專利名稱：用于納米規(guī)模制造的流體分配和按需液滴分配的制作方法
背景技術：
本發(fā)明的領域一般涉及刻印平版印刷術(imprint lithography)。更具體地，本發(fā)明涉及將一定體積的液體分配到基片上以減少在刻印平版印刷工藝中填充模板圖案特征的時間。
細微制造涉及制造非常小的結構，例如，具有微米級或更小的圖案特征(features)的結構。細微制造具有相當大影響的一個領域是在集成電路的加工中。半導體加工工業(yè)一直以來都在不斷努力期望獲得更大的生產率，而同時又增加在基片上每單位面積的電路，所以細微制造的重要性不斷增加。細微制造在使所形成的結構的最小圖案特征的尺寸降低的同時規(guī)定了更強的過程控制。已應用細微制造而發(fā)展的其它領域包括生物技術、光學技術、機械體系等。
示范性的細微制造技術描述在美國專利第6334960號中，發(fā)明人為willson等。willson等揭示了一種在結構中形成浮雕圖像(relief image)的方法。該方法包括形成帶有轉移層的基片。轉移層被可聚合流體組合物覆蓋。模具與可聚合流體機械接觸。模具具有浮雕結構，可聚合流體組合物填充在浮雕結構中。然后可聚合流體組合物被置于使其固化和聚合的條件之下，在轉移層上形成固化的聚合物材料，該聚合材料含有與模具的浮雕結構互補的浮雕結構。然后將模具從固體聚合材料上分離，這樣模具中的浮雕結構的復制品就在固化的聚合材料中形成。轉移層和固化的聚合材料置于一定環(huán)境中，用以有選擇地相對于固化的聚合材料來刻蝕轉移層，從而在轉移層中形成浮雕圖像。所需的時間和該技術提供的最小圖案特征的大小取決于可聚合材料的組成等。
因此，希望提供一種減少填充刻印平版印刷術模板的圖案特征所需的時間的技術。
發(fā)明概述本發(fā)明涉及將一個總體積的液體分配到基片上的方法，該方法包括將多個相互間隔開的液滴設置在基片的一個區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，該區(qū)域中液滴的聚集體積隨要在此區(qū)域形成的圖案的體積而變化。下文將更全面地描述這些其它實施方式。
附圖簡要說明

圖1是依據本發(fā)明的平版印刷體系的透視圖；圖2是圖1所示的平版印刷體系的簡化的正視圖；圖3是組成圖2所示的刻印層的材料在聚合和交聯之前的簡化表示；圖4是圖3所示的材料在被輻射后轉變成的交聯聚合物材料的簡化表示；圖5是在刻印層被加上圖案之后與刻印層分開的圖1所示的模具的簡化的正視圖；圖6是如圖2所示的依據本發(fā)明第一實施方式的沉積在基片區(qū)域上的刻印材料液滴的陣列的俯視圖；和圖7是表示根據模板設計將液體分配到基片區(qū)域上的方法的流程圖。
發(fā)明詳述圖1示出了根據本發(fā)明的一個實施例的平板印刷系統(tǒng)10，該系統(tǒng)包括一對互相間隔開的橋式支架12，在它們之間延伸有一橋接件14和一平臺支座16。橋接件14和平臺支座16互相間隔開。與橋接件14聯結的是一刻印頭18，該刻印頭從橋接件14向平臺支座16延伸，并提供沿Z軸線方向的運動。在平臺支座16上面對刻印頭18放置著一運動平臺20。該運動平臺20被構造成可相對于平臺支座16沿X和Y軸線運動。應該理解的是，刻印頭18可既提供沿X和Y軸線的運動又提供沿Z軸線的運動，而運動平臺20可既提供沿Z軸線的運動又提供沿X和Y軸線的運動。運動平臺裝置的一個例子在2002年7月11日提交的名稱為“分步重復刻印平板印刷系統(tǒng)(Step and Repeat Imprint Lithography Systems”的美國專利申請10/94414中有所揭示，該申請是轉讓給本發(fā)明的受讓人的，且該申請全文通過參考結合于此。一輻射源22連接于平板印刷系統(tǒng)10，以便將光化輻射照射在運動平臺20上。如圖所示，輻射源22與橋接件14聯結并包括一與輻射源22連接的發(fā)電機23。平板印刷系統(tǒng)10的運行通常由一處理器25控制，該處理器與平板印刷系統(tǒng)10有數據通訊。
