專(zhuān)利名稱(chēng)：硅器件以及硅器件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及由硅基板制造的硅器件、以及制造該硅器件的硅器件的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，公知有對(duì)硅基板進(jìn)行加工而制造成的硅器件。由于硅器件能夠使用與半導(dǎo)體裝置的制造エ序相同的エ序來(lái)進(jìn)行制造，故能夠精密地形成微細(xì)的形狀。硅器件雖具備微細(xì)的結(jié)構(gòu)，但謀求進(jìn)ー步的小型微細(xì)化、小型化。在硅器件的制造吋，通過(guò)在硅晶片上形成多個(gè)硅器件、并使用分割為硅器件芯片的制造方法，來(lái)高效地制造小型的硅器件。專(zhuān)利文獻(xiàn)1公開(kāi)有能夠防止由硅形成的噴嘴板的破裂、并且實(shí)現(xiàn)噴嘴板的薄型化的噴嘴板的制造方法。專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2005-349592號(hào)公報(bào)然而，分割為單個(gè)芯片的硅器件大多以芯片的狀態(tài)被處理。另外，大多以芯片的狀態(tài)作為產(chǎn)品而出廠(chǎng)。另ー方面，在能夠利用單體進(jìn)行處理的程度的大小的硅器件中，小型化伴隨的強(qiáng)度的降低是難以避免的材料力學(xué)現(xiàn)象。特別是硅器件的外形的角部為易于產(chǎn)生缺 ロ、破裂的部分。即，通過(guò)將硅器件以芯片的狀態(tài)進(jìn)行處理，存在硅器件因破裂、缺ロ而被損壞的可能性變高的課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述課題的至少一部分而完成的，能夠作為以下的方式或應(yīng)用例而實(shí)現(xiàn)。應(yīng)用例1本應(yīng)用例所涉及的硅器件是在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀的硅器件，其特征在干，上述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成上述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)上述邊分別相接并連接上述邊的角部曲線(xiàn)部。根據(jù)本應(yīng)用例所涉及的硅器件，角部形成為包括兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)邊分別相接的角部曲線(xiàn)部。即，角部被弄圓。一般地，尖鋭的角部在與其他的部件等碰撞等情況下易于產(chǎn)生缺ロ或者破裂。通過(guò)將該角部的尖鋭的部分弄圓，能夠抑制產(chǎn)生缺ロ或者破裂。應(yīng)用例2本應(yīng)用例所涉及的硅器件是在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀的硅器件，其特征在干，上述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成上述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊、以及與兩個(gè)上述邊分別連接的連接線(xiàn)部，在上述邊與上述連接線(xiàn)部之間的連接部形成的上述硅器件的角度為鈍角。根據(jù)本應(yīng)用例所涉及的硅器件，角部構(gòu)成為包括兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)邊分別連接的連接線(xiàn)部，在邊與連接線(xiàn)部之間的連接部形成的硅器件的角度為鈍角。即，角部的角被例如所謂的倒角。一般地，尖鋭的角部在與其他的部件等碰撞等情況下易于產(chǎn)生缺ロ或者破裂。通過(guò)對(duì)該角部的尖鋭的部分進(jìn)行倒角，能夠抑制產(chǎn)生缺ロ或者破裂。應(yīng)用例3上述應(yīng)用例所涉及的硅器件，優(yōu)選上述邊的至少ー個(gè)具備邊中央側(cè)部和邊端側(cè)部，上述邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)上述硅器件相對(duì)于上述邊中央側(cè)部凹陷的凹部，上述邊的上述邊端側(cè)部與上述角部曲線(xiàn)部或上述連接線(xiàn)部連接。根據(jù)該硅器件，邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)硅器件相對(duì)于邊中央側(cè)部凹陷的凹部， 邊端側(cè)部與角部曲線(xiàn)部或連接線(xiàn)部連接。利用該形狀，能夠抑制角部與其他的部件碰撞。另外，在排列硅器件的情況下，在角部與其他的硅器件之間，在俯視觀(guān)察時(shí)存在相當(dāng)于邊中央側(cè)部和邊端側(cè)部之間的階梯的間隙。利用該間隙，當(dāng)對(duì)在基板劃分形成的硅器件的外形進(jìn)行加工吋，能夠抑制對(duì)加工中的硅器件的相鄰的硅器件的角部的影響。應(yīng)用例4上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的上述邊的至少ー個(gè)還具備中央凹部，優(yōu)選上述中央凹部形成于從上述角部曲線(xiàn)部或上述連接線(xiàn)部分離的位置，上述中央凹部是在俯視觀(guān)察時(shí)上述硅器件相對(duì)于上述邊的其他部分凹陷的凹部。根據(jù)該硅器件，在俯視觀(guān)察時(shí)硅器件相對(duì)于邊的其他部分凹陷的中央凹部，形成干與角部分離的位置。在排列硅器件的情況下，在中央凹部與相鄰的硅器件之間，在俯視觀(guān)察吋，存在相當(dāng)于中央凹部與邊的其他部分之間的階梯的間隙。利用該間隙，當(dāng)對(duì)在基板劃分形成的硅器件的外形進(jìn)行加工吋，能夠抑制對(duì)加工中的硅器件的相鄰的硅器件的中央凹部的影響。在鄰接的硅器件中的一方的硅器件的邊的、面對(duì)另一方的硅器件的角部的部分配設(shè)中央凹部，由此能夠在對(duì)該另一方的硅器件的角部進(jìn)行加工吋，抑制一方的硅器件受到影響。應(yīng)用例5本應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，該硅器件的制造方法用于制造在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀的硅器件的硅器件，其特征在干，該硅器件的制造方法具有通過(guò)在劃分形成有上述硅器件的器件母基板形成貫通孔，來(lái)形成上述多邊形的角部的角部形成エ序；以及將上述器件母基板與上述硅器件分離的分離エ序。根據(jù)本應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，硅器件的角部的形狀通過(guò)在角部形成 エ序中在器件母基板形成貫通孔而形成。當(dāng)對(duì)在器件母基板劃分形成的硅器件的外形進(jìn)行加工吋，由于角部作為形成直線(xiàn)狀的邊的結(jié)果而形成，故角部的形狀被局限于尖鋭的形狀的情況較多。通過(guò)形成貫通孔而形成角部，由此能夠?qū)⒔遣康母┮曅螤钤O(shè)為任意的形狀。例如能夠?qū)⒔桥獔A或者進(jìn)行倒角。應(yīng)用例6上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選為，上述硅器件的上述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成上述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊； 以及與兩個(gè)上述邊分別相接并連接上述邊的角部曲線(xiàn)部，在上述角部形成エ序中形成上述角部曲線(xiàn)部。根據(jù)該硅器件的制造方法，硅器件的角部形成為包括兩個(gè)邊；以及分別與兩個(gè)邊相接的角部曲線(xiàn)部。即，角部的角被弄圓。一般地，尖鋭的角部在與其他的部件等碰撞等的情況下易于產(chǎn)生缺ロ或者破裂。通過(guò)將該角部的尖鋭的部分弄圓，能夠抑制產(chǎn)生缺ロ或者破裂。在通過(guò)形成貫通孔而形成角部的角部形成エ序中，通過(guò)形成貫通孔而形成角部，由此能夠?qū)⒔遣康母┮曅螤钤O(shè)為任意的形狀。通過(guò)在角部形成エ序中形成角部曲線(xiàn)部，能夠以任意的形狀容易地形成角部曲線(xiàn)部。應(yīng)用例7上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選為上述硅器件的上述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成上述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊； 以及與兩個(gè)上述邊分別連接的連接線(xiàn)部，在上述邊與上述連接線(xiàn)部之間的連接部形成的上述硅器件的角度為鈍角，在上述角部形成エ序中形成上述連接線(xiàn)部。