專利名稱：隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的制作方法
隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)
背景技術(shù)：
出于各種原因，例如產(chǎn)品識(shí)別，通常將標(biāo)簽放置在制造商發(fā)布的產(chǎn)品上或者其它實(shí)體上。貼標(biāo)簽的另一原因在于防止假冒產(chǎn)品和產(chǎn)品的假冒包裝。例如，產(chǎn)品的制造商會(huì)發(fā)布成百上千個(gè)單獨(dú)單元的特定產(chǎn)品。一旦發(fā)布了產(chǎn)品，存在需要將產(chǎn)品返回到制造商或者制造商需要召回產(chǎn)品的情形。在這種情況下，制造商會(huì)接收到制造得看起來(lái)像真實(shí)產(chǎn)品的假冒包裝的假冒產(chǎn)品的錯(cuò)誤返回。在一些情況下，制造商會(huì)僅接收到未包含任何產(chǎn)品的假冒包裝。在發(fā)生這樣的錯(cuò)誤返回時(shí)，制造商會(huì)被欺騙而對(duì)于該錯(cuò)誤返回進(jìn)行錯(cuò)誤退款。這些錯(cuò)誤退款會(huì)對(duì)制造商造成巨大損失。


圖Ia示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的示例。圖Ib示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的示例。圖加示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的示例。圖2b示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的示例。圖3示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的用于制造隱蔽標(biāo)簽的示例方法的流程圖。圖4示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽的示例方法的流程圖。除非專門標(biāo)注，應(yīng)該將在該實(shí)施例的描述中參照的附圖理解為未按照尺寸繪制。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將詳細(xì)參照本技術(shù)的實(shí)施例，附圖中示出該實(shí)施例的示例。盡管將結(jié)合各種實(shí)施例描述該技術(shù)，但是將理解的是，并非旨在將本技術(shù)局限于這些實(shí)施例。相反，本技術(shù)旨在覆蓋包括在由所附權(quán)利要求限定的各種實(shí)施例的精神和范圍內(nèi)的各種替代、修改和等同物。而且，在以下實(shí)施例的描述中，闡述各種細(xì)節(jié)以提供對(duì)本技術(shù)的全面理解。然而， 可以在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施本技術(shù)。在其它實(shí)例中，沒(méi)有詳細(xì)描述已知的方法、 過(guò)程、部件和電路以避免不必要地模糊本實(shí)施例的各個(gè)方面。討論概述本技術(shù)的實(shí)施例提供隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)、用于制造隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法以及用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法。在一個(gè)實(shí)施例中，所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)包括以預(yù)定圖樣反射光的衍射光學(xué)元件層。在一個(gè)實(shí)施例中，所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)覆蓋有對(duì)于特定光波長(zhǎng)的光透明而對(duì)于其它光波長(zhǎng)不透明的涂覆層。在一個(gè)實(shí)施例中，可以通過(guò)將特定光波長(zhǎng)的光投射于隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)來(lái)驗(yàn)證所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，該特定光波長(zhǎng)設(shè)計(jì)為透過(guò)所述涂覆層并且以預(yù)定圖樣反射離開所述衍射光學(xué)元件層。在一個(gè)實(shí)施例中，然后通過(guò)照相機(jī)檢測(cè)所述預(yù)定圖樣并且針對(duì)真實(shí)預(yù)定圖樣的數(shù)據(jù)庫(kù)檢查所述預(yù)定圖樣。所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)可以用于對(duì)產(chǎn)品貼標(biāo)簽以使得能夠使用手持設(shè)備或者其它技4術(shù)快速驗(yàn)證和識(shí)別所述產(chǎn)品。在此公開的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)可以貼在絕大多數(shù)類型的產(chǎn)品上。 在一個(gè)實(shí)施例中，由于隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的尺寸小以及基本光滑的涂覆層，人類肉眼難以察覺到該隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。