膜及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種膜(1)及其制造方法。所述膜(1)包括:透光的復制漆層(2),該復制漆層具有構造在該復制漆層(2)的第一側(cè)(21)中的衍射浮雕結構(3);設置在浮雕結構(3)上的僅僅局部構造的透光的色漆層(4);和設置在所述復制漆層(2)的第一側(cè)(21)上的至少局部構造的反射層(5)。在膜(1)的色漆層(4)與反射層(5)相疊的區(qū)域(63)中,所述色漆層(4)設置在復制漆層(2)與反射層(5)之間。
【專利說明】膜及其制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種膜,其具有:復制漆層,該復制漆層帶有構造在其上的衍射浮雕結構;以及透明的色漆層,本發(fā)明還涉及一種安全紙、一種有價證券和一種具有這樣的膜的轉(zhuǎn)移膜,以及一種這樣的膜的制造方法。
【背景技術】
[0002]已知的是:有價證券配備有安全要素,這些安全要素以柔性膜元件的形式顯示出衍射的、視覺上可變的效果。這可以通過表面浮雕結構得以實現(xiàn),該表面浮雕結構被壓印到復制漆層中,并且其能見度通過設置反射層、特別是形式為反射的金屬面的反射層得到提高。這樣的安全要素普遍地屬于所謂的OVDs (光學可變裝置)(OVD=Optically VariableDevice)。這樣的安全要素的附加的特征如彩色范圍對于防偽來說以及從美學的觀點來看都是值得追求的。為此復制漆層可以被染色。然而如果希望多色的衍射元件或在著色方面的高的靈活性,這個技術誠然已達到其極限。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]那么本發(fā)明的目的是:提供一種改良的具有彩色區(qū)域的衍射膜元件以及一種相應的制造方法。
[0004]所述目的通過如下的膜得以實現(xiàn),該膜包括:透光的復制漆層,該復制漆層具有構造在該復制漆層的第一側(cè)中的衍射浮雕結構;設置在所述浮雕結構上的、僅僅局部構造的、透光的色漆層和設置在所述復制漆層的第一側(cè)上的、至少局部構造的反射層,其中,在膜的色漆層與反射層相疊的區(qū)域內(nèi),色漆層設置在復制漆層與反射層之間。另外,所述目的通過用于制造如權利要求1至11之任一項所述的膜的方法得以實現(xiàn),其中,a)在透光的復制漆層的第一側(cè)中構造衍射浮雕結構;b)在步驟a)后在浮雕結構上僅僅局部地涂覆透光的色漆層;和c)在步驟b)后在所述復制漆層的第一側(cè)上至少局部地涂覆優(yōu)選形式為金屬層的反射層。
[0005]透明的或半透明的層被稱為透光的,如果入射的、380至780nm的波長范圍內(nèi)的可見光的至少50%、特別是至少80%穿過該層。
[0006]本發(fā)明克服的技術偏見是:復制漆層的衍射浮雕結構與色漆層的套印(Ueberdruckung)由于浮雕結構被色漆層充填或者整平而導致浮雕結構的衍射效果消除并且由此實際上是不可能的。在這種情況下,本發(fā)明利用如下的認識:在浮雕結構的適宜的、僅僅局部套印的情況下該浮雕結構的衍射效果僅僅在套印的區(qū)域內(nèi)被減弱或者消除。由于觀察者的裸眼的有限的分辨率,浮雕結構的未被套印的各個區(qū)域彼此連接,使得觀察者感覺到完整的0VD。結果不但衍射效果而且色漆的彩色保持足夠好的能見度。
[0007]提出的本發(fā)明具有靈活性高的優(yōu)點:利用傳統(tǒng)的透明的復制漆來制造衍射結構并且通過用透明的、穿過復制漆層可見的并且將彩色賦予衍射結構的色漆來印刷該衍射結構,實現(xiàn)了按照設計要求在衍射結構的任意區(qū)域中的色彩繽紛。[0008]本發(fā)明的有益的設計在從屬權利要求中得以闡述。
[0009]優(yōu)選色漆層直接設置在浮雕結構上。
[0010]優(yōu)選透光的復制漆由形式為熱塑性漆料或熱交聯(lián)漆料的透明復制漆構成。
[0011]優(yōu)選使用由PMMA和纖維素酯類構成的漆料作為復制漆(PMMA=聚甲基丙烯酸甲酯)。復制漆層的厚度優(yōu)選為0.5至10 μ m,進一步優(yōu)選為0.5至5 μ m??梢允褂脽o色漆料作為復制漆。但是備選地也可以使用經(jīng)著色的漆料,該漆料與色漆層相組合產(chǎn)生組合的彩色效果。例如在膜的在其中兩個經(jīng)著色的透明漆層、即復制漆層與色漆層相疊的區(qū)域中可以通過減色混合產(chǎn)生另外的彩色印象。例如相疊的青藍色色層與黃色色層產(chǎn)生綠色的彩色印象而相疊的黃色色層與品紅色色層產(chǎn)生橙色的彩色印象。
[0012]復制漆層例如由如下成分的漆料構成(單位:g):
[0013]
【權利要求】