根據(jù)該硅器件的制造方法，硅器件的角部形成為包括兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)邊分別連接的連接線(xiàn)部，在邊與連接線(xiàn)部之間的連接部形成的硅器件的角度為鈍角。即，角部的角例如被所謂的倒角。一般地，尖鋭的角部在與其他的部件等碰撞等情況下易于產(chǎn)生缺ロ 或者破裂。通過(guò)對(duì)該角部的尖鋭的部分進(jìn)行倒角，能夠抑制產(chǎn)生缺ロ或者破裂。在通過(guò)形成貫通孔而形成角部的角部形成エ序中，通過(guò)形成貫通孔而形成角部，由此能夠?qū)⒔遣康母┮曅螤钤O(shè)為任意的形狀。通過(guò)在角部形成エ序中形成連接線(xiàn)部，能夠以任意的形狀容易地形成連接線(xiàn)部。應(yīng)用例8上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選上述邊的至少ー個(gè)具備邊中央側(cè)部和邊端側(cè)部，上述邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)上述硅器件相對(duì)于上述邊中央側(cè)部凹陷的凹部，上述邊的上述邊端側(cè)部與上述角部曲線(xiàn)部或上述連接線(xiàn)部連接，在上述角部形成エ序中形成上述邊端側(cè)部。根據(jù)該硅器件的制造方法，硅器件所具備的邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)硅器件相對(duì)于邊中央側(cè)部凹陷的凹部，邊端側(cè)部與角部曲線(xiàn)部或連接線(xiàn)部連接。利用該形狀，能夠抑制角部與其他的部件碰撞。另外，在排列硅器件的情況下，在角部與其他的硅器件之間，在俯視觀(guān)察吋，存在相當(dāng)于邊中央側(cè)部與邊端側(cè)部之間的階梯的間隙。利用該間隙，當(dāng)對(duì)在基板劃分形成的硅器件的外形進(jìn)行加工吋，能夠抑制對(duì)加工中的硅器件的相鄰的硅器件的角部的影響。在利用形成貫通孔來(lái)形成角部的角部形成エ序中，通過(guò)利用形成貫通孔而形成角部，能夠?qū)⒔遣康母┮曅螤钤O(shè)為任意的形狀。通過(guò)在角部形成エ序中形成連接線(xiàn)部，能夠以任意的形狀容易地形成連接線(xiàn)部。應(yīng)用例9上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選上述邊的至少ー個(gè)還具備中央凹部，上述中央凹部形成于從上述角部曲線(xiàn)部或上述連接線(xiàn)部分離的位置，上述中央凹部是在俯視觀(guān)察時(shí)上述硅器件相對(duì)于上述邊的其他部分凹陷的凹部，上述角部形成エ序包括通過(guò)在上述器件母基板形成貫通孔來(lái)形成上述中央凹部的中央凹部形成エ序。根據(jù)該硅器件的制造方法，在硅器件中，在俯視觀(guān)察時(shí)硅器件相對(duì)于邊的其他部分凹陷的中央凹部，形成干與角部分離的位置。在排列硅器件的情況下，在中央凹部與鄰接的硅器件之間，在俯視觀(guān)察吋，存在相當(dāng)于中央凹部與邊的其他部分之間的階梯的間隙。利用該間隙，當(dāng)對(duì)在基板劃分形成的硅器件的外形進(jìn)行加工吋，能夠抑制對(duì)加工中的硅器件的相鄰的硅器件的中央凹部的影響。通過(guò)在相鄰的硅器件的一方的硅器件的邊的、面對(duì)另一方的硅器件的角部的部分配設(shè)中央凹部，當(dāng)對(duì)該另一方的硅器件的角部進(jìn)行加工吋，能夠抑制一方的硅器件受到影響。在利用形成貫通孔來(lái)形成角部的角部形成エ序中，通過(guò)利用形成貫通孔來(lái)形成角部，能夠?qū)⒔遣康母┮曅螤钤O(shè)為任意的形狀。能夠在角部形成エ序中形成中央凹部，以任意的形狀容易地形成中央凹部。應(yīng)用例10上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選在上述角部形成エ序中，利用硅的干蝕刻來(lái)形成上述貫通孔。根據(jù)該硅器件的制造方法，角部的形狀利用硅的干蝕刻而形成。一般地，干蝕刻能夠形成精密的形狀。通過(guò)利用干蝕刻來(lái)形成，能夠容易地將角部的俯視形狀設(shè)為任意的形狀。另外，為了形成硅器件的功能部分，使用干蝕刻的情況較多。在該情況下，在形成硅器件的功能部分的エ序中，同時(shí)形成貫通孔，由此能夠縮短加工時(shí)間。硅器件的功能部分例如是排出噴嘴基板的排出噴嘴孔。應(yīng)用例11上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選該硅器件的制造方法還具有將上述器件母基板中的、至少形成上述硅器件的部分的厚度減少為規(guī)定的厚度的薄板化工序，上述角部形成エ序包括在上述器件母基板的基板面形成貫通孔凹部的貫通孔凹部形成エ 序；以及利用上述薄板化工序除去上述貫通孔凹部的底部而形成上述貫通孔的孔貫通エ序。根據(jù)該硅器件的制造方法，角部形成エ序包括貫通孔凹部形成エ序；利用薄板化工序除去貫通孔凹部的底部而形成貫通孔的孔貫通エ序。由此，貫通孔凹部形成エ序能夠以實(shí)施薄板化工序之前的器件母基板亦即因厚度較厚而強(qiáng)度較高的器件母基板作為加 エ對(duì)象。由于孔貫通エ序是利用薄板化工序除去貫通孔凹部的底部的エ序，故貫通孔凹部的深度只要超過(guò)硅器件的厚度就足夠了，與在實(shí)施薄板化工序之前的器件母基板形成貫通孔的情況相比，能夠減少需要的加工量。應(yīng)用例12上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選該硅器件的制造方法還具有將上述器件母基板中的、至少形成上述硅器件的部分的厚度減少為規(guī)定的厚度的薄板化工序，上述角部形成エ序包括在上述器件母基板的基板面形成貫通孔凹部的貫通孔凹部形成エ 序；利用上述薄板化工序減少上述貫通孔凹部的底部的厚度的底部薄化工序；以及在利用上述底部薄化工序減少了厚度的上述底部從上述貫通孔凹部的相反ー側(cè)形成孔而形成上述貫通孔的孔貫通エ序。根據(jù)該硅器件的制造方法，角部形成エ序包括貫通孔凹部形成エ序；利用薄板化工序減少貫通孔凹部的底部的厚度的底部薄化工序；以及孔貫通エ序。由此，貫通孔凹部形成エ序能夠以實(shí)施薄板化工序之前的器件母基板亦即因厚度較厚而強(qiáng)度較高的器件母基板作為加工對(duì)象。貫通孔通過(guò)貫通孔凹部形成エ序、以及在貫通孔凹部的底部從貫通孔凹部的相反的ー側(cè)形成孔的孔貫通ェ序而形成。通過(guò)從兩側(cè)對(duì)貫通孔進(jìn)行加工，能夠精密地制作貫通
7孔的開(kāi)ロ的形狀。應(yīng)用例13上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選上述分離エ序具有向在上述器件母基板劃分形成的上述硅器件與上述硅器件之間的邊界部分照射激光光線(xiàn)而形成內(nèi)部重整層的重整層形成エ序。根據(jù)該硅器件的制造方法，在重整層形成エ序中，在硅器件與硅器件之間的邊界部分形成內(nèi)部重整層。內(nèi)部重整層是通過(guò)朝使內(nèi)部重整層的兩側(cè)分離的方向施加力而能夠在內(nèi)部重整層中容易地分離的層。不需要設(shè)置在使用研磨刀刃的情況下需要的研磨(切削)量，能夠有效地使用器件母基板。另外，能夠?qū)?nèi)部重整層容易地形成于在平面方向的器件母基板的任意的位置。因此，能夠不需要考慮分割方法所導(dǎo)致的限制而將形成硅器件的位置高效地設(shè)定于器件母基板上。應(yīng)用例14上述應(yīng)用例所涉及的硅器件的制造方法，優(yōu)選上述分離エ序具有對(duì)在上述器件母基板劃分形成的上述硅器件朝在上述器件母基板的面方向相互分離的方向施加力的膨脹ェ序。根據(jù)該硅器件的制造方法，分離エ序具有對(duì)硅器件朝相互分離的方向施加カ的膨脹エ序。因此，能夠向在器件母基板上的任意的位置形成的硅器件施加使硅器件分離的力。 因此，能夠不需要考慮分離方法所導(dǎo)致的限制而將形成硅器件的位置高效地設(shè)定于器件母基板上。


圖1是表示液滴排出裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的外觀(guān)立體圖。圖2(a)是表示液滴排出頭的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的外觀(guān)立體圖。圖2(b)是表示液滴排出頭的結(jié)構(gòu)的立體剖視圖。圖2(c)是表示液滴排出頭的排出噴嘴的部分的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖3(a)是表示單個(gè)噴嘴基板的俯視形狀的俯視圖。圖3(b)是表示母噴嘴基板的俯視形狀、以及劃分形成的噴嘴基板的排列的俯視圖。圖4是表示噴嘴基板的制造エ序的流程圖。圖5是表示噴嘴基板的制造エ序的母噴嘴基板的截面的說(shuō)明圖。圖6是表示角部貫通孔的形狀例的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖對(duì)硅器件以及硅器件的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施方式以作為硅器件的一例的噴嘴基板以及噴嘴基板的制造エ序?yàn)槔M(jìn)行說(shuō)明。噴嘴基板構(gòu)成液滴排出頭，是形成有將液體作為液滴而排出的排出噴嘴的基板。此外，以下的說(shuō)明中參照的附圖， 為了方便圖示，存在部件或部分的縱橫的比例尺與實(shí)際不同而表示的情況。液滴排出裝置首先，參照?qǐng)D1對(duì)具備液滴排出頭20的液滴排出裝置1進(jìn)行說(shuō)明，該液滴排出頭 20具有作為硅器件的一例的噴嘴基板25(參照?qǐng)D2)。圖1是表示液滴排出裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的外觀(guān)立體圖。