此外，能夠經(jīng)濟(jì)地制造包括由塑料制成的衍射光學(xué)元件層以及由墨制成的涂覆層的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)并且難以仿造該隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。應(yīng)該意識(shí)到，在實(shí)施例的當(dāng)前描述中使用的術(shù)語(yǔ)“光”指代電磁輻射。隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的實(shí)施例現(xiàn)在將參照?qǐng)Dla，示出了根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的示例隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的截面圖。圖Ia 包括衍射光學(xué)元件層100、粘合層110、對(duì)象112和涂覆層108。圖Ia包括本技術(shù)中可以與本技術(shù)的不同實(shí)施例一起使用或者不一起使用的部件和部分并且不應(yīng)該將其理解為限制本技術(shù)。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100是三維的并且具有用于產(chǎn)生光的預(yù)定圖樣的深度分布。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100具有相對(duì)于衍射光學(xué)元件層100的頂表面基本平整的底表面102。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100具有諸如頂表面104和 106的頂表面的不同部分。在一個(gè)實(shí)施例中，深度分布包括相對(duì)于底表面102具有不同深度的頂表面的不同部分。圖Ia中示出一個(gè)這樣的實(shí)施例，其中頂表面104與頂表面106相對(duì)于底表面102具有不同的深度。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100具有相對(duì)于底表面 102深度不同的多于兩個(gè)的頂表面。圖Ia繪制為示出基本上平整并且與底表面102平行的頂表面104和106以及基本上平整并且與底表面102垂直的側(cè)壁132。在一個(gè)實(shí)施例中，頂表面104和106不是基本上平整并且未相對(duì)于底表面102平行。在一個(gè)實(shí)施例中，以未與底表面102垂直的角度設(shè)置側(cè)壁132的表面。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100包括對(duì)于衍射光學(xué)元件層100 產(chǎn)生深度分布的多于兩個(gè)的側(cè)壁。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層100的頂表面的不同部分以及衍射光學(xué)元件層100的側(cè)壁可以是平整的、光滑的、粗糙的、彎曲的、弧形的、成角度的或者其任意組合。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層100的頂表面的一部分以及衍射光學(xué)元件層100的側(cè)壁能夠以垂直角度、非垂直角度相會(huì)，或者形成彎曲表面。在一個(gè)實(shí)施例中，以基本.5微米的特征精確形成衍射光學(xué)元件層100的頂表面的部分和側(cè)壁。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100的頂表面的不同部分在兩個(gè)維度上橫跨衍射光學(xué)元件層100的頂表面。此外，在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100的頂表面是三維的，頂表面在兩個(gè)維度上橫跨并且不同的部分相對(duì)于底表面102具有不同的厚度。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層100的頂表面的不同部分和衍射光學(xué)元件層100的側(cè)壁構(gòu)成深度分布。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100是相息圖(kinoform)。應(yīng)該意識(shí)到，相息圖在相息圖表面的不同區(qū)域中具有不同的表面浮雕高度，以便優(yōu)化每一個(gè)區(qū)域中的第一級(jí)衍射效率。在一個(gè)實(shí)施例中，相息圖是僅影響光的相位的計(jì)算機(jī)生成的全息圖。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100設(shè)計(jì)為通過(guò)使光衍射、折射、進(jìn)通道(channel in)、聚焦、離焦來(lái)處理光。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100的頂表面的不同部分根據(jù)預(yù)定義圖樣反射光。在一個(gè)實(shí)施例中，使用反射光的干涉圖樣來(lái)創(chuàng)建該預(yù)定義圖樣。在一個(gè)實(shí)施例中，利用在光反射離開衍射光學(xué)元件層100的頂表面和側(cè)壁時(shí)的衍射來(lái)創(chuàng)建干涉圖樣。應(yīng)該意識(shí)到，該預(yù)定義圖樣可以是從復(fù)雜到簡(jiǎn)單的任意數(shù)量的圖樣。