參考附圖1和附圖2，連接到印刻頭18上的是模板26，模板26上具有模具28。模具28包括由多個間隔開的凹陷28a和凸起28b所限定的多個圖案特征。這多個圖案特征限定出一個原始圖案，該圖案可以轉移到設置在移動臺20上的基片30上。為此目的，刻印頭18和/或運動平臺20可改變模具28和基片30之間的距離“d”。這樣，就可將模具28上的圖案特征刻印到基片30的可流動區(qū)域中，這將在下面更詳細地討論。將輻射源22定位成使模具28置于輻射源22和基片30之間。因此，模具28由可使它基本上被輻射源22所產生的輻射穿透的材料制成。為此目的，模具28可由包括以下所列的材料制成石英、熔融二氧化硅、硅、藍寶石、有機聚合物、硅氧烷聚合物、硼硅玻璃、氟碳聚合物、或它們的組合。而模板26可由上述材料以及金屬形成。
參見圖2和3，在表面32的外形基本平坦的部分上設置有諸如刻印層34之類的可流動區(qū)域。一示例性可流動區(qū)域由刻印層34組成，該刻印層是沉積在基片30上的多個分隔開的材料36a的分散液滴36，將在下面對此進行詳細討論。用于沉積液滴36的一示例性系統(tǒng)在2002年7月9日提交、題目為“分配液體的系統(tǒng)和方法(System and Method for Dispensing Liquids)”的美國專利申請10/191749中揭示，該申請轉讓給本發(fā)明的受讓人，且其全文通過參考結合于此?？逃?4由材料36a形成，該材料36a可選擇性地聚合和交聯以在其中記錄下原始圖案，形成一記錄圖案。材料36a的一個示例性組成在2004年2月27日提交、題目為“刻蝕掩模用包括含硅材料的的組合物(Composition for an Etching Mask Comprising aSilicon-Containing Material)”的美國專利申請10/789319中有所揭示，該申請全文通過參考結合于此。材料36a在圖4中顯示為在點36b處已經交聯，形成交聯聚合物材料36c。
參考圖2、3和5，記錄在刻印層34中的圖案部分地是通過與模具28進行機械接觸產生的。為此目的，距離“d”要減小，以使印刻液滴36與模具28機械接觸，使液滴36蔓延開來，從而在面32上用材料36a的鄰接成型來形成刻印層34。在一個實施例中，減小距離“d”以使刻印層34的子部34a進入并填充凹陷28a。
為了方便對凹陷28a的填充，材料36a要具備在用鄰接材料36a的成型覆蓋面32的同時，能完全填充凹陷28a所必需的性質。在本實施方式中，疊加在凸起28b上的刻印層34的子部34b在達到期望的、通常為最小的距離“d”后依然保留，使子部34a的厚度為t1、子部34b的厚度為t2。取決于應用，厚度t1和t2可為任意所需的厚度。通常，選擇t1，使t1-t2≤3u，圖5中表示得更加清楚。子部34b通常稱為殘留層。
參考圖2、3和4，在達到所需的距離“d”后，輻射源22產生光化輻射，用來聚合和交聯材料36a，形成交聯的聚合材料36c。結果刻印層34的組合物從材料36a轉變成交聯聚合材料36c，該交聯聚合材料36c為固態(tài)。具體來說，交聯聚合材料36c進行固化，從而為刻印層34的側部34c提供與模具28的表面28c相一致的形狀，這在圖5中更清楚地示出。在將刻印層34轉化成由圖4所示的交聯聚合材料36c組成之后，移動圖2所示的刻印頭18來加大距離“d”，從而將模具28和刻印層34分開。
參見圖5，可采用附加處理來完成在基片30上印制圖案。例如，可蝕刻刻印層34和基片30，從而將刻印層34上的圖案轉印到基片30中，提供一有圖案的表面34c。為便于蝕刻，必要時可改變形成刻印層34的材料，從而對于基片30形成一相對蝕刻速率。
參考圖2、3和6，對于具有密集圖案特征如納米級的凹陷28a和凸起28b的模具，將液滴36以與模具28重疊的方式散布在基片30的區(qū)域40上以填充凹陷28a會需要較長的時間，從而減慢了刻印工藝的生產量。為了促進刻印工藝生產量的增加，液體36的分配方式，要最大程度地減少其延展到基片30上并填充凹陷28a所需的時間。這通過將液體36以兩維矩陣42的形式分配來實現，這樣可以最大程度地減小相鄰液滴36之間的間距，用S1和S2表示。如圖中所示，矩陣42的液滴36排列成六列n1-n6和六行m1-m6。但是，液滴36實際上可以任何兩維排列方式排列在基片30上。所希望的是在給定形成刻印層34需要的材料36a的總體積Vt時使矩陣42中的液滴36的數目達到最大。這樣就最大程度地減小了相鄰液滴36之間的間距S1和S2。而且，希望子集中的各液滴36各自的材料36a的量基本等同，定義為單位體積Vu。根據這些準則，可以確定矩陣42中的液滴36的總數目可以按下式確定(1)n＝Vt/Vu，式中Vt和Vu如上所定義。假設液滴36的正方矩陣，其中液滴36的總數目n定義如下(2)n＝n1×n2，式中n1是沿第一方向的液滴數目，n2是沿第二方向的液滴數目。沿第一方向即在一個維度中相鄰液滴36之間的間距S1可以按下式確定(3)S1＝L1/n1，式中L1是區(qū)域40沿第一方向的長度。類似地，沿相對于第一方向垂直延伸的第二方向的相鄰液滴36之間的間距S2可按下式確定(4)S2＝L2/n2，式中L2是區(qū)域40沿第二方向的長度。