如圖1所示，液滴排出裝置1具備頭機(jī)構(gòu)部2、エ件(work)機(jī)構(gòu)部3、功能液供給部4、維護(hù)裝置部5以及排出裝置控制部6。頭機(jī)構(gòu)部2具有將功能液作為液滴而排出的液滴排出頭20。エ件機(jī)構(gòu)部3具有載置作為從液滴排出頭20排出的液滴的排出對(duì)象的エ件 W的エ件載置臺(tái)33。功能液供給部4具有貯存箱、中繼箱以及供給管，該供給管與液滴排出頭20連接，經(jīng)由供給管而向液滴排出頭20供給功能液。維護(hù)裝置部5具備實(shí)施液滴排出頭20的檢查或維護(hù)的各個(gè)裝置。排出裝置控制部6總括地控制上述各機(jī)構(gòu)部等。另外，液滴排出裝置1具備設(shè)置于地面上的多個(gè)支承腳8、以及設(shè)置干支承腳8的上側(cè)的平臺(tái)9。在平臺(tái)9的上表面配設(shè)有エ件機(jī)構(gòu)部3。エ件機(jī)構(gòu)部3沿平臺(tái)9的長(zhǎng)邊方向(X軸方向)延伸設(shè)置。在エ件機(jī)構(gòu)部3的上方配設(shè)有由固定于平臺(tái)9的兩根支承柱支承的頭機(jī)構(gòu)部2。頭機(jī)構(gòu)部2沿與エ件機(jī)構(gòu)部3正交的方向(Y軸方向)延伸設(shè)置。在平臺(tái)9的附近配置有功能液供給部4的貯存箱等，該功能液供給部4具有與頭機(jī)構(gòu)部2的液滴排出頭20 連通的供給管。在頭機(jī)構(gòu)部2的一側(cè)的支承柱的附近，維護(hù)裝置部5與エ件機(jī)構(gòu)部3排列且沿X軸方向延伸配設(shè)。在平臺(tái)9的下側(cè)收納有排出裝置控制部6。頭機(jī)構(gòu)部2具有頭單元21，其具有液滴排出頭20 ；以及頭滑架22，其支承頭單元 21，通過(guò)使頭滑架22沿Y軸方向移動(dòng)，來(lái)使液滴排出頭20沿Y軸方向自如地移動(dòng)。另外， 保持于移動(dòng)到的位置。エ件機(jī)構(gòu)部3通過(guò)使エ件載置臺(tái)33沿X軸方向移動(dòng)，來(lái)使載置于エ 件載置臺(tái)33的エ件W沿X軸方向自如地移動(dòng)。另外，保持于移動(dòng)到的位置。使液滴排出頭20朝Y軸方向移動(dòng)并停止于Y軸方向的排出位置，與位于下方的エ 件W的X軸方向的移動(dòng)同歩，并將液體作為液滴而排出。通過(guò)相對(duì)地控制沿X軸方向移動(dòng)的エ件W與沿Y軸方向移動(dòng)的液滴排出頭20，使液滴著落于エ件W上的任意的位置，由此能夠進(jìn)行所希望的描繪等。液滴排出頭接下來(lái)，參照?qǐng)D2對(duì)液滴排出頭20進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示液滴排出頭的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的圖。圖2(a)是表示液滴排出頭的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的外觀(guān)立體圖，圖2(b)是表示液滴排出頭的結(jié)構(gòu)的立體剖視圖，圖2(c)是表示液滴排出頭的排出噴嘴的部分的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖2所示的Y軸、以及Z軸，在液滴排出頭20被裝配于液滴排出裝置1的狀態(tài)下，與圖1所示的Y 軸、以及Z軸ー致。如圖2(a)所示，液滴排出頭20具備噴嘴基板25。在噴嘴基板25形成有兩列將多個(gè)排出噴嘴M排列為近似一條直線(xiàn)狀的噴嘴列24A。從排出噴嘴M將功能液作為液滴而排出，并著落于位于對(duì)置的位置的描繪對(duì)象物等，由此在該位置配置功能液。噴嘴列24A 在液滴排出頭20被裝配于液滴排出裝置1的狀態(tài)下，沿圖1所示的Y軸方向延伸設(shè)置。在噴嘴列24A中，排出噴嘴M以等間隔的噴嘴間距排列，在兩列噴嘴列24A之間，排出噴嘴M 的位置在Y軸方向錯(cuò)開(kāi)半個(gè)噴嘴間距。由此，作為液滴排出頭20，能夠在Y軸方向以半個(gè)噴嘴間距的間隔配置功能液的液滴。在噴嘴基板25被安裝于液滴排出頭20的狀態(tài)下，將形成液滴排出頭20的外表面的面記作噴嘴形成面25a。如圖2(b)以及(c)所示，液滴排出頭20在噴嘴基板25上層疊有壓カ室板51，在壓カ室板51上層疊有振動(dòng)板52。在壓カ室板51形成有總是填充向液滴排出頭20供給的功能液的貯液槽55。貯液槽陽(yáng)是由振動(dòng)板52、噴嘴基板25、以及壓力室板51的壁所圍起的空間。功能液從功能液供給部4向液滴排出頭20供給，經(jīng)由振動(dòng)板52的液供給孔53而向貯液槽55供給。另外， 在壓カ室板51形成有由多個(gè)頭隔壁57劃分的壓カ室58。利用振動(dòng)板52、噴嘴基板25以及兩個(gè)頭隔壁57包圍的空間是壓力室58。壓カ室58與排出噴嘴M分別對(duì)應(yīng)地設(shè)置，壓カ室58的數(shù)量與排出噴嘴M的數(shù)量相同。經(jīng)由位于兩個(gè)頭隔壁57之間的供給56，從貯液槽55朝壓カ室58供給功能液。頭隔壁57、壓カ室58、排出噴嘴M以及供給56的組合沿著貯液槽55排列成一列，排列成一列的排出噴嘴M形成噴嘴列24A。在圖2(b)中雖省略圖示，但在以貯液槽55為基準(zhǔn)而與包括圖示了的排出噴嘴M的噴嘴列24A大致對(duì)稱(chēng)的位置，也形成一列將排出噴嘴M并列配設(shè)成一列的噴嘴列24A。與該噴嘴列24A對(duì)應(yīng)的頭隔壁57、壓カ室58、以及供給56的組合排列成一列。在構(gòu)成振動(dòng)板52的壓カ室58的部分，分別固定有壓電元件59的一端。壓電元件 59的另一端經(jīng)由固定板(省略圖示)而被固定干支承液滴排出頭20整體的基臺(tái)(省略圖示)°壓電元件59具有層疊電極層與壓電材料的活性部。壓電元件59通過(guò)向電極層施加驅(qū)動(dòng)電壓，活性部沿長(zhǎng)邊方向(圖2(b)或(c)的振動(dòng)板52的厚度方向)收縮。通過(guò)解除施加于電極層的驅(qū)動(dòng)電壓，活性部恢復(fù)到原來(lái)的長(zhǎng)邊。向電極層施加驅(qū)動(dòng)電壓，壓電元件59的活性部收縮，由此固定壓電元件59的一端的振動(dòng)板52受到朝與壓カ室58相反的一側(cè)拉伸的力。振動(dòng)板52朝與壓カ室58相反的一側(cè)拉伸，由此振動(dòng)板52向壓カ室58的相反ー側(cè)撓曲。由此，壓力室58的容積增加，故功能液從貯液槽陽(yáng)經(jīng)由供給ロ 56向壓カ室58供給。接下來(lái)，當(dāng)解除施加于電極層的驅(qū)動(dòng)電壓吋，活性部恢復(fù)到原來(lái)的長(zhǎng)邊，由此壓電元件59按壓振動(dòng)板52。振動(dòng)板52被按壓而返回到壓カ室58側(cè)。由此，壓力室58的容積急劇地恢復(fù)到原來(lái)的狀態(tài)。即增加了的容積減少，故向填充于壓力室58內(nèi)的功能液施加壓力，功能液從與該壓カ室58連通而形成的排出噴嘴 24形成液滴并被排出。噴嘴基板以及母噴嘴基板接下來(lái)，參照?qǐng)D3對(duì)噴嘴基板25以及母噴嘴基板25A進(jìn)行說(shuō)明。噴嘴基板25以劃分形成多個(gè)噴嘴基板25的母噴嘴基板25A的形態(tài)而被制造。圖3是表示噴嘴基板以及母噴嘴基板的概要的說(shuō)明圖。圖3(a)是表示單個(gè)噴嘴基板的俯視形狀的俯視圖，圖3(b)是表示母噴嘴基板的俯視形狀、以及被劃分形成的噴嘴基板的排列的俯視圖。如圖3 (a)所示，噴嘴基板25是俯視觀(guān)察的外形為近似長(zhǎng)方形形狀的板狀的部件。 噴嘴基板25在近似長(zhǎng)方形形狀的板形成有兩列將多個(gè)排出噴嘴M排列為近似一條直線(xiàn)狀的噴嘴列24A。如上述那樣，圖3(a)所示的噴嘴形成面2 是在噴嘴基板25安裝于液滴排出頭20的狀態(tài)下，形成為液滴排出頭20的外表面的面。在近似長(zhǎng)方形形狀的四處位置的角的附近，形成有安裝孔26a、安裝孔^b、安裝孔^c以及安裝孔沈(1。