在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100反射全部入射到頂表面和側(cè)壁上的光。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100僅局部反射入射到頂表面和側(cè)壁上的光。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100反射紅外光。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100反射具有基本850納米波長(zhǎng)的紅外光。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100與涂覆層108不具有相同的折射率。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100是一平方毫米大小，并且厚度變化。在各種實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100的尺寸在亞毫米到幾厘米長(zhǎng)范圍內(nèi)。在一個(gè)實(shí)施例中，如果從頂部向下觀察，衍射光學(xué)元件層100的形狀是方形。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層100并不局限于一個(gè)尺寸或者形狀。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100由塑料材料構(gòu)成。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100由金屬構(gòu)成。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100由金屬化塑料材料制成。例如，衍射光學(xué)元件層100可以由撒布有例如鋁的金屬材料的塑料材料構(gòu)成，以使衍射光學(xué)元件層100具有更多反射特性。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100由銀墨(silver ink)構(gòu)成。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層100可以由各種材料構(gòu)成并且僅受衍射光學(xué)元件層100至少部分反射的必要性限制。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層100由能夠與對(duì)象 112耦合的材料構(gòu)成。圖Ia示出覆蓋衍射光學(xué)元件層100的頂表面和側(cè)壁的涂覆層108。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光透明而對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光不透明。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108對(duì)于可見光不透明。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108對(duì)于具有基本850納米波長(zhǎng)的紅外光透明。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108足夠厚，以使得涂覆層108的頂表面130 基本平整并且相對(duì)于衍射光學(xué)元件層100的底表面102平行。因而，對(duì)于可見光不透明的涂覆層108的基本平整的頂表面130掩蓋衍射光學(xué)元件層100并且允許隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)難以由人類肉眼察覺。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108僅覆蓋衍射光學(xué)元件層100。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108覆蓋衍射光學(xué)元件層100以及對(duì)象112的一部分。在一個(gè)實(shí)施例中，涂覆層108覆蓋衍射光學(xué)元件層100和粘合層110。應(yīng)該意識(shí)到，涂覆層108可以是但并不限于墨或者涂料。在一個(gè)實(shí)施例中，隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)包括粘合層110。在一個(gè)實(shí)施例中，粘合層110耦合到衍射光學(xué)元件層Iio的底表面102。在一個(gè)實(shí)施例中，粘合層110由能夠粘附到卡板、 紙張、塑料、玻璃和其它材料的可商購(gòu)的粘合劑構(gòu)成。在一個(gè)實(shí)施例中，在粘合層110被布置為與對(duì)象112接觸時(shí)，粘合層110粘附到對(duì)象112。在一個(gè)實(shí)施例中，隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)不包括粘合層110。在一個(gè)實(shí)施例中，隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)利用除粘合層110之外的手段與對(duì)象112耦合。