考慮到各液滴36的材料36a的單位體積是取決于分配設備的，顯然，間距S1和S2取決于分辨率，即用于形成液體36的液滴分配設備(未示出)的操作控制。具體來說，希望分配設備(未示出)以使各液滴36中的材料36a的量最少的方式提供，這樣可以精確控制分配設備。以此方式，使各液滴36中的材料36a必須在其上移動的區(qū)域40的面積最小化。這縮短了填充凹陷28并使基片覆蓋上材料36a的鄰接層所需的時間。
液體36的分配可以是通過一次分配到整個基片30上來實現，或者是使用場至場(field-to-field)分配技術(如美國專利申請?zhí)?0/194414中所揭示的，該專利申請是美國專利申請?zhí)?004/0008334的主題，其內容通過引用結合于此)或者使用兩者的組合來實現對。為此目的，所使用的分配系統(tǒng)可以是基于壓電噴墨的技術或者是基于微螺線管的技術。結果，分配系統(tǒng)可以是用于分配材料36a的單噴嘴、噴嘴的線性陣列或噴嘴的矩陣，噴嘴的線性陣列和矩陣包括100個以上單獨的射流。噴嘴陣列射流可以用高達4KHz的頻率分配。噴嘴陣列射流可用開關體積控制或灰度體積控制能力(gray scale volume control capability)來得到，其中灰度體積控制能力可以分配1-42皮升(pL)范圍內的體積。當使用場至場分配技術時，噴嘴陣列中的各噴嘴可以基本上分配相同組成的材料36a，但是，在另一個實施方式中，噴嘴陣列的各噴嘴可以分配不同組成的材料36a。
噴墨裝置的例子包括從總部在英國劍橋的Xaar Corporation公司購得的Omnidot和從總部在New Hampshire州Lebanon的Dimatix Corporation的子公司Spectra購得的噴墨裝置。示例性的噴嘴陣列是多射流噴嘴系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括126個射流，以貨號XJ126由Xaar Corporation出售。此外，可以使用利用超聲噴頭來分配液滴36的霧化噴射法。另外，對于高粘度如等于或大于20厘泊的材料36a來說，可以使用從Xaar Corporation購得的Leopard，其中可以對材料36a進行加熱，以將材料36a的粘度降低到可噴射的范圍。
為了得到薄且均勻的殘留層且使用于刻印一個場的時間最少，可根據本發(fā)明采用若干方法。
例如，參考圖1-3和7，液滴36可根據模板26的設計進行分配，并使用合適的環(huán)境氣體(諸如He)以去除刻印層34中截留的氣體。這里描述根據模板26的設計分配材料36a的一個實施方式。液滴36具有小體積Vs，例如，約1-1000pL。首先，考慮模板26沒有圖案特征的情況。為了在基片30上實現給定的殘留層厚度，在步驟100處，計算所需材料36a的總體積V1，假設模板26將所有材料36a限定在模板26的有效區(qū)域。假設‘m’行和‘n’列的網格幾何形狀，在步驟102處，計算‘m’和‘n’，使得m×n×Vs＝V1。一旦選定‘m’和‘n’，在步驟104處，確認各網格點周圍的多邊形范圍，該范圍表示面積大致等于模板26的有效場的總面積除以(m×n)的控制區(qū)域Ac。在步驟106處，在模板26在控制區(qū)域Ac上沒有凹陷(沒有圖案特征)的各網格位置分配體積等于Vs的量。在步驟108處，在模板26在控制區(qū)域Ac完全凹陷的網格點，分配體積等于(Vs+Ac×d)的量，其中d是模板26的刻蝕深度。在步驟110處，在模板26在控制區(qū)域Ac的一部分(例如J％)凹陷的網格點，分配體積等于(Vs+Ac×d×J/100)的量，其中d是模板26的刻蝕深度。
參考圖2和7，刻印頭18的操作和液滴60的分配可通過與之處于數據通訊中的處理器24來控制。存儲器23與處理器21處于數據通訊中。存儲器23包括計算機可讀介質，該介質中具有計算機可讀程序。計算機可讀程序包括采用上述圖7所示的算法的指令、或類似的算法來計算分散到各網格點的體積的指令。這類軟件程序可以處理用于制造模板26的模板設計文件(諸如GDS II文件)。