安裝l^aJ6b、 26c,26d是為了將噴嘴基板25安裝于壓カ室板51而使用的孔。將構(gòu)成噴嘴基板25的近似長(zhǎng)方形形狀的四邊中的較長(zhǎng)的邊記作長(zhǎng)邊27、將較短的邊記作短邊28。將兩個(gè)長(zhǎng)邊27記作長(zhǎng)邊27a或長(zhǎng)邊27b，將兩個(gè)短邊28記作短邊28a 或短邊^(qū)b。按照?qǐng)D3 (a)所示俯視觀(guān)察，短邊^(qū)a、長(zhǎng)邊27a、短邊^(qū)b以及長(zhǎng)邊27b繞順時(shí)針依次排列。長(zhǎng)邊27具有長(zhǎng)邊主部271、長(zhǎng)邊端部273以及長(zhǎng)邊端部274。長(zhǎng)邊端部273與長(zhǎng)邊端部274分別與長(zhǎng)邊主部271的兩側(cè)連接，長(zhǎng)邊端部273與長(zhǎng)邊端部274相對(duì)于長(zhǎng)邊主部271凹陷。在長(zhǎng)邊主部271的中央形成有長(zhǎng)邊凹部275。長(zhǎng)邊凹部275也相對(duì)于長(zhǎng)邊主部271凹陷。短邊28具有短邊主部觀(guān)1、短邊端部觀(guān)3以及短邊端部觀(guān)4。短邊端部觀(guān)3與短邊端部284分別與短邊主部的兩側(cè)連接，短邊端部觀(guān)3與短邊端部284相對(duì)于短邊主部281凹陷。長(zhǎng)邊端部273、長(zhǎng)邊端部274、短邊端部觀(guān)3以及短邊端部觀(guān)4相當(dāng)于邊端側(cè)部。長(zhǎng)邊主部271以及短邊主部281相當(dāng)于邊中央側(cè)部。長(zhǎng)邊凹部275相當(dāng)于中央凹部。通過(guò)短邊^(qū)a的短邊端部284與長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部273經(jīng)由圓弧部^a (29)連接，短邊28a與長(zhǎng)邊27a經(jīng)由圓弧部四連接。通過(guò)長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274與短邊28b的短邊端部283經(jīng)由倒角部31連接，長(zhǎng)邊27a與短邊2 經(jīng)由倒角部31連接。通過(guò)短邊^(qū)b的短邊端部284與長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部273經(jīng)由圓弧部29b (29)連接，短邊^(qū)b與長(zhǎng)邊27b經(jīng)由圓弧部四連接。通過(guò)長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部274與短邊^(qū)a的短邊端部283經(jīng)由圓弧部29c (29)連接，長(zhǎng)邊27b與短邊28a經(jīng)由圓弧部四連接。圓弧部四相當(dāng)于角部曲線(xiàn)部。倒角部31相當(dāng)于連接線(xiàn)部。噴嘴基板25在母噴嘴基板25A上被劃分形成，通過(guò)分割母噴嘴基板25A而被取出。如圖3(b)所示，母噴嘴基板25A是圓形的硅晶片。在母噴嘴基板25A劃分形成有102個(gè)噴嘴基板25。將與在母噴嘴基板25A上劃分形成的噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27平行的方向記作V軸方向，將與短邊觀(guān)平行的方向記作H軸方向。在母噴嘴基板25A的H軸方向的中央，在V軸方向排列形成有六個(gè)噴嘴基板25。V軸方向的尺寸形成為，從不能在V軸方向排列六個(gè)噴嘴基板25的部分起，在V軸方向排列五個(gè)噴嘴基板25。在V軸方向排列六個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置與排列五個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置，錯(cuò)開(kāi)噴嘴基板25的V軸方向的長(zhǎng)度的大致一半的量。同樣地，在V軸方向排列五個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置與排列四個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置，錯(cuò)開(kāi)噴嘴基板25的V軸方向的長(zhǎng)度的大致一半的量。在V軸方向排列四個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置與排列三個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置，以及在V軸方向排列三個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置與排列兩個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置，錯(cuò)開(kāi)噴嘴基板25的V軸方向的長(zhǎng)度的大致一半的量。噴嘴基板制造工序接下來(lái)，參照?qǐng)D4、圖5以及圖6對(duì)在母噴嘴基板25A形成排出噴嘴M等、且與單個(gè)噴嘴基板25分離的、噴嘴基板25的制造工序進(jìn)行說(shuō)明。圖4是表示噴嘴基板的制造工序的流程圖。圖5是表示噴嘴基板的制造工序的母噴嘴基板的截面的說(shuō)明圖。圖6是表示角部貫通孔的形狀例的說(shuō)明圖。對(duì)于母噴嘴基板25A而言，無(wú)論是原材料的硅晶片的狀態(tài)的基板、形成噴嘴基板25的中途的狀態(tài)的基板、還是如果分割噴嘴基板25則在成為噴嘴基板25的狀態(tài)被劃分形成的狀態(tài)的基板，都記作母噴嘴基板25A。母噴嘴基板25A相當(dāng)于器件母基板。首先，在圖4的步驟Sl中，形成第一蝕刻用的抗蝕劑膜71。如圖5(a)所示，將使方孔開(kāi)口 72a、噴嘴孔開(kāi)口 7 等開(kāi)口的抗蝕劑膜71形成于母噴嘴基板25A的一面。噴嘴孔開(kāi)口 7 是為了形成排出噴嘴M而形成于抗蝕劑膜71的開(kāi)口部。方孔開(kāi)口 7 是為了形成角部貫通孔86而形成于抗蝕劑膜71的開(kāi)口部。角部貫通孔86是為了形成上述的、短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊端部273以及圓弧部^a ；長(zhǎng)邊端部274、短邊端部觀(guān)3以及倒角部31 ；短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊端部273以及圓弧部^b ；長(zhǎng)邊端部274、短邊端部283以及圓弧部^c ；以及長(zhǎng)邊凹部275等的外形形狀而形成的孔。接下來(lái)，在圖4的步驟S2中，實(shí)施第一蝕刻。第一蝕刻例如是干蝕刻。如圖5(b)所示，對(duì)在抗蝕劑膜71的方孔開(kāi)口 72a、噴嘴孔開(kāi)口 7 等露出的硅基板進(jìn)行蝕刻，并形成方孔凹部72、噴嘴孔凹部74等。方孔凹部72是構(gòu)成角部貫通孔86的一部分的凹部。噴嘴孔凹部74是構(gòu)成排出噴嘴M的一部分的凹部。第一蝕刻的蝕刻條件決定為，優(yōu)先考慮用于形成構(gòu)成最要求精度的排出噴嘴M的一部分的噴嘴孔凹部74的條件。形成方孔凹部72的第一蝕刻相當(dāng)于貫通孔凹部形成工序。方孔凹部72相當(dāng)于貫通孔凹部。接下來(lái)，在圖4的步驟S3中，利用熱氧化來(lái)形成氧化膜76。除去第一蝕刻所使用的抗蝕劑膜71，如圖5(c)所示，在包括方孔凹部72、噴嘴孔凹部74的面的母噴嘴基板25A的整面形成氧化膜76。接下來(lái)，在圖4的步驟S4中，實(shí)施母噴嘴基板25A的薄化工序。被投入到噴嘴基板25的制造工序的母噴嘴基板25A是為了具有強(qiáng)度而具有厚度比噴嘴基板25的規(guī)定的厚度厚的硅晶片。薄化工序是將形成噴嘴基板25的部分的厚度調(diào)整為噴嘴基板25的規(guī)定的厚度的工序。如圖5(d)所示，通過(guò)在母噴嘴基板25A的周緣殘留邊緣部125A而形成薄化凹部125，將形成噴嘴基板25的部分的厚度調(diào)整為噴嘴基板25的規(guī)定的厚度。薄化凹部125通過(guò)研磨母噴嘴基板25A的與形成有方孔凹部72、噴嘴孔凹部74的面相反一側(cè)的面而形成。圖5的圖5(d)之后的圖的母噴嘴基板25A，是將圖5(a) (c)中的母噴嘴基板25A在圖的上下方向反轉(zhuǎn)而進(jìn)行圖示的。薄化工序相當(dāng)于薄板化工序。接下來(lái)，在圖4的步驟S5中，形成第二蝕刻用的抗蝕劑膜81。如圖5(e)所示，將使方孔開(kāi)口 82a、噴嘴孔開(kāi)口 8 等開(kāi)口的抗蝕劑膜81形成于母噴嘴基板25A的、包括薄化凹部125的底面的面。噴嘴孔開(kāi)口 8 是為了形成排出噴嘴M而形成于抗蝕劑膜81的開(kāi)口部。方孔開(kāi)口 8 是為了形成角部貫通孔86而形成于抗蝕劑膜81的開(kāi)口部。接下來(lái)，在圖4的步驟S6中，實(shí)施第二蝕刻。