在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)象112是所制造產(chǎn)品的包裝。例如，對(duì)象112可以是由卡板制成的包裝。應(yīng)該意識(shí)到，對(duì)象112可以是但并不限于卡板、紙張、橡膠、塑料、玻璃和其它材料。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)象112是所制造的產(chǎn)品?，F(xiàn)在將參照?qǐng)Dlb，示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的示例隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的截面圖。圖Ib示出與圖Ia類似的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。圖Ib包括衍射光學(xué)元件層164、涂覆層158、粘合層160、 對(duì)象162、光源168、光檢測(cè)器170、投射光172和反射光174。圖Ib包括本技術(shù)中可以與本技術(shù)的不同實(shí)施例一起使用或者不一起使用的部件和部分并且不應(yīng)該被理解為限制本技術(shù)。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層164包括相對(duì)于頂表面166基本平整的底表面 152。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層164包括彎曲的頂表面的不同部分，諸如彎曲的頂表面166。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層是彎曲和平整表面的組合。例如，衍射光學(xué)元件層可以是衍射光學(xué)元件層164的彎曲頂表面166以及圖Ia的衍射光學(xué)元件層100的頂表面104和106的組合。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168能夠投射具有特定波長(zhǎng)或者特定波長(zhǎng)范圍的光。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168投射平行的單色光束。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168投射具有基本850 納米波長(zhǎng)的紅外光。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168投射將透過(guò)涂覆層158或者對(duì)涂覆層158透明并且將由衍射光學(xué)元件層164或者圖Ia的衍射光學(xué)元件層100反射的光。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168投射對(duì)于涂覆層158透明的光并且也將投射將由涂覆層158反射的光。應(yīng)該意識(shí)到，光源168可以是但并不限于是發(fā)光二極管(LED)、激光器或者燈泡。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168是常用于光盤(CD)播放器中的可商購(gòu)激光器。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168 結(jié)合在具有光檢測(cè)器170的手持設(shè)備中。例如，光源168可以結(jié)合在蜂窩電話手持設(shè)備中。在一個(gè)實(shí)施例中，圖Ib的投射光172表示由光源168投射的光。應(yīng)該意識(shí)到，投射光172并不限于如圖Ib所示的三個(gè)投射方向。在一個(gè)實(shí)施例中，投射光172透射通過(guò)涂覆層158。在一個(gè)實(shí)施例中，投射光172反射離開衍射光學(xué)元件層的頂表面和側(cè)壁并且變?yōu)榉瓷涔?74。在一個(gè)實(shí)施例中，反射光174以預(yù)定圖樣反射。在一個(gè)實(shí)施例中，光檢測(cè)器170檢測(cè)由光源168投射并且由隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的衍射光學(xué)元件層反射的光。在一個(gè)實(shí)施例中，光檢測(cè)器170是照相機(jī)。應(yīng)該意識(shí)到，光檢測(cè)器 170可以是但并不限于是照相機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、電荷耦合設(shè)備(ccd)照相機(jī)或者另一類型的光感測(cè)技術(shù)。在一個(gè)實(shí)施例中，光檢測(cè)器170是覆蓋在透明介質(zhì)中并且以允許光檢測(cè)器170 結(jié)合光源168容易掃描隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方式安裝的電荷耦合設(shè)備的陣列。在一個(gè)實(shí)施例中，光檢測(cè)器170與能夠從光檢測(cè)器170接收關(guān)于由光源168投射并且由隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的衍射光學(xué)元件層反射的光的信息的驗(yàn)證模塊耦合。驗(yàn)證模塊能夠確定該信息是否表示以預(yù)定圖樣反射光的深度分布。這樣的確定將是驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的一種方式。在一個(gè)實(shí)施例中，光源168、光檢測(cè)器170和驗(yàn)證模塊全部結(jié)合在手持設(shè)備中。在一個(gè)實(shí)施例中，驗(yàn)證模塊包括表示以預(yù)定圖樣反射光的真實(shí)隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的真實(shí)深度分布的信息的數(shù)據(jù)庫(kù)。