專利名稱：用于使印刷過的印版重新成像的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有權(quán)利要求1前序部分特征的用于使印刷過的印版重新成像的方法。此外，本發(fā)明還涉及一種具有權(quán)利要求8前序部分特征的用于使印刷過的印版重新成像的裝置。
背景技術(shù)：
由現(xiàn)有技術(shù)公開了用于膠版印刷的可擦寫的印版，也就是可多次使用并且設(shè)有更換的印刷圖像并且從而可重復(fù)使用的印版。這種印版可具有基底和施加在基底上的微米級厚度的涂層，其中，所述涂層在成像期間局部地在圖像區(qū)域中大多借助于激光輻射再次去除，從而在親水和疏水區(qū)域中進行表面的按照圖像的結(jié)構(gòu)化。在重新成像之前，所述表面被清潔并且又設(shè)有閉合的涂層。所述涂層可以像DE 101 32 204 Al中所描述的那樣例如構(gòu)造為水膜。此外，例如由DE 102 27 054 Al公開了一些印版，所述印版代替所述的微米級厚度的涂層地具有僅僅納米級厚度的分子覆層，所述分子覆層同樣可借助于激光輻射結(jié)構(gòu)化并且在重新成像之前更新。相反，值得期望的是這樣一種印版，所述印版在無涂層介質(zhì)和覆層介質(zhì)以及相應(yīng)施加裝置的情況下就足夠。由WO 2010/029342 Al公開了一種可擦寫的印版，所述印版既沒有涂層也沒有覆層。所述印版在圖像區(qū)域中加載激光輻射、例如飛秒激光器的輻射并且從而局部地足夠親水化，以便產(chǎn)生符合圖像的結(jié)構(gòu)化部。印版的刪除例如通過足夠長時間的儲放并且優(yōu)選在不采用液態(tài)刪除介質(zhì)的情況下進行。當印版在印刷之后應(yīng)被馬上提供用于新印刷任務(wù)時， 這種儲放可以被視為是有缺點的。此外，DE 10 2005 035 896 Al與制造顏色不同或全息作用的結(jié)構(gòu)相關(guān)地描述了在采用飛秒激光器的情況下產(chǎn)生納米結(jié)構(gòu)。但是沒有描述將這種結(jié)構(gòu)用于制造印版并且特別是沒有描述在重新成像之前刪除所述結(jié)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
由所述背景出發(fā)，本發(fā)明的任務(wù)是，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改善的用于使印刷過的印版重新成像的方法，所述方法允許將用于重新成像并且在此特別是用于刪除的時間耗費和材料/經(jīng)濟耗費保持很小。此外，本發(fā)明的另外的或替代的任務(wù)在于，提供一種相對于現(xiàn)有技術(shù)改進的裝置，所述裝置同樣允許將所述耗費保持很小。按照本發(fā)明，所述任務(wù)通過具有權(quán)利要求1特征的方法和具有權(quán)利要求8特征的裝置解決。本發(fā)明的有利的進一步方案由從屬權(quán)利要求以及由說明書和附圖中得出。本發(fā)明的用于使印刷過的印版重新成像的方法是這樣一種方法，其中，將印版的基底整體地清潔掉油墨或亮油；對所述基底整體地進行研磨處理以刪除先前的印刷圖像； 對所述基底在圖像區(qū)域中局部地用脈沖式激光束處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像并且在此局部地產(chǎn)生納米級的和疏水的表面結(jié)構(gòu)；并且對所述基底整體地用親水增益劑進行處理，由此使得所述基底局部地在之前疏水的圖像區(qū)域中親水。
本發(fā)明的方法采用脈沖式的激光束并且從而采用激光脈沖。在此，以有利的方式在基底的表面上在圖像區(qū)域中產(chǎn)生納米結(jié)構(gòu)化部或納米拓撲圖，由此改變潤濕特性印版在成像后的區(qū)域中、即在圖像區(qū)域中疏水。在此不進行顯著的材料去除(燒蝕)或材料施加(涂層)，取而代之的是，在圖像區(qū)域中和非圖像區(qū)域中存在同樣的基底材料，但是其納米結(jié)構(gòu)不同。相反，為了提供必須的印刷對比度所需的區(qū)別僅僅來源于所述區(qū)域的不同納米級結(jié)構(gòu)化部。此外，通過這種方式提供的表面狀態(tài)在時間上是穩(wěn)定的，與此相反的是例如在現(xiàn)有技術(shù)中描述的結(jié)構(gòu)化水膜會容易蒸發(fā)。此外，本發(fā)明的方法采用親水增益劑。