第二蝕刻例如是干蝕刻。如圖5(f)所示，對(duì)在抗蝕劑膜81的方孔開(kāi)口 82a、噴嘴孔開(kāi)口 8 等露出的硅基板進(jìn)行蝕刻，形成方孔貫通部82、噴嘴孔貫通部84等。方孔貫通部82是從薄化凹部125的底面貫通于方孔凹部72的孔。噴嘴孔貫通部84是從薄化凹部125的底面貫通于噴嘴孔凹部74的孔。形成方孔貫通部82的第二蝕刻相當(dāng)于孔貫通工序。接下來(lái)，在圖4的步驟S7中，實(shí)施氧化膜除去工序。在氧化膜除去工序中，除去第二蝕刻所使用的抗蝕劑膜81以及氧化膜76。接下來(lái)，在步驟S8中，如圖5 (g)所示，在包括方孔貫通部82、方孔凹部72的壁面、噴嘴孔貫通部84、噴嘴孔凹部74的壁面的母噴嘴基板25A的整面形成氧化膜78。在方孔貫通部82以及方孔凹部72的壁面形成氧化膜78并形成角部貫通孔86。在噴嘴孔貫通部84以及噴嘴孔凹部74的壁面形成氧化膜78并形成排出噴嘴M。圖5(g)所示的排出噴嘴M雖是圓柱狀的孔，但排出噴嘴M的形狀，為了實(shí)施適宜地排出而形成為各種形狀，例如，具有圖2(c)所示的截面形狀。為了形成復(fù)雜的截面形狀的排出噴嘴對(duì)，適當(dāng)?shù)亟M合并實(shí)施形成開(kāi)口的大小不同的抗蝕劑膜的抗蝕劑膜形成工序、實(shí)施各向同性蝕刻的蝕刻工序、以及實(shí)施各向異性蝕刻的蝕刻工序。角部貫通孔86相當(dāng)于貫通孔。在此，參照?qǐng)D6對(duì)圖5(g)所示的角部貫通孔86的俯視形狀進(jìn)行說(shuō)明。圖6(a)所示的母噴嘴基板25A與圖3 (b)所示的母噴嘴基板25A相同。在圖6(b)中表示俯視形狀的角部貫通孔861，如在圖6(a)中利用B表示的圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27b與短邊^(qū)a的角部的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔861形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)a的短邊端部觀(guān)3以及圓弧部29c0從靠近形成短邊端部觀(guān)3的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)381，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)a的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)471，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(c)中表示俯視形狀的角部貫通孔862，如在圖6 (a)中利用C表示的圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27b與短邊^(qū)a的角部的形狀、以及短邊28a與長(zhǎng)邊27a的角部的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔862形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)a的短邊端部觀(guān)3以及圓弧部^c ；以及一個(gè)噴嘴基板25的短邊^(qū)a的短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部273以及圓弧部^a。從靠近形成短邊端部284的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)382，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)a的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成短邊端部觀(guān)3的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)383，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)a的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部273或長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)472，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(d)中表示俯視形狀的角部貫通孔863，如在圖6 (a)中利用D表示的圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27b與短邊^(qū)a的角部的形狀、短邊^(qū)b與長(zhǎng)邊27b的角部的形狀、以及長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊凹部275的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔863形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)a的短邊端部觀(guān)3、以及圓弧部^c ；一個(gè)噴嘴基板25的短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部273、以及圓弧部^b ；以及一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊凹部275。從靠近形成長(zhǎng)邊端部273的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)473，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。從靠近形成長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)474，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。從靠近形成短邊端部284或短邊端部283的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)384，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部觀(guān)1、被分割的一側(cè)形成短邊的短邊主部的分割線(xiàn)38。在圖6(e)中表示俯視形狀的角部貫通孔864，如在圖6 (a)中利用E表示的圓的部分那樣，是形成噴嘴基板25的四處位置的角部的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔864形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)a的短邊端部觀(guān)3、以及圓弧部^c ；以及一個(gè)噴嘴基板25的短邊^(qū)a的短邊端部洲4、長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部273、以及圓弧部^a。在角部貫通孔864還形成有一個(gè)噴嘴基板25的短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部273、以及圓弧部^b ；—個(gè)噴嘴基板25的短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)3、長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274、以及倒角部31。從靠近形成短邊端部284或短邊端部283的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)385以及分割線(xiàn)386，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部觀(guān)1、被分割的一側(cè)形成短邊28a的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部273或長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)475以及分割線(xiàn)476，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(f)中表示俯視形狀的角部貫通孔865，如在圖6 (a)中利用F表示圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27a與短邊^(qū)b的角部的形狀、短邊28a與長(zhǎng)邊27a的角部的形狀、以及長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊凹部275的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔865形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)3、以及倒角部31 ；—個(gè)噴嘴基板25的短邊28a的短邊端部觀(guān)4、長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部273、以及圓弧部^a ；以及一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊凹部275。