參考圖2、3和7，要在各控制區(qū)域Ac分配的量可以通過以下方式實現對于液滴36中每一液滴體積一定的情況，可改變各控制區(qū)域Ac內的液滴36的圖案，或者對于液滴36的圖案一定的情況，可改變各控制區(qū)域Ac內的液滴36中每一液滴的體積，或者通過兩者的組合。此外，液滴圖案和/或每一液滴的體積的經驗判斷可用來獲得相鄰控制區(qū)域Ac之間形成的過渡區(qū)域的所需特性。
上述方法提供基片30區(qū)域中的必需材料36a，同時又最大程度地減小液滴36中的一個液滴中的材料36a在與液滴36中的相鄰液滴中的材料36a合并之前行進的路程，因此，減少了液體36填充到凹陷28a中所需的時間。在兩個或多個液滴36合并后，有可能在刻印層34中接近合并材料36a的邊界處產生氣泡。
希望最大程度地減少液滴36填充到凹陷28a中的時間，該時間定義為模板26的“填充時間”，同時產生基本上不間斷的刻印層34。為了最大程度地減少模板26的填充時間，可使材料36a置換合并中的材料36a之間的上述氣泡所需的時間最小化。為此目的，假設各液滴36的體積基本上相同，可以使氣泡體積的平均值和變化最小化。結果，合并中的材料36a可以更快的速率置換氣泡。使氣泡體積的平均值和變化最小化的液滴36的圖案的例子可包括，但不限于，六邊形和三角形。此外，發(fā)現對于厚度等于或小于30-40納米的殘留層，模板26的填充時間是可以接受的。
另外，最大程度地減小上述液滴36中的一個液滴中的材料36a在與液滴36的相鄰液滴中的材料36a合并之前行進的路程，可以降低材料36a的粘滯曳力，結果增加材料36a的速率，加大置換氣泡的力量，因此進一步最大限度地減少模板的填充時間。而且，如果氣泡是小體積區(qū)域，側向尺寸為微米級，厚度為亞微米級，則氣泡會迅速消散，提供快速刻印過程。
為了進一步最大限度地減少填充時間，可以提高氣泡的置換速率，使得合并中的材料36a可以更快的速率置換氣泡。為此目的，氣泡的置換速率與施加到氣泡上的液壓成比例。液壓可以是毛細管力和任何施加于液滴36的外加力的函數。為了提高液壓，可以提高毛細管力，其中毛細管力可以通過最大限度地減少厚度t2而最大化，如圖5所示。
應注意，以液體36分配的體積隨溫度而變化。例如，材料36a的粘度會變化，且啟動泵以使材料36a從噴嘴中排出的PZT材料的尺寸大小，它們都會改變液滴36的一個給定液滴的體積。壓電微型噴射裝置可包括一個內置的溫度傳感器，如同Xaar的126線性陣列的情況一樣，該溫度傳感器連續(xù)控制泵的溫度?？梢灾鸩叫纬梢粋€將溫度和電壓相關聯的校準曲線，以維持特定的體積輸出。該溫度曲線可以實時使用，在觀察到溫度變化時調節(jié)電壓水平。
另外，為了避免偶發(fā)故障導致液滴36缺失，可以使用這樣的分配技術，其中液滴36的一個子集或各個液滴是通過將材料36a從噴嘴向共同位置分配多次來形成，以至于總體效果是各液滴36具有所需的體積。具體地，液滴36的一個給定液滴的體積可以是共同位置處從噴嘴分配到的多次體積的平均值。
此外，對于基片30上的一個給定區(qū)域，多個液滴36以這樣的方式合并，即液滴的局部膜厚度是N個液滴36的平均值，從而如果液滴36中有一個液滴沒有分配到，則局部膜厚度與理想值的差值是(所需膜厚度/N)納米。因此，只要N足夠高(例如100)，則液滴36中缺失一個液滴的影響是可以忽略不計的。作為一個例子，對于X毫米長X毫米寬場，為了建立100納米的殘留層，需要的最小體積是(0.1×X2)納升，其中模板26中不具有任何圖案特征。如果模板26包括圖案特征，則需要更多的材料36a，從而進一步增加N。因此，模板26不具有圖案特征的情況是最糟糕的情況。壓電噴射可以提供低至1皮升的體積。如果假設80皮升是基本的液滴單位，則以納米為單位的RLT誤差與單位為毫米的場尺寸的長度特征lf的平方成反比(定義為單位為平方毫米的場面積的平方根，以包括多邊形場區(qū)域)。如下所示 如果由于液滴36的缺失液滴引起的允許膜厚度變化為5納米，則lf大約為4毫米，該值與所得的印刻層34的厚度無關。
應該注意到，隨著液滴36的體積下降，蒸發(fā)的影響增大。通過校準液滴的蒸發(fā)水平，可以提高分配體積以彌補蒸發(fā)。例如，與最后分配液滴36的基片區(qū)域相比，，先分配液滴36的區(qū)域需要更多的材料36a。先分配的液滴36蒸發(fā)的更多，因為在模板26和基片30在它們中間捕獲到液體之前經歷的時間更長。