令人意料不到地發(fā)現(xiàn)，所述親水增益劑在起初滴落之后恰恰在納米結(jié)構(gòu)化的圖像區(qū)域中能夠特別良好地附著(也就是說其分子特別良好地錨固在那里)并且由此使得這些之前疏水的圖像區(qū)域親水。出人意料的是，激光處理過的疏水區(qū)域在親水增益之后比不是用激光處理過的區(qū)域更親水。由此以有利的方式足夠地增強成像區(qū)域與非成像區(qū)域之間的對比度，盡管與期望值不同。本發(fā)明方法的一個對于產(chǎn)生輻射區(qū)域與非輻射區(qū)域之間的強對比度有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，脈沖化的激光束包括光脈沖，所述光脈沖的持續(xù)時間 t至少處于皮秒范圍內(nèi)(t < 100*10_12秒)并且優(yōu)選至少處于飛秒范圍內(nèi)(t < 100*10_15 秒)。為此可采用所謂的短脈沖激光器，特別是皮秒激光器或飛秒激光器。本發(fā)明方法的一個同樣對于產(chǎn)生輻射區(qū)域與非輻射區(qū)域之間的強對比度有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，所述光脈沖在約1至約10微焦耳的脈沖能量的情況下持續(xù)約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。本發(fā)明方法的一個同樣對于成像、即基底表面的結(jié)構(gòu)化有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，所述基底在研磨處理之后并且在成像之前不進行涂層，特別是所述成像可緊接著所述研磨處理進行。本發(fā)明方法的一個用于產(chǎn)生所需的印刷對比度足夠的結(jié)構(gòu)化部有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，所述基底選自下述基底表金屬；金屬氧化物；金屬板；金屬板上的金屬氧化物層；鈦板或不銹鋼板上的鈦層；鋁板或不銹鋼板上的鋁層；不銹鋼板； 塑料；塑料薄膜。本發(fā)明方法的一個對于足夠的對比度增益有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，使用流體態(tài)的膠合介質(zhì)、特別是CMC (羧甲基化纖維素)的水性溶劑作為親水增益劑。本發(fā)明方法的一個由于其容易的技術(shù)轉(zhuǎn)換性有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于，使用流體態(tài)的研磨介質(zhì)進行研磨處理。本發(fā)明的用于使印刷過的印版重新成像的裝置的特征在于刪除單元和成像單元， 所述刪除單元對所述基底整體地用流體態(tài)的研磨介質(zhì)進行處理以刪除之前的印刷圖像，所述成像單元對所述基底在圖像區(qū)域中局部地用飛秒激光器進行處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像。本發(fā)明裝置的一個用于實現(xiàn)足夠的對比度增益有利并且因此優(yōu)選的進一步方案的特征可在于顯影單元，所述顯影單元對所述基底整體地用流體態(tài)的膠合介質(zhì)進行處理， 由此使得所述基底局部地在圖像區(qū)域中親水。在本發(fā)明的范圍內(nèi)還提出一種處理承印物的機器，例如印刷機，特別是用于平版膠印的處理頁張的輪轉(zhuǎn)印刷機，或者例如印版曝光機，其特征在于，設(shè)有至少一個上述參照本發(fā)明描述的裝置。所述的本發(fā)明和本發(fā)明的所述有利的進一步方案彼此間也以任意的組合構(gòu)成本發(fā)明的有利的進一步方案。特別優(yōu)選的是這樣一種方法，在該方法中進行整體清潔、在采用流體態(tài)研磨介質(zhì)的情況下進行整體研磨刪除、用飛秒脈沖對未涂層的金屬基底進行局部激光處理并且進行整體親水增益。


下面參照附圖借助于至少一個優(yōu)選的實施例詳細闡述本發(fā)明以及本發(fā)明的功能上有利的進一步方案。在附圖中，彼此相應(yīng)的元件分別設(shè)有同樣的參考標號。附圖中圖1是本發(fā)明的方法的優(yōu)選實施例的流程圖；和圖2是本發(fā)明的裝置的優(yōu)選實施例的示意性側(cè)視圖。