從靠近形成短邊端部283或短邊端部284的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)387，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部觀(guān)1、被分割的一側(cè)形成短邊的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)477，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。從靠近形成長(zhǎng)邊端部273的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)478，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(g)中表示俯視形狀的角部貫通孔866，如圖6(a)中利用G表示圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27a與短邊28b的角部的形狀、以及長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊凹部275的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔866形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274、短邊28b的短邊端部觀(guān)3、以及倒角部31 ；以及一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊凹部275。從靠近形成短邊端部283的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)389，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)479，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。從與分割線(xiàn)479相反的一側(cè)的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)480，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(h)中表示俯視形狀的角部貫通孔867，如在圖6 (a)中利用H表示的圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27a與短邊^(qū)b的角部的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔867形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274、短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)3、以及倒角部31。
從靠近形成短邊端部283或短邊端部284的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)390，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部274的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)481，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。在圖6(i)中表示俯視形狀的角部貫通孔868，如在圖6 (a)中利用I表示的圓的部分那樣，是形成長(zhǎng)邊27b與短邊28b的角部的形狀、以及長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊凹部275的形狀的角部貫通孔86。在角部貫通孔868形成有一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊端部273、短邊^(qū)b的短邊端部觀(guān)4、以及圓弧部^b ；以及一個(gè)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊凹部275。從靠近形成短邊端部284的部分的端沿H軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)391，是被分割的一側(cè)形成短邊^(qū)b的短邊主部的分割線(xiàn)38。從靠近形成長(zhǎng)邊端部273的部分的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)482，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271、一側(cè)形成長(zhǎng)邊27b的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。從與分割線(xiàn)482相反的一側(cè)的端沿V軸方向延伸設(shè)置的分割線(xiàn)483，是被分割的一側(cè)形成長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊主部271的分割線(xiàn)47。接下來(lái)，在圖4的步驟S9中，在分割線(xiàn)38以及分割線(xiàn)47的部分形成重整層。另外，在母噴嘴基板25A的噴嘴基板25之外的、邊緣部125A等也形成分割用的重整層。重整層使基于多光子吸收的重整區(qū)域連續(xù)。多光子吸收通過(guò)使用激光加工裝置朝加工對(duì)象物照射激光，并使該激光在重整的部分聚光而產(chǎn)生。僅憑借施加微小的力，就能夠以重整區(qū)域?yàn)槠瘘c(diǎn)分割形成有重整區(qū)域的加工對(duì)象物。接下來(lái)，在步驟SlO中，將母噴嘴基板25A與單個(gè)噴嘴基板25的芯片分離。分離的工序具有帶式載體粘貼工序、膨脹工序以及剝離工序。帶式載體粘貼工序是向具有伸縮性的帶式載體粘貼形成有重整層的母噴嘴基板25A的工序。膨脹工序是通過(guò)向帶式載體施加二維的拉伸力而平面地拉長(zhǎng)，來(lái)將粘貼于帶式載體的母噴嘴基板25A分割為單個(gè)噴嘴基板25的芯片的工序。具有伸縮性的帶式載體雖被拉長(zhǎng)，但由于母噴嘴基板25A不能伸長(zhǎng)，故利用形成有重整層的分割線(xiàn)38以及分割線(xiàn)47的部分而被分割。剝離工序是從帶式載體剝離噴嘴基板25的芯片的工序。實(shí)施步驟S10，并結(jié)束噴嘴基板25的制造工序。以下，記載由實(shí)施方式帶來(lái)的效果。根據(jù)本實(shí)施方式，得到以下的效果。(1)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27與短邊28的角部的三處位置經(jīng)由圓弧部四連接。通過(guò)將角設(shè)為圓弧，與尖銳的角相比，能夠抑制角部在與較硬的物體等碰撞時(shí)產(chǎn)生缺口、破裂的情況。(2)噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27與短邊28的角部的一處位置經(jīng)由倒角部31連接。通過(guò)經(jīng)由倒角部31進(jìn)行連接，由倒角部31與長(zhǎng)邊27 (長(zhǎng)邊端部274)或短邊28 (短邊端部283)形成的角的角度形成為鈍角。由此，與例如90度的尖銳的角相比，能夠抑制角部在與較硬的物體等碰撞時(shí)產(chǎn)生缺口、破裂的情況。(3)在母噴嘴基板25A中，例如，在V軸方向排列六個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置與排列五個(gè)的列的噴嘴基板25的V軸方向的位置，錯(cuò)開(kāi)噴嘴基板25的V軸方向的長(zhǎng)度的大致一半的量。在將噴嘴基板25的V軸方向的位置設(shè)為相同的情況下，在母噴嘴基板25A中在V軸方向排列五個(gè)的列，能夠排列的噴嘴基板25僅為四個(gè)。通過(guò)錯(cuò)開(kāi)V軸方向的噴嘴基板25的位置，能夠在相同大小的基板使噴嘴基板25的安裝數(shù)量增多。(4)相對(duì)于長(zhǎng)邊主部271，長(zhǎng)邊端部273與長(zhǎng)邊端部274是凹陷的，相對(duì)于短邊主部觀(guān)1，短邊端部283與短邊端部284是凹陷的。角部貫通孔86的俯視形狀形成為包括該凹陷的形狀。