在一個(gè)實(shí)施例中，驗(yàn)證模塊不包含所述數(shù)據(jù)庫(kù)，而是能夠無(wú)線訪問(wèn)所述的數(shù)據(jù)庫(kù)?，F(xiàn)在將參照?qǐng)D2a，示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的示例衍射光學(xué)元件層的三維視圖。圖 2a包括衍射光學(xué)元件層200、衍射光源元件層200的頂表面228，232，234，236，238，240和 242以及衍射光學(xué)元件層200的側(cè)壁230。圖加包括本技術(shù)中能夠與本技術(shù)的不同實(shí)施例一起使用或者不一起使用的部件和部分并且不應(yīng)該被理解為限制本技術(shù)。應(yīng)該意識(shí)到，圖 2a僅作為示例示出。例如，圖加示出從頂表面2 升高或者降低的各種部件。圖加示出衍射光學(xué)元件層的一個(gè)實(shí)施例，其中存在相對(duì)于衍射光學(xué)元件層200 的底表面厚度不同的衍射光學(xué)元件層200的頂表面的多于兩個(gè)的部分。例如，頂表面228， 232，234，236，238，240和242全部是衍射光學(xué)元件層200的頂表面的不同部分并且相對(duì)于衍射光學(xué)元件層200的底表面厚度全部不同。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層200具有與衍射光學(xué)元件層200的底表面平行的頂表面的部分以及不平行的部分。例如，以相對(duì)于衍射光學(xué)元件層200的底表面以及頂表面2 的一角度設(shè)置頂表面228。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層200可以具有相對(duì)于衍射光學(xué)元件層200的底表面厚度不同的頂表面的任意數(shù)量的部分。在一個(gè)實(shí)施例中，衍射光學(xué)元件層200具有與衍射光學(xué)元件層200的底表面垂直的側(cè)壁，諸如側(cè)壁230。應(yīng)該意識(shí)到，衍射光學(xué)元件層200的側(cè)壁不需要與衍射光學(xué)元件層200的底表面垂直并且不需要相對(duì)于衍射光學(xué)元件層200的其它側(cè)壁平行或者垂直?，F(xiàn)在將參照?qǐng)D2b，示出根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的示例衍射光學(xué)元件層的三維視圖。圖 2b包括衍射光學(xué)元件層250、衍射光學(xué)元件層250的頂表面252和254。圖2b包括本技術(shù)中可以與本技術(shù)的不同實(shí)施例一起使用或者不一起使用的部件或者部分并且不應(yīng)該被理解為限制本技術(shù)。圖2b繪制為示出衍射光學(xué)元件層，其中頂表面的不同部分相對(duì)于衍射光學(xué)元件層的底表面具有不同高度。例如，頂表面252和2M 二者都是衍射光學(xué)元件層250的頂表面的不同部分。此外，無(wú)論是頂表面252，頂表面254，或者是衍射光學(xué)元件層250的頂表面的任意其它單個(gè)部分都不包括由衍射光學(xué)元件層250的頂表面的部分所構(gòu)成的全部表面積的主要部分。Μ 現(xiàn)在將參照根據(jù)本技術(shù)的包括用于制造隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法和過(guò)程以及用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法的實(shí)施例。圖3示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的過(guò)程300，用于制造隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法。應(yīng)該意識(shí)到，過(guò)程300是描述用于制造隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的方法并且并不是每一個(gè)步驟都需要用于制造根據(jù)本技術(shù)的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。而且，不需要按照所描述的順序執(zhí)行過(guò)程 300中的步驟。在一個(gè)實(shí)施例中，在步驟305，創(chuàng)建用于制造三維衍射光學(xué)元件層的模具。在步驟310，制造具有用于產(chǎn)生預(yù)定圖樣的深度分布的三維衍射光學(xué)元件層，其中衍射光學(xué)元件層的頂表面的不同部分相對(duì)于衍射光學(xué)元件層的底表面具有至少兩個(gè)不同的深度，其中深度分布橫跨衍射光學(xué)元件層的頂表面的兩個(gè)維度，并且其中頂表面根據(jù)預(yù)定義圖樣反射光。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)于塑料的衍射光學(xué)元件層使用輥到輥印刷來(lái)執(zhí)行步驟310。在一個(gè)實(shí)施例中，使用輥到輥印刷來(lái)印刷大片的衍射光學(xué)元件層，之后將大片的衍射光學(xué)元件層切割為用于隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的較小部分。在一個(gè)實(shí)施例中，使用數(shù)字印刷來(lái)創(chuàng)建衍射光學(xué)元件層。在一個(gè)實(shí)施例中，使用印刷來(lái)印刷多個(gè)衍射光學(xué)元件層。