具體實施例方式圖1示出本發(fā)明的用于使之前印刷過至少一次的印版fe重新成像的方法的優(yōu)選實施例的流程圖。用于新印刷任務(wù)的重新成像可以借助同樣的或不同的印刷圖像進行。所述印刷任務(wù)可以包括僅僅一種承印物如單個紙頁張或紙板頁張的印刷或者包括多個這種承印物(即一系列這種頁張)的印刷。在方法步驟A中，印版fe的基底5b (參見圖1)——優(yōu)選鈦板或不銹鋼板整體地、 即至少在對于印刷使用的整個面上基本上完全地清潔掉先前的印刷任務(wù)的油墨或亮油。為此可采用、即施加市場上常見的印版清潔介質(zhì)例如Druck Chemie公司的“歐洲之星”并且又去除掉所述油墨或亮油。也可以接下來進行清洗和干燥。在方法步驟B中，為了刪除、即不可逆地去除掉之前的印刷圖像，按照本發(fā)明對所述基底恥整體地進行研磨處理。為此，優(yōu)選采用流體態(tài)的、特別是液態(tài)的研磨介質(zhì)8。經(jīng)過成功測試的是Agfa公司的“RC95”介質(zhì)。在測試中，用研磨介質(zhì)進行處理被證明足以刪除或破壞之前圖像的納米拓撲繪圖技術(shù)結(jié)構(gòu)并且將印版的表面置成用于后續(xù)成像的確定的初始狀態(tài)。在方法步驟C中，為了用后續(xù)的印刷圖像進行成像，按照本發(fā)明對所述基底恥局部地(即非整體地，而是在對于成像所需的地方)在圖像區(qū)域中用(優(yōu)選所謂的短脈沖激光器的或特別是飛秒激光器的)脈沖式激光束6進行處理并且在此局部地提供納米級的或疏水的、特別是(由于其相對于水或水性溶劑的非常小的潤濕特性)所謂的超疏水的表面結(jié)構(gòu)。光脈沖(在約1至約10微焦耳的脈沖能的情況下)持續(xù)優(yōu)選約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。在此局部地產(chǎn)生所述經(jīng)激光處理表面的納米級結(jié)構(gòu)化部，其具有優(yōu)選約10至約10000納米、特別是約100至約1000納米的凹部并且所述凹部的側(cè)向周期優(yōu)選為約10至10000納米、特別是約100至約1000納米。例如可采用鈦=Coherent公司的藍寶石激光器(RegA型)。在方法步驟D中，對基底恥用親水增益劑7進行整體處理，由此使得基底在之前疏水或甚至超疏水的圖像區(qū)域中按照本發(fā)明經(jīng)歷潤濕特性的逆變并且變得親水。優(yōu)選使用膠合劑例如柯達公司的“850中性樹膠”、愛克發(fā)公司的“AgUmZ”、“AgUmO”或“AgumC2”作為親水增益劑。CMC(羧甲基化纖維素)的水性溶劑基的膠合劑已被證明是特別有效的。在按照方法步驟A至D使先前已經(jīng)印刷過的印版重新成像之后，可以使該印版在方法步驟E中潤濕并且在方法步驟F中著墨。特別有利的是采用下述潤濕介質(zhì)，所述潤濕介質(zhì)包含膠合劑作為組成部分并且因此在繼續(xù)印刷期間保持印刷對比度，即親水區(qū)域和疏水區(qū)域的潤濕特性的對于印刷過程足夠的區(qū)別。接著，所述印版可以在方法步驟G中重新印刷。循環(huán)過程A至G可以多次進行。圖2示出本發(fā)明的用于使印刷過的印版重新成像的裝置的優(yōu)選實施例的示意性側(cè)視圖。圍繞中央滾筒1設(shè)置用于處理印版fe的單元，所述中央滾筒優(yōu)選構(gòu)造為印版滾筒 1并且承載印版如或基底恥。本發(fā)明裝置的重要的單元是刪除單元B'和成像單元C'，所述刪除單元用流體態(tài)的研磨介質(zhì)8對印版fe的基底恥進行整體處理以刪除先前的印刷圖像，所述成像單元對基底恥在圖像區(qū)域中用短脈沖激光器C'、優(yōu)選飛秒激光器C'進行局部處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像?？蛇x的是，所述裝置還可以包括清潔單元A'以及顯影單元D'，所述清潔單元將所述印版fe的基底恥整體地清潔掉油墨或亮油，所述顯影單元用流體態(tài)膠合介質(zhì)7對基底恥進行整體處理，由此使得基底恥在圖像區(qū)域中局部親水。同樣可選的是，還可以圍繞所述中央滾筒1設(shè)置用于潤濕的單元或潤濕機構(gòu)E' 以及用于著墨的單元或油墨機構(gòu)F'。印版fe的印刷可以通過傳遞滾筒2在傳遞滾筒2與壓印滾筒3的間隙中在承印物4上進行。替代所述方法地，也可以按照方法步驟C使尚未印刷過的并且尚未著墨的印版成像并且按照方法步驟D使之親水或超親水，而無需事先使印版清潔掉印刷油墨。能夠可選地設(shè)置按照方法步驟B的研磨處理以將印版的表面置成用于成像的確定的初始狀態(tài)。參考標號表1 印版滾筒2 傳遞滾筒3 壓印滾筒4 承印物5a，b印版/基底6 激光束7 親水增益劑8 研磨介質(zhì)Α,Α'清潔或清潔單元B,B'刪除或刪除單元C, C'成像或成像單元/激光器D,D'顯影或顯影單元Ε,Ε'潤濕或用于潤濕的單元F, F'著墨或用于著墨的單元G 印刷
