑，經(jīng)過80℃烘箱烘烤2分鐘，在沒有完全干的時候?qū)⑵淙〕?；b、植珠，將直徑為42～50μm的玻璃微珠通過流化氣壓植在PET上膠面，經(jīng)過4Kg氣壓的橡膠壓輥，把微珠壓進粘合劑中；c、涂間隔層，將植有微珠的PET做載體，在微珠面通過刮涂方式將丙烯酸乳液涂布在微珠上作間隔層，間隔層均勻地包覆在微珠表面；d、鍍反射層，將做好間隔層的半成品放入真空鍍鋁機鍍上反射層，鋁蒸氣分子在真空度為5×10-1～6×10-2Pa的蒸發(fā)室內(nèi)，由于分子熱運動作直線飛行，沉積在間隔層上，從而在間隔層上形成一層厚為30～35nm的致密而又光亮的反射層；e、涂保護層，將有機硅改性丙烯酸樹脂稀釋后加入涂布機膠槽中，采用刮涂方式涂布在反光膜的鍍鋁層上作保護層，經(jīng)過110℃烘烤10分鐘成膜并收卷；f、涂吸墨層，將有機硅改性丙烯酸樹脂涂布于鋁層面的反光膜反過來，在反光膜表面PET上采用刮涂丙烯酸樹脂作吸墨層，經(jīng)100℃烘箱烘烤4分鐘成膜；g、復(fù)合，將涂有吸墨層的反光膜通過與帶壓敏膠的離型紙復(fù)合制成反光膜成品。
反光膜是新型復(fù)合材料，需要經(jīng)過多次涂布，且要求每層間的接合力要很強，相互匹配。如果采用一面經(jīng)過化學(xué)涂布、一面電暈的PET作可印刷反光膜表面層，很容易在經(jīng)過多次涂布后表面擦傷而影響可印刷性，所以只有在最后不在反光膜上涂布時候作可印吸墨層最佳。反光膜中起反射作用的為鍍鋁層，是鋁蒸氣分子在真空度為5×10-1～6×10-2Pa的蒸發(fā)室內(nèi)，由于分子熱運動作直線飛行，沉積在間隔層上，從而形成一層厚為30～35nm的致密而又光亮的反射層。如要在反光膜的反射層做好后涂吸墨層，厚度只有30～35nm的反射層很容易被過輥擦傷透光，破壞反射功能。因此，只有在反射層上做一層保護層，解決反射層的擦傷問題，才能做吸墨層的涂布。
權(quán)利要求
1.一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法，其特征在于具有如下工藝步驟a、涂粘合劑，用PET做載膜，在PET上采用刮涂方式均勻地涂布一層5～10μm的粘合劑，經(jīng)過80℃烘箱烘烤2分鐘，在沒有完全干的時候?qū)⑵淙〕?；b、植珠，將直徑為42～50μm的玻璃微珠通過流化氣壓植在PET上膠面，經(jīng)過4Kg氣壓的橡膠壓輥，把微珠壓進粘合劑中；c、涂間隔層，將植有微珠的PET做載體，在微珠面通過刮涂方式將丙烯酸乳液涂布在微珠上作間隔層，間隔層均勻地包覆在微珠表面；d、鍍反射層，將做好間隔層的半成品放入真空鍍鋁機鍍上反射層，鋁蒸氣分子在真空度為5×10-1～6×10-2Pa的蒸發(fā)室內(nèi)，由于分子熱運動作直線飛行，沉積在間隔層上，從而在間隔層上形成一層厚為30～35nm的致密而又光亮的反射層；e、涂保護層，將有機硅改性丙烯酸樹脂稀釋后加入涂布機膠槽中，采用刮涂方式涂布在反光膜的鍍鋁層上作保護層，經(jīng)過110℃烘烤10分鐘成膜并收卷；f、涂吸墨層，將有機硅改性丙烯酸樹脂涂布于鋁層面的反光膜反過來，在反光膜表面PET上采用刮涂丙烯酸樹脂作吸墨層，經(jīng)100℃烘箱烘烤4分鐘成膜；g、復(fù)合，將涂有吸墨層的反光膜通過與帶壓敏膠的離型紙復(fù)合制成反光膜成品。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種反光膜的制備方法，尤其是一種可印刷不易揭破的反光膜的制備方法，具有如下工藝步驟a.在PET上涂粘合劑；b.植珠；c.涂間隔層；d.鍍反射層；e.涂保護層；f.涂吸墨層；g.與離型紙復(fù)合制成反光膜成品。利用本發(fā)明的制備方法所制得的可印刷不易揭破的反光膜，與PET型商業(yè)級反光膜相比，可印刷、噴繪性能更佳，對油墨的選擇性更廣，與壓克力型商業(yè)級反光膜相比，不易揭破，可操作性更強。
文檔編號B41M5/00GK1730282SQ20051009409
公開日2006年2月8日 申請日期2005年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月25日
發(fā)明者顏奇旭, 朱小慶, 汪先良 申請人:顏奇旭