在一個(gè)實(shí)施例中，在進(jìn)行印刷的同時(shí)印刷能夠改變衍射光學(xué)元件層的設(shè)計(jì)和形狀，以使得多個(gè)衍射光學(xué)元件層不全部相同。在一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，在步驟310之前，創(chuàng)建用于衍射光學(xué)元件層的硅模具。 在執(zhí)行步驟310之后，在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)復(fù)制，硅模具變?yōu)樗芰喜牧?。硅容易成形但是硅不足以硬到用作制造衍射光學(xué)元件層需要的材料的模具。因而，該方法可以用于創(chuàng)建用于各種形狀和尺寸的硅模具并且然后以更硬的材料復(fù)制該模具。在一個(gè)實(shí)施例中，復(fù)制的模具由比構(gòu)成衍射光學(xué)元件層的材料更硬的塑料材料構(gòu)成。
在步驟315，衍射光學(xué)元件層的頂表面覆蓋有對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光不透明而對(duì)于至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光透明的涂覆層，所述至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光與所述至少一個(gè)波長(zhǎng)的光的波長(zhǎng)不同。在一個(gè)實(shí)施例中，在步驟320，過(guò)程300還包括將衍射光學(xué)元件層的底表面與對(duì)象的表面耦合。圖4示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的過(guò)程400，用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法。應(yīng)該意識(shí)到，過(guò)程400是描述用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的方法并且并不是每一個(gè)步驟都需要用于驗(yàn)證根據(jù)本技術(shù)的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。而且，不需要按照所描述的順序執(zhí)行過(guò)程 400中的步驟。在步驟405，將特定波長(zhǎng)的光投射于隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)。在一個(gè)實(shí)施例中，特定波長(zhǎng)的光是紅外光。在一個(gè)實(shí)施例中，在步驟410，以紅外光投射該特定波長(zhǎng)的投射光。在一個(gè)實(shí)施例中，在步驟415，該特定波長(zhǎng)的投射光在接收深度分布信息發(fā)生之前首先透過(guò)涂覆層。在步驟420，從具有用于產(chǎn)生光的預(yù)定圖樣的深度分布的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的衍射光學(xué)元件層反射離開的光接收該預(yù)定圖樣，其中衍射光學(xué)元件層的頂表面的不同部分相對(duì)于衍射光學(xué)元件層的底表面具有至少兩個(gè)不同的深度，其中所述深度分布橫跨衍射光學(xué)元件層的頂表面的兩個(gè)維度，并且其中頂表面根據(jù)預(yù)定義圖樣反射光。在步驟425，在深度分布信息與包含在存儲(chǔ)介質(zhì)的數(shù)據(jù)庫(kù)中的真實(shí)深度分布信息匹配時(shí)，確定隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)為真。盡管以專用于結(jié)構(gòu)特征和/或方法動(dòng)作的語(yǔ)言描述了所述主題，但是要理解的是，在所附權(quán)利要求中定義的主題不必局限于上面描述的特定特征或者動(dòng)作。而是作為實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求的示例形式公開上面描述的特定特征和動(dòng)作。
權(quán)利要求
1.一種隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，包括三維衍射光學(xué)元件層(100)，具有用于產(chǎn)生預(yù)定圖樣的深度分布，其中所述衍射光學(xué)元件層(100)的頂表面的不同部分相對(duì)于所述衍射光學(xué)元件層(100)的底表面(10 具有不同的深度，其中所述深度分布橫跨所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述頂表面的兩個(gè)維度， 并且其中所述頂表面根據(jù)所述預(yù)定義圖樣反射光；以及涂覆層(108)，位于所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述頂表面上方，其中所述涂覆層 (108)對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光不透明。
2.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述涂覆層(108)對(duì)于至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光至少部分透明。
3.如權(quán)利要求2所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述衍射光學(xué)元件層(100)配置為反射處于光的所述至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光。