權(quán)利要求
1.用于使印刷過的印版重新成像的方法，其中， 將印版(5a)的基底(5b)整體地清潔掉(A)油墨或亮油， 對所述基底(5b)整體地進行研磨處理(B)以刪除(B)先前的印刷圖像， 對所述基底(5b)在圖像區(qū)域中局部地用脈沖式激光束(6)處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像(C)并且在此局部地產(chǎn)生納米級的和疏水的表面結(jié)構(gòu)，并且 對所述基底(5b)整體地用親水增益劑(7)進行處理(D)，由此使得所述基底(5b)局部地在之前疏水的圖像區(qū)域中親水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，所述脈沖式激光束(6)包括光脈沖，所述光脈沖的持續(xù)時間至少處于皮秒范圍內(nèi)或飛秒范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，其特征在于，所述光脈沖在約1至約10微焦耳的脈沖能量的情況下持續(xù)約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，所述基底(5b)在研磨處理(B)之后并且在成像(C)之前不進行涂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，所述基底(5b)選自下述基底表 金屬， 金屬氧化物， 金屬板， 金屬板上的金屬氧化物層， 鈦板或不銹鋼板上的鈦層， 眷鋁板或不銹鋼板上的鋁層， 不銹鋼板， 塑料，和 塑料薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，使用流體態(tài)的膠合介質(zhì)、特別是CMC(羧甲基化纖維素)的水性溶劑作為親水增益劑(7)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，使用流體態(tài)的研磨介質(zhì)(8)進行研磨處理⑶。
8.用于使得印刷過的印版重新成像的裝置，其特征在于， 刪除單元(B')，所述刪除單元對所述印版(5a)的基底(5b)整體地用流體態(tài)的研磨介質(zhì)(8)進行處理以刪除之前的印刷圖像，和 成像單元(C')，所述成像單元對所述基底(5b)局部地在圖像區(qū)域中用飛秒激光器 (C')進行處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的裝置，其特征在于， 顯影單元(D')，所述顯影單元對所述基底(5b)整體地用流體態(tài)的膠合介質(zhì)(7)進行處理，由此使得所述基底(5b)局部地在圖像區(qū)域中親水。
10.機器，例如印刷機，特別是用于平版膠印的處理頁張的輪轉(zhuǎn)印刷機，或者例如印版曝光機，其特征在于，設(shè)有根據(jù)權(quán)利要求8至9中任一項所述的裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于使印刷過的印版(5a)重新成像的方法，提出，將印版(5a)的基底(5b)整體地清潔掉(A)油墨或亮油；對所述基底(5b)整體地進行研磨處理(B′)以刪除(B)先前的印刷圖像；對所述基底(5b)局部地在圖像區(qū)域中用脈沖式激光束(6)處理以用后續(xù)的印刷圖像進行成像(C)并且在此局部地產(chǎn)生納米級的和疏水的表面結(jié)構(gòu)；對所述基底(5b)整體地用親水增益劑(7)進行處理(D)，由此使得所述基底(5b)局部地在之前疏水的圖像區(qū)域中親水。本發(fā)明的裝置包括相應(yīng)的刪除單元(B′)和帶飛秒激光器的成像單元(C′)。
文檔編號B41C1/10GK102407652SQ2011102141
公開日2012年4月11日 申請日期2011年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月4日
發(fā)明者B·梅希勒, H·皮茨, R·斯皮爾格 申請人:海德堡印刷機械股份公司