專利名稱：光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種印刷版輥，特別涉及一種光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)薄膜印刷大都采用鍍鉻網(wǎng)紋輥，其不足之處在于:鍍鉻網(wǎng)紋輥的硬度為HV800-900，耐磨性差；機(jī)械同心度偏差>0.05毫米(版輥規(guī)格一般為直徑50毫米，長度1700毫米)，機(jī)械跳動幅度大，印刷過程易出現(xiàn)甩墨現(xiàn)象；版面光潔率較差，造成成品膜料層均勻度偏差大，達(dá)到8-15%。另外，鍍鉻輥一般使用擠壓辦法加工網(wǎng)點，如對基體進(jìn)行硬化處理，則處理后無法進(jìn)行擠壓加工。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的，在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，提供一種光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥。本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:一種光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，所述陶瓷網(wǎng)紋輥經(jīng)熱處理調(diào)質(zhì)對基體進(jìn)行硬化，其表面硬度達(dá)到HV1200-1300。所述陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋采用500瓦光纖激光雕刻機(jī)直接雕刻而成。所述陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋形狀為與輥面成一定角度的線條網(wǎng)點。本發(fā)明光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥與鍍鉻網(wǎng)紋輥相比，硬度達(dá)到HV1200-1300，提高了 50% ;機(jī)械同心度偏差<0.03毫米，機(jī)械跳動幅度降低了 66% ;版面光潔度達(dá)到
0.1 (GB10級標(biāo)準(zhǔn))，提高了 66% ;成品膜料層均勻度偏差降到2-4%，提高了 100%。
具體實施例方式本發(fā)明的光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，是經(jīng)熱處理調(diào)質(zhì)對基體進(jìn)行硬化，其表面硬度達(dá)到HV1200-1300。陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋采用500瓦光纖激光雕刻機(jī)直接雕刻而成。陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋形狀為與輥面成一定角度的線條網(wǎng)點。通過使用本發(fā)明的陶瓷網(wǎng)紋輥，改善了原有鍍鉻輥耐磨性、機(jī)械精度及印刷甩墨、料層不均勻問題。本發(fā)明的陶瓷網(wǎng)紋輥與現(xiàn)有技術(shù)的鍍鉻網(wǎng)紋輥的各項性能比較如表I所示:表I
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，其特征在于:所述陶瓷網(wǎng)紋輥經(jīng)熱處理調(diào)質(zhì)對基體進(jìn)行硬化，其表面硬度達(dá)到HV1200-1300。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，其特征在于:所述陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋采用500瓦光纖激光雕刻機(jī)直接雕刻而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，其特征在于:所述陶瓷網(wǎng)紋輥的網(wǎng)紋形狀為與輥面成一定角度的線條網(wǎng)點。
全文摘要
一種光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥，該陶瓷網(wǎng)紋輥經(jīng)熱處理調(diào)質(zhì)對基體進(jìn)行硬化，其表面硬度達(dá)到HV1200-1300。本發(fā)明光學(xué)薄膜印刷用陶瓷網(wǎng)紋輥與鍍鉻網(wǎng)紋輥相比，硬度達(dá)到HV1200-1300，提高了50％；機(jī)械同心度偏差≤0.03毫米，機(jī)械跳動幅度降低了66％；版面光潔度達(dá)到0.1，提高了66％；成品膜料層均勻度偏差降到2-4％，提高了100％。
文檔編號B41F31/26GK103171276SQ201110440498
公開日2013年6月26日 申請日期2011年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月23日
發(fā)明者樊榮 申請人:上海運(yùn)城制版有限公司