由于與無(wú)凹陷部分的情況相比，角部貫通孔86的截面積變大，故能夠容易地形成角部貫通孔86。當(dāng)對(duì)分割線(xiàn)47或分割線(xiàn)38的位置進(jìn)行加工時(shí)，例如，即使加工至在圖6(e)所示的分割線(xiàn)475分離的噴嘴基板25的端，相對(duì)于在分割線(xiàn)476分離的噴嘴基板25，至少存在短邊端部觀(guān)3以及短邊端部觀(guān)4與短邊主部281之間的階梯量的間隙。由此，當(dāng)對(duì)分割線(xiàn)47或分割線(xiàn)38進(jìn)行加工時(shí)，能夠抑制對(duì)鄰接的噴嘴基板25的影響。(5)為了將母噴嘴基板25A與噴嘴基板25分離，首先形成角部貫通孔86。角部貫通孔86的截面形狀能夠利用形成于抗蝕劑膜的開(kāi)口的形狀而容易地設(shè)為任意的形狀。因此，能夠容易地形成角部的圓弧部四、倒角部31。(6)長(zhǎng)邊27具有相對(duì)于長(zhǎng)邊主部271凹陷的長(zhǎng)邊凹部275。當(dāng)對(duì)分割線(xiàn)38的位置進(jìn)行加工時(shí)，例如，即使加工至在圖6(f)所示的分割線(xiàn)387分離的噴嘴基板25的端，相對(duì)于面對(duì)鄰接的噴嘴基板25的分割線(xiàn)387的長(zhǎng)邊27，也至少存在長(zhǎng)邊凹部275與長(zhǎng)邊主部271之間的階梯量的間隙。由此，當(dāng)對(duì)V軸方向的位置錯(cuò)開(kāi)的噴嘴基板25的分割線(xiàn)38進(jìn)行加工時(shí)，能夠抑制對(duì)鄰接的V軸方向的位置錯(cuò)開(kāi)的噴嘴基板25的影響。(7)角部貫通孔86在薄化工序之后通過(guò)形成方孔貫通部82而形成。在薄化工序中被研磨的面是與形成方孔凹部72的面相反一側(cè)的面。由此，能夠在薄化工序中抑制異物進(jìn)入到72 (角部貫通孔86)。(8)角部貫通孔86在形成排出噴嘴對(duì)的工序中，與排出噴嘴對(duì)同時(shí)形成。由此，不需要僅為了形成角部貫通孔86而設(shè)置該加工工序，能夠抑制為了形成角部貫通孔86而增加加工時(shí)間。另外，由于能夠利用共通的抗蝕劑膜71來(lái)形成角部貫通孔86與排出噴嘴M，故與為了形成角部貫通孔86與排出噴嘴M而分別形成單個(gè)抗蝕劑膜的情況相比，能夠提高角部貫通孔86與排出噴嘴M的相對(duì)位置精度。即，能夠提高角部相對(duì)于排出噴嘴M的相對(duì)位置精度。(9)噴嘴基板25的四個(gè)角在三處位置形成圓弧部四，在一處位置形成有倒角部31。由此能夠利用角部的形狀來(lái)辨別噴嘴基板25的姿勢(shì)。(10)母噴嘴基板25A的分割線(xiàn)38以及分割線(xiàn)47的分割，在分割線(xiàn)38以及分割線(xiàn)47形成重整層，利用膨脹工序而分離。使用激光加工裝置的重整層的形成，從母噴嘴基板25A的面方向的任意的位置開(kāi)始加工，能夠在任意的位置容易地停止加工或者改變加工方向。由此，母噴嘴基板25A的噴嘴基板25的排列，即使是噴嘴基板25的端的位置不一致的排列，也能夠在分割線(xiàn)38以及分割線(xiàn)47容易地形成重整層。以上，雖參照附圖并對(duì)優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但優(yōu)選的實(shí)施方式并不局限于上述實(shí)施方式。實(shí)施方式當(dāng)然能夠在不脫離主旨的范圍內(nèi)施加各種變更，也能夠如以下那樣進(jìn)行實(shí)施。變形例1在上述實(shí)施方式中，作為硅器件，雖以液滴排出頭20所具備的噴嘴基板25為例進(jìn)行了說(shuō)明，但在上述實(shí)施方式中說(shuō)明的硅器件的形狀、硅器件的制造方法也能夠應(yīng)用于其他的硅結(jié)構(gòu)器件的形狀、制造方法。特別是針對(duì)薄板化的設(shè)備的應(yīng)用是有效的。例如，能夠舉出可視、紅外的圖像傳感器、硅傳聲器、硅壓力傳感器、硅陀螺傳感器元件、應(yīng)用微型致動(dòng)器的光學(xué)設(shè)備、超聲波陣列元件、噴墨頭和應(yīng)用于此的噴嘴板等部件、激光掃描用鏡設(shè)備、硅振蕩器、時(shí)鐘、硅制的過(guò)濾器、μ發(fā)電設(shè)備等。變形例2在上述實(shí)施方式中，噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27的與邊端側(cè)部相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)邊端部273和長(zhǎng)邊端部274相對(duì)于與邊中央側(cè)部相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)邊主部271凹陷。短邊28的與邊端側(cè)部相當(dāng)?shù)亩踢叾瞬?83和短邊端部觀(guān)4，相對(duì)于與邊中央側(cè)部相當(dāng)?shù)亩踢呏鞑堪枷?。然而，?gòu)成硅器件的外形的邊不是必須具有邊中央側(cè)部與邊端側(cè)部，邊端側(cè)部也不是必須相對(duì)于邊中央側(cè)部凹陷。邊的形狀也可以是無(wú)階梯的直線(xiàn)狀的形狀。變形例3在上述實(shí)施方式中，噴嘴基板25的長(zhǎng)邊27雖具備相當(dāng)于中央凹部的長(zhǎng)邊凹部275，但構(gòu)成硅器件的外形的邊不是必須具備中央凹部。邊的形狀也可以是無(wú)階梯的直線(xiàn)狀的形狀。變形例4在上述實(shí)施方式中，角部貫通孔86通過(guò)形成方孔凹部72，在實(shí)施薄化工序之后形成方孔貫通部82來(lái)形成。然而，不是必須利用多個(gè)孔形成工序來(lái)形成貫通孔。貫通孔也可以利用一次貫通孔形成工序，通過(guò)為了形成貫通孔而形成充分的長(zhǎng)度的孔或充分的深度的凹部來(lái)形成。變形例5在上述實(shí)施方式中，通過(guò)長(zhǎng)邊27a的長(zhǎng)邊端部274與短邊^(qū)b的短邊端部283經(jīng)由相當(dāng)于連接線(xiàn)部的倒角部31連接，長(zhǎng)邊27a與短邊28b經(jīng)由倒角部31連接。然而，連接線(xiàn)部不是必須利用倒角而形成。由邊與連接線(xiàn)部形成的角度也可以是大于135度的角度。另外，連接線(xiàn)部并不局限于直線(xiàn)，也可以是曲線(xiàn)。變形例6在上述實(shí)施方式中，作為原材料的母噴嘴基板25A具有比噴嘴基板25的厚度厚的厚度，通過(guò)實(shí)施相當(dāng)于薄板化工序的薄化工序，來(lái)調(diào)整噴嘴基板25的厚度。然而，不是必須實(shí)施薄板化工序。作為器件母基板，也可以使用調(diào)整為硅器件的厚度的硅基板。變形例7在上述實(shí)施方式中，在短邊28或長(zhǎng)邊27中的、短邊主部281與短邊端部283或短邊端部284之間的階梯部分、及長(zhǎng)邊主部271與長(zhǎng)邊端部273或長(zhǎng)邊端部274之間的階梯部分中，短邊主部與短邊端部283或短邊端部觀(guān)4、或者長(zhǎng)邊主部271與長(zhǎng)邊端部273或長(zhǎng)邊端部274，利用與短邊主部281或長(zhǎng)邊主部271大致正交的階梯部連接。然而，邊中央側(cè)部與邊端側(cè)部之間的連接部分的形狀不是必須是該形狀。在器件母基板中形成于鄰接位置的一方的硅器件的邊端側(cè)部與另一方的硅器件的邊端側(cè)部也可以是利用圓弧連接的形狀。階梯部也可以是相對(duì)于邊傾斜的直線(xiàn)或曲線(xiàn)。變形例8在上述實(shí)施方式中，相當(dāng)于中央凹部的長(zhǎng)邊凹部275的底與長(zhǎng)邊主部271利用與長(zhǎng)邊凹部275的底以及長(zhǎng)邊主部271大致正交的階梯部連接。然而，中央凹部與邊之間的連接部分的形狀不是必須是該形狀。在器件母基板中形成于鄰接位置的一方的硅器件的中央凹部的底與另一方的硅器件的中央凹部的底或邊端側(cè)部也可以是利用圓弧連接的形狀。階梯部也可以是相對(duì)于中央凹部的底、邊傾斜的直線(xiàn)或曲線(xiàn)。變形例9在上述實(shí)施方式中，噴嘴基板25的四個(gè)角部在三處位置形成相當(dāng)于角部曲線(xiàn)部的圓弧部四，在一處位置形成相當(dāng)于連接線(xiàn)部的倒角部31。然而，不是必須在角部的三處位置形成角部曲線(xiàn)部、在一處位置形成連接線(xiàn)部。形成角部曲線(xiàn)部的角部、形成連接線(xiàn)部的角部也可以是任意處位置。也可以是在硅器件的角部的全部形成角部曲線(xiàn)部或連接線(xiàn)部的結(jié)構(gòu)。變形例10在上述實(shí)施方式中，相當(dāng)于角部曲線(xiàn)部的圓弧部^a、圓弧部^b、以及圓弧部^c的形狀相互大致相同。另外，相當(dāng)于與圓弧部^a、圓弧部^b、或圓弧部29c連續(xù)的邊端側(cè)部的長(zhǎng)邊端部273、長(zhǎng)邊端部274、短邊端部觀(guān)3、以及短邊端部284的形狀也相互大致相同。