參考圖3和5，在另一個實施方式中，液滴36可包含表面活性劑預調理溶液。可以使用表面活性劑預調理溶液，從而在液滴36與模板26接觸時，表面活性劑預調理溶液的一部分可以粘合到模板26上。采用上述方法，包含表面活性劑預調理溶液的液滴36可以以降低模板26的填充時間的圖案的形式置于基片30之上。但是，在另一個實施方式中，液滴36可以以抵消在相鄰的液滴36合并時可能發(fā)生的表面活性劑累積、并且便于液滴36填充凹陷28a的圖案的形式置于基片30之上。
在另一個實施方式中，希望在基片30和液滴36之間設置一襯層(未示出)。襯層(未示出)可包含一種與模板26的表面能相互作用低、而與液滴36的表面能相互作用高的組合物。該襯層(未示出)組合物具有最小的蒸發(fā)速率，粘度約為10-100cps，以便于它的旋涂沉積。襯層(未示出)和液滴36可以是可混溶的，襯層(未示出)可以是液滴36的溶劑。
以上描述的本發(fā)明的實施例是示范性的。可對上述的說明書進行多種變動和修改，而仍在本發(fā)明的范圍內。因此，本發(fā)明的范圍并不應受上述說明的局限，而是應參照所附權利要求書及其全范圍的等同方案來確定。
權利要求
1.一種用于將一個總體積的液體分配到基片之上的方法，所述方法包括將多個相互間隔開的液滴設置在所述基片的一個區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，所述區(qū)域中所述液滴的聚集體積隨要在此區(qū)域形成的圖案體積而變化。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積取決于要形成在所述區(qū)域上的殘留層的厚度。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積取決于要形成在所述區(qū)域的圖案特征的尺寸。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積取決于要形成在所述區(qū)域上的殘留層的厚度和要形成在所述區(qū)域的圖案特征的尺寸。
5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積還取決于包含所述圖案特征的所述區(qū)域的百分數。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配多個體積的材料以形成所述多個相互間隔開的液滴中的一個。
7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配所述多個相互間隔開的液滴，以彌補所述多個相互間隔開的液滴在圖案形成過程中的蒸發(fā)損失。
8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述設置還包括使所述多個相互間隔開的液滴中的一個與相鄰的所述多個相互間隔開的液滴中的一個液滴之間的間距最小化。
9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述多個相互間隔開的液滴具有選自主要由六邊形和三角形構成的組的圖案。
10.一種用于將一個總體積的液體分配到基片之上的方法，所述方法包括將第一組多個相互間隔開的液滴設置在所述基片的第一區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，所述第一區(qū)域中的所述第一組液滴的聚集體積隨要在此區(qū)域形成的第一圖案的體積而變化；將第二組多個相互間隔開的液滴設置在所述基片的第二區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，所述第二區(qū)域中所述第二組液滴的聚集體積隨要在此區(qū)域形成的與所述第一圖案不同的第二圖案的體積而變化。
12.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一圖案的所述體積取決于要形成在所述第一區(qū)域上的殘留層的厚度。
13.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述第二圖案的所述體積取決于要形成在所述第二區(qū)域上的殘留層的厚度和要形成在所述區(qū)域的圖案特征的尺寸。