1.膜(1),其包括:透光的復制漆層(2),該復制漆層具有構成在該復制漆層(2)的第一側(cè)(21)中的衍射浮雕結構(3);設置在該浮雕結構(3)上的僅僅局部構造的透光的色漆層(4);和設置在所述復制漆層(2)的第一側(cè)(21)上的至少局部構造的反射層(5),其中,在所述膜(I)的色漆層(4)與反射層(5)相疊的區(qū)域(63)中,所述色漆層(4)設置在復制漆層(2)與反射層(5)之間。
2.如權利要求1所述的膜(1),其特征在于:色漆層(4)構造成圖案形式或柵格形式。
3.如權利要求2所述的膜(1),其特征在于:色漆層(4)的鄰接的圖案元素或柵格元素(40)具有相對彼此的距離(74),該距離在50至250 μ m的范圍內(nèi)、優(yōu)選在70至200 μ m的范圍內(nèi)。
4.如權利要求2和3之任一項所述的膜(1),其特征在于:圖案元素或柵格元素(40)的線寬、點直徑或單體元素直徑(73)在50至250 μ m的范圍內(nèi)、優(yōu)選在70至200 μ m的范圍內(nèi)。
5.如前述權利要求之任一項所述的膜(I),其特征在于:色漆層(4)具有的厚度在0.1至6μπ?的范圍內(nèi)、優(yōu)選在0.2至4μπ?的范圍內(nèi)。
6.如前述權利要求之任一項所述的膜(I),其特征在于:用色漆層(4)覆蓋浮雕結構(3)的表面覆蓋率在該浮雕結構(3)的總面積的5至95%的范圍內(nèi)、優(yōu)選在25至75%的范圍內(nèi)、進一步優(yōu)選在45至55%的范圍內(nèi)。
7.如前述權利要求之任一項所述的膜(1),其特征在于:浮雕結構(3)的深度(30)在50至1000nm的范圍內(nèi)、優(yōu)選在100至500nm的范圍內(nèi)。
8.如前述權利要求之任一項所述的膜(1),其特征在于:浮雕結構(3)是線性結構(71),該線性結構具有的行頻(31)在100至1000行/mm范圍內(nèi)、優(yōu)選在100至500行/mm范圍內(nèi)。
9.如前述權利要求之任一項所述的膜(1),其特征在于:復制漆層(2)與色漆層(4)具有折射率,這些折射率的數(shù)值相差為至少0.1。
10.如前述權利要求之任一項所述的膜(I),其特征在于:該膜(I)在復制漆層(2)的第二側(cè)上具有保護漆層(9)。
11.如前述權利要求之任一項所述的膜(1),其特征在于:該膜(I)在復制漆層(2)的第一側(cè)(21)上具有粘合材料層(6),該粘合材料層遮蓋復制漆層(2)、色漆層(4)和反射層(5)。
12.用于制造有價證券(10)的安全紙,該安全紙具有至少一層形式為安全要素的如權利要求I至11之任一項所述的膜(I)。
13.有價證券(10),如鈔票、證件或類似物,該有價證券具有至少一層形式為安全要素的如權利要求1至11之任一項所述的膜(I)。
14.用于制造安全要素的轉(zhuǎn)移膜(50),該轉(zhuǎn)移膜具有承載膜(7)和能從該承載膜(7)上剝離的形式為傳輸層的如權利要求1至11之任一項所述的膜(I)。
15.如權利要求14所述的轉(zhuǎn)移膜(50),其特征在于:在承載膜(7)與傳輸層(I)之間設置有剝離層(8)。
16.用于制造如權利要求1至11之任一項所述的膜(I)的方法,其中: a)在透光的復制漆層(2)的第一側(cè)(21)中構造衍射浮雕結構(3);b)在步驟a)后在浮雕結構(3)上僅僅局部地涂覆透光的色漆層(4);和 c )在步驟b )后在復制漆層(2 )的所述第一側(cè)(21)上至少局部地涂覆優(yōu)選形式為金屬層的反射層(5)。
17.如權利要求16所述的方法,其特征在于:實施從輥到輥的方法。
18.如權利要求16和17之任一項所述的方法,其特征在于:印刷色漆層(4),優(yōu)選通過凹版印刷、絲網(wǎng)印刷或苯胺印刷。
19.如權利要求16至18之任一項所述的方法,其特征在于:色漆層(4)以在100至1000 μ m的范圍內(nèi)、優(yōu)選在200至600 μ m的范圍內(nèi)的套準公差設置在相對浮雕結構(3)的對版中。
20.如權利要求16至19之任一項所述的方法,其特征在于:用色漆層(4)覆蓋浮雕結構(3)的表面覆蓋率越小,用于構造色漆層(4)的色漆就被越大程度地染色。
21.如權利要求16至20之任一項所述的方法,其特征在于:在步驟a)之前將復制漆層(2)壓印到承載膜(7)上。
22.如權利要求21所述的方法,其特征在于:通過設置在承載膜(7)上的套準標記的光學探測對復制漆層(2)的由對衍射浮雕結構(3)的熱復制引起的扭曲進行識別,并且通過對印刷滾筒或輸送元件的校準進行補償。
23.如權利要求16至22之任一項所述的方法,其特征在于:在步驟c)中優(yōu)選通過脫金屬方法將反射層(5)局部去除。
【文檔編號】B42D25/324GK103702841SQ201280031509
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2012年5月24日 優(yōu)先權日:2011年5月24日
【發(fā)明者】L·布雷姆, H·P·貝措爾德, D·蓋姆 申請人:雷恩哈德庫茲基金兩合公司