然而，這些形狀相互大致相同并不是必須的。角部曲線(xiàn)部、邊端側(cè)部的形狀也可以針對(duì)各角部的每個(gè)而不同的形狀。通過(guò)使角部曲線(xiàn)部、邊端側(cè)部的形狀針對(duì)各角部的每個(gè)而不同，能夠利用角部的角部曲線(xiàn)部、邊端側(cè)部的形狀來(lái)辨別是哪個(gè)角部。變形例11在上述實(shí)施方式中，液滴排出頭20雖具備兩列多個(gè)排出噴嘴M排列為近似一條直線(xiàn)狀的噴嘴列24A，但液滴排出頭所具備的噴嘴列也可以是任意列。符號(hào)說(shuō)明1...液滴排出裝置；2...頭機(jī)構(gòu)部；20...液滴排出頭；24...排出噴嘴；24A...噴嘴列；25...噴嘴基板；25A...母噴嘴基板；2 ...噴嘴形成面；27...長(zhǎng)邊；27a,27b...長(zhǎng)邊；28...短邊..短邊；29...圓弧部；29&、四13、四(；...圓弧部；31...倒角部；38...分割線(xiàn)；47...分割線(xiàn)；71、81...抗蝕劑膜；72...方孔凹部；72a...方孔開(kāi)口 ；74...噴嘴孔凹部；74a...噴嘴孔開(kāi)口 ；76...氧化膜；78...氧化膜；82. · ·方孔貫通部；82a. · ·方孔開(kāi)口 ；84. · ·噴嘴孔貫通部；84a. · ·噴嘴孔開(kāi)口 ；86. · ·角部貫通孔；125...薄化凹部；125A...邊緣部；271...長(zhǎng)邊主部；273、274...長(zhǎng)邊端部；275...長(zhǎng)邊凹部；281...短邊主部 J83J84...短邊端部；381、382、383、384、385、386、387、389、390、391...分割線(xiàn)；471、472、473、474、475、476、477、478、479、480、481、482、483...分割線(xiàn)；861、862、863、864、865、866、867、868...角部貫通孔。
權(quán)利要求
1.一種硅器件，其特征在干，所述硅器件為在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀，所述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成所述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)所述邊分別相接并連接所述邊的角部曲線(xiàn)部。
2.—種硅器件，其特征在干，所述硅器件為在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀，所述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成所述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)所述邊分別連接的連接線(xiàn)部，在所述邊與所述連接線(xiàn)部之間的連接部形成的所述硅器件的角度為鈍角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅器件，其特征在干，所述邊的至少ー個(gè)具備邊中央側(cè)部和邊端側(cè)部，所述邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)所述硅器件相對(duì)于所述邊中央側(cè)部凹陷的凹部，所述邊的所述邊端側(cè)部與所述角部曲線(xiàn)部或所述連接線(xiàn)部連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的硅器件，其特征在干，所述邊的至少ー個(gè)還具備中央凹部，所述中央凹部形成于從所述角部曲線(xiàn)部或所述連接線(xiàn)部分離的位置，所述中央凹部是在俯視觀(guān)察時(shí)所述硅器件相對(duì)于所述邊的其他部分凹陷的凹部。
5.一種硅器件的制造方法，其特征在干，該硅器件的制造方法用于制造在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的平板狀的硅器件，該硅器件的制造方法具有通過(guò)在劃分形成有所述硅器件的器件母基板形成貫通孔，來(lái)形成所述多邊形的角部的角部形成エ序；以及將所述器件母基板與所述硅器件分離的分離エ序。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述硅器件的所述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成所述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)所述邊分別相接并連接所述邊的角部曲線(xiàn)部，在所述角部形成エ序中形成所述角部曲線(xiàn)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述硅器件的所述多邊形的角部的至少ー個(gè)形成為包括構(gòu)成所述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)所述邊分別連接的連接線(xiàn)部，在所述邊與所述連接線(xiàn)部之間的連接部形成的所述硅器件的角度為鈍角，在所述角部形成エ序中形成所述連接線(xiàn)部。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述邊的至少ー個(gè)具備邊中央側(cè)部和邊端側(cè)部，所述邊端側(cè)部是在俯視觀(guān)察時(shí)所述硅器件相對(duì)于所述邊中央側(cè)部凹陷的凹部，所述邊的所述邊端側(cè)部與所述角部曲線(xiàn)部或所述連接線(xiàn)部連接，在所述角部形成エ序中形成所述邊端側(cè)部。
9.根據(jù)權(quán)利要求6 8中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述邊的至少ー個(gè)還具備中央凹部，所述中央凹部形成于從所述角部曲線(xiàn)部或所述連 2接線(xiàn)部分離的位置，所述中央凹部是在俯視觀(guān)察時(shí)所述硅器件相對(duì)于所述邊的其他部分凹陷的凹部，所述角部形成エ序包括通過(guò)在所述器件母基板形成貫通孔來(lái)形成所述中央凹部的中央凹部形成エ序。
10.根據(jù)權(quán)利要求5 9中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，在所述角部形成エ序中，利用硅的干蝕刻來(lái)形成所述貫通孔。
11.根據(jù)權(quán)利要求5 10中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述硅器件的制造方法還具有將所述器件母基板中的、至少形成所述硅器件的部分的厚度減少為規(guī)定的厚度的薄板化工序，所述角部形成エ序包括在所述器件母基板的基板面形成貫通孔凹部的貫通孔凹部形成エ序；以及利用所述薄板化工序除去所述貫通孔凹部的底部而形成所述貫通孔的孔貫通 ェ序。
12.根據(jù)權(quán)利要求5 10中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述硅器件的制造方法還具有將所述器件母基板中的、至少形成所述硅器件的部分的厚度減少為規(guī)定的厚度的薄板化工序，所述角部形成エ序包括在所述器件母基板的基板面形成貫通孔凹部的貫通孔凹部形成エ序；利用所述薄板化工序減少所述貫通孔凹部的底部的厚度的底部薄化工序；以及在利用所述底部薄化工序減少了厚度的所述底部從所述貫通孔凹部的相反ー側(cè)形成孔而形成所述貫通孔的孔貫通エ序。
13.根據(jù)權(quán)利要求5 12中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述分離エ序具有向在所述器件母基板劃分形成的所述硅器件與所述硅器件之間的邊界部分照射激光光線(xiàn)而形成內(nèi)部重整層的重整層形成エ序。
14.根據(jù)權(quán)利要求5 13中任一項(xiàng)所述的硅器件的制造方法，其特征在干，所述分離ェ序具有對(duì)在所述器件母基板劃分形成的所述硅器件朝在所述器件母基板的面方向相互分離的方向施加力的膨脹ェ序。
全文摘要
本發(fā)明提供硅器件以及硅器件的制造方法。在俯視觀(guān)察時(shí)具有多邊形的外形形狀的板狀的硅器件，其特征在于，上述多邊形的角部的至少一個(gè)形成為包括構(gòu)成上述多邊形的多個(gè)邊中的、位于相互鄰接的位置的兩個(gè)邊；以及與兩個(gè)上述邊分別相接并連接上述邊的角部曲線(xiàn)部。
文檔編號(hào)B41J2/16GK102582263SQ20111045128
公開(kāi)日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月13日
發(fā)明者竹內(nèi)淳一, 高橋伸 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社