13.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一圖案和所述第二圖案的所述體積取決于要形成在所述第一區(qū)域和第二區(qū)域的殘留層的厚度，所述第二圖案還取決于要形成在所述第二區(qū)域上的圖案特征的尺寸。
14.如權利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二圖案的所述體積還取決于包含所述圖案特征的所述第二區(qū)域的百分數。
15.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配多個具有體積的材料，以形成所述多個相互間隔開的液滴中的一個。
16.一種用于將一個總體積的液體分配到基片上的方法，所述方法包括將多個相互間隔開的液滴設置在所述基片的一個區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，所述區(qū)域中所述液滴的聚集體積隨要在所述區(qū)域上形成的殘留層的厚度和要在所述殘留層上形成的圖案的體積而變化。
17.如權利要求16所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積取決于要形成在所述區(qū)域的圖案特征的尺寸。
18.如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述圖案的所述體積還取決于包含所述圖案特征的所述區(qū)域的百分數。
19.如權利要求18所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配多個具有體積的材料，以形成所述多個相互間隔的液滴中的一個。
20.如權利要求19所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配所述多個相互間隔開的液滴以彌補所述多個相互間隔開的液滴在圖案形成過程中的蒸發(fā)損失。
21.一種用于將液體分配到基片上的方法，所述方法包括在所述基片上設置多個相互間隔開的液滴的圖案，所述多個液滴在相鄰的液滴之間形成多個氣泡，所述圖案的建立使所述多個氣泡的體積最小化。
22.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述圖案的建立還使所述多個氣泡中的各氣泡的所述體積的平均值最小化。
23.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述圖案的建立還使所述多個氣泡的各氣泡的所述體積的平均值和變化最小化。
24.如權利要求21所述的方法，其特征在于，設置所述圖案還包括將所述多個相互間隔開的液滴以選自主要由六邊形和三角形組成的組的圖案設置。
25.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述多個相互間隔開的液滴中的各液滴基本上具有相同的體積。
26.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配多個體積的材料，以形成所述多個相互間隔開的液滴中的一個。
27.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述設置還包括分配所述多個相互間隔開的液滴，以彌補所述多個相互間隔的液滴在圖案形成過程中的蒸發(fā)損失。
28.如權利要求21所述的方法，其特征在于，所述設置還包括使所述多個相互間隔開的液滴中的一個與相鄰的所述多個相互間隔開的液滴中的一個液滴之間的間距最小化。
全文摘要
本發(fā)明涉及將一個總體積的液體分配到基片之上的方法，所述方法包括將多個相互間隔開的液滴設置在所述基片的一個區(qū)域上，各液滴具有與之相關的單位體積，所述區(qū)域中所述液滴的聚集體積隨要在此區(qū)域形成的圖案的體積而變化；等等。
文檔編號B41J3/407GK101019066SQ200580017951
公開日2007年8月15日 申請日期2005年6月2日 優(yōu)先權日2004年6月3日
發(fā)明者P·B·拉德, I·M·麥克麥基, V·N·柴斯蓋特, N·E·蘇馬克, S·V·斯里尼瓦桑, D·沃斯, P·D·蘇馬克, E·B·弗萊徹 申請人:分子制模股份有限公司