專利名稱:粗細硬筆文字摹寫板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型屬于習(xí)字用品,尤其涉及一種粗細硬筆文字摹寫板。
目前的硬筆練字,主要采用仿照字貼練習(xí)或以透描方式練習(xí),使用這種方式練字,由于無軌跡的約束,筆畫不夠嚴謹,難以很快掌握文字的筆畫和結(jié)構(gòu)特征,常使習(xí)字者喪失練好字的興趣和決心,尤其對于初學(xué)者更是如此,另外,練字也是一個長期的過程,需耗掉大量的紙墨。也有少數(shù)采用習(xí)字規(guī)板練字,即在板面上模印有習(xí)字軌跡,軌跡筆畫凹陷,由于軌跡筆畫凹陷處未考慮筆頭的粗細,由此存在著凹陷處寬了較細的筆在里面晃蕩,凹陷處窄了較粗的筆又下不去的缺陷,并且也未考慮到習(xí)字過程中筆畫的輕重。
本實用新型的目的是設(shè)計一種使習(xí)字者在練字過程中感覺到筆畫的輕重,更接近于在紙上習(xí)字的感覺,可適用于粗、細硬筆練字的文字摹寫板。
圖1為本實用新型粗細硬筆文字摹寫板的正投影示意圖。
圖2為
圖1的仰視示意圖。
圖3為
圖1中A-A剖視示意圖。
本實用新型的技術(shù)方案是在硬薄板上(1)模印有習(xí)字軌跡(2),且習(xí)字軌跡(2)凹陷的基礎(chǔ)上,其特征是使凹陷的習(xí)字軌跡(2)做成V形槽狀,即習(xí)字軌跡(2)的橫斷面呈V型;V形槽的習(xí)字軌跡(2)隨著筆畫的輕重有淺有深。為使練字時有一定的澀度,更接近于紙上練字,在習(xí)字軌跡(2)的V形槽槽面上最好制成密集型網(wǎng)紋狀,使保持澀度。為了使筆在練字過程中流暢、書寫自如,在習(xí)字軌跡(2)的筆畫交叉處最好制成弧形。由于凹陷的習(xí)字軌跡(2)做成V型槽狀,可使各種粗細硬筆均可適用于該文字摹寫板,粗硬筆在較寬的V型槽面上被卡住滑行,較細的硬筆則在較窄的V型槽面上被卡住滑行,最細的硬筆則在V型槽的底面上被卡住滑行,因而它可適于各種粗、細硬筆習(xí)字。硬薄板(1)可由各種塑料、玻璃和有機玻璃等材料制成。V型槽的習(xí)字軌跡(2)隨著筆的輕重有淺有深,即模仿我國書法工藝的技巧,筆畫重的地方,V型槽的習(xí)字軌跡(2)則深,筆畫輕的地方則淺,這樣可使習(xí)字者在練字過程中更接近于紙上練字的感受。該文字摹寫板可適用于練習(xí)各種中、外文字和文字的偏旁部首、字母等,尤其適于學(xué)生習(xí)字。
該粗細硬筆文字摹寫板具有不浪費紙墨,更接近于在紙上練字的效果,并適用于各種粗、細硬筆練字等優(yōu)點,有較好的經(jīng)濟和社會效益。
圖4為本實用新型的實施例主視示意圖。
圖5為圖4的仰視示意圖。
圖6為圖4的左視示意圖。
該實施例的習(xí)字軌跡(2)的筆畫交叉處(3)為弧型。
權(quán)利要求1.一種粗細硬筆文字摹寫板,在硬薄板(1)上模印有習(xí)字軌跡(2),且習(xí)字軌跡(2)凹陷,其特征是使凹陷的習(xí)字軌跡(2)做成V型槽狀,即習(xí)字軌跡(2)的橫斷面呈V型;V型槽的習(xí)字軌跡(2)隨著筆畫的輕重有淺有深。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粗細硬筆文字摹寫板,其特征是習(xí)字軌跡(2)的V型槽槽面上最好制成密集型網(wǎng)狀,保持澀度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粗細硬筆文字摹寫板,其特征是習(xí)字軌跡(2)的筆畫交叉處最好制成弧型。
專利摘要一種粗細硬筆文字摹寫板。該文字摹寫板在硬薄板上模印有習(xí)字軌跡,且習(xí)字軌跡凹陷,其特征是使凹陷的習(xí)字軌跡做成V形槽狀,即習(xí)字軌跡的橫斷面呈V形,V形槽的習(xí)字軌跡隨著筆畫的輕重有淺有深。該文字摹寫板具有不浪費紙墨,更加接近于紙上練習(xí)的效果,并適用于各種粗、細硬筆練字等優(yōu)點,可適用于練習(xí)各種中、外文字和文字的偏旁部首和字母等,尤其適于學(xué)生習(xí)字。
文檔編號B43L13/20GK2141362SQ92233279
公開日1993年9月1日 申請日期1992年9月22日 優(yōu)先權(quán)日1992年9月22日
發(fā)明者張日旭 申請人:張日旭