4.如權(quán)利要求3所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)波長(zhǎng)的光是具有基本850納米波長(zhǎng)的紅外光。
5.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述涂覆層(108)相對(duì)于所述底表面 (102)基本平整，以使得所述隱蔽標(biāo)簽具有基本恒定的深度分布。
6.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述衍射光學(xué)元件層(100)是印刷的相息圖。
7.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述涂覆層(108)對(duì)于可見光范圍不透明。
8.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，還包括與所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述底表面(10 耦合的粘合層(110)，其中所述粘合層(110)粘附到對(duì)象(112)的表面。
9.如權(quán)利要求1所述的隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，其中所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述底表面 (102)配置為耦合到對(duì)象(112)的表面。
10.一種用于制造隱蔽標(biāo)簽的方法(300)，所述方法包括制造(310)具有用于產(chǎn)生預(yù)定圖樣的深度分布的三維衍射光學(xué)元件層，其中所述衍射光學(xué)元件層的頂表面的不同部分相對(duì)于所述衍射光學(xué)元件層的底表面具有至少兩個(gè)不同的深度，其中所述深度分布橫跨所述衍射光學(xué)元件層的所述頂表面的兩個(gè)維度，并且其中所述頂表面根據(jù)所述預(yù)定義圖樣反射光；以及以涂覆層覆蓋(31 所述衍射光學(xué)元件層的頂表面，所述涂覆層對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光不透明而對(duì)于至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光透明，所述至少一個(gè)特定波長(zhǎng)的光與所述至少一個(gè)波長(zhǎng)的光的波長(zhǎng)不同。
11.如權(quán)利要求10所述的方法(300)，還包括創(chuàng)建(30 用于制造所述三維衍射光學(xué)元件層的模具。
12.如權(quán)利要求10所述的方法(300)，還包括將所述衍射光學(xué)元件層的所述底表面與對(duì)象的表面耦合(320)。
13.一種用于驗(yàn)證隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的方法G00)，所述方法包括將特定波長(zhǎng)的光投射(405)于所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)；從具有用于產(chǎn)生光的預(yù)定圖樣的深度分布的所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)的衍射光學(xué)元件層反射離開的光接收光的所述預(yù)定圖樣G20)，其中所述衍射光學(xué)元件層的頂表面的不同部分相對(duì)于所述衍射光學(xué)元件層的底表面具有至少兩個(gè)不同的深度，其中所述深度分布橫跨所述衍射光學(xué)元件層的所述頂表面的兩個(gè)維度，并且其中所述頂表面根據(jù)所述預(yù)定義圖樣反射光；以及如果所述深度分布信息與包含在存儲(chǔ)介質(zhì)中的數(shù)據(jù)庫(kù)中的真實(shí)深度分布信息匹配，則確定(425)所述隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)為真。
14.如權(quán)利要求13所述的方法000)，其中在所述接收所述深度分布信息發(fā)生之前，所述投射所述特定波長(zhǎng)的所述光首先透過(guò)(41 涂覆層。
15.如權(quán)利要求13所述的方法000)，其中以紅外光投射(410)所述投射所述特定波長(zhǎng)的所述光。
全文摘要
本發(fā)明公開一種隱蔽標(biāo)簽結(jié)構(gòu)，包括具有用于產(chǎn)生預(yù)定圖樣的深度分布的三維衍射光學(xué)元件層(100)，其中所述衍射光學(xué)元件層(100)的頂表面的不同部分相對(duì)于所述衍射光學(xué)元件層(100)的底表面具有至少兩個(gè)不同的深度，其中所述深度分布橫跨所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述頂表面的兩個(gè)維度，并且其中所述頂表面根據(jù)預(yù)定義圖樣反射光；以及位于所述衍射光學(xué)元件層(100)的所述頂表面上方的涂覆層(108)，其中所述涂覆層(108)對(duì)于至少一個(gè)波長(zhǎng)的光不透明。
文檔編號(hào)G09F3/03GK102414729SQ200980158976
公開日2012年4月11日 申請(qǐng)日期2009年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月28日
發(fā)明者A·M·布拉特科夫斯基, L·H·蒂倫 申請(qǐng)人:惠普開發(fā)有限公司