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      一種陶瓷工藝畫的制作方法

      文檔序號(hào):2668498閱讀:609來源:國知局
      專利名稱:一種陶瓷工藝畫的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種陶瓷工藝畫的制作方法,屬于陶瓷工藝品的制造。
      背景技術(shù)
      現(xiàn)有技術(shù)僅限于單一的壁畫、陶罐、杯、瓶、壺、盤等陶瓷產(chǎn)品的美術(shù)加工技術(shù),而未能解決將詩文書畫集于同一瓷制載體上,多內(nèi)涵又增強(qiáng)了藝術(shù)效果。具體地講,現(xiàn)有技術(shù)僅能在瓷質(zhì)材料上或書或畫,而不能既書又畫,且達(dá)不到層次分明,相得益彰的藝術(shù)效果。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處,而提供一種熔詩文、國畫、書法于一爐,將三者集于同一瓷制載體上,制出多內(nèi)涵、高品位,既有極高的欣賞價(jià)值,又有收 藏價(jià)值的瓷質(zhì)詩文書畫的制作方法。采用的技術(shù)方案是一種陶瓷工藝畫的制作方法,是將書法、繪畫、詩文通過同版套制集于同一瓷板、瓷磚或瓷盤上,具體工藝步驟為首先,將白色或淺色的瓷板、瓷磚或瓷盤備好;然后,設(shè)計(jì)版面,畫出邊線,在爐中以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840°C烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出;第三步、書寫詩文,以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840°C第二次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出;第四步、繪畫,以5-7小時(shí)緩慢升溫至820_840°C第三次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出;第五步、繪引首印和名章印,以5-7小時(shí)緩慢升溫至760°C第四次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)即可取出成品。書寫詩文所用顏料為膠色陶瓷顏料,繪畫所用顏料為油色陶瓷顏料;烤瓷用的爐可以是電爐。本方法制作的陶瓷工藝畫,以書法為主、繪畫為輔,書法、繪畫、詩文同版套制集于同一瓷質(zhì)載體上,書法詩文在前,主色調(diào)用重彩;繪畫為背景,用淺色作襯托,引首印和名章紅印點(diǎn)綴在詩文前后,使得產(chǎn)品立體感強(qiáng)、層次分明,不但可工業(yè)化生產(chǎn),且具有工藝簡單、制作方便等優(yōu)點(diǎn)。
      具體實(shí)施例方式實(shí)施例一在瓷盤上設(shè)計(jì)版面并畫出邊線后,置入爐中以5小時(shí)緩慢升溫至820°C烤瓷,待瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出并手繪詩文,仍以以5小時(shí)緩慢升溫至820°C第二次烤瓷,待瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)再次取出;然后手繪畫面,以5小時(shí)緩慢升溫至820°C第三次烤瓷,待瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出,最后手繪引首印和名章印,以5小時(shí)緩慢升溫至760°C第 四次烤瓷,待瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)即可取出成品。
      權(quán)利要求
      1.一種陶瓷エ藝畫的制作方法,其特征在于該方法是將書法、繪畫、詩文通過同版套制集于同一瓷質(zhì)載體上,它包括以下步驟 a、將白色或淺色的瓷板、瓷磚或瓷盤備好; b、設(shè)計(jì)版面,畫出邊線,在爐中以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840°C烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出 C、書寫詩文,以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840°C第二次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)取出; d、繪畫,以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840°C第三次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至.50°C以下時(shí)取出; e、繪引首印和名章印,以5-7小時(shí)緩慢升溫至760°C第四次烤瓷,待瓷板、瓷磚或瓷盤溫度降至50°C以下時(shí)即可取出成品。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種陶瓷エ藝畫的制作方法,其特征在于書寫詩文所用顔料為膠色陶瓷顏料,繪畫所用顏料為油色陶瓷顏料。
      3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種陶瓷エ藝畫的制作方法,其特征在于烤瓷用的爐可以是電爐。
      全文摘要
      一種陶瓷工藝畫的制作方法,其技術(shù)要點(diǎn)是在瓷盤上設(shè)計(jì)版面并畫出邊線后,置入爐中以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840℃烤瓷,待瓷盤溫度降至50℃以下時(shí)取出并手繪詩文,仍以以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840℃第二次烤瓷,待瓷盤溫度降至50℃以下時(shí)再次取出;然后手繪畫面,以5-7小時(shí)緩慢升溫至820-840℃第三次烤瓷,待瓷盤溫度降至50℃以下時(shí)取出,最后手繪引首印和名章印,以5-7小時(shí)緩慢升溫至760℃第四次烤瓷,待瓷盤溫度降至50℃以下時(shí)即可取出成品。
      文檔編號(hào)B44C5/04GK102774225SQ20111012153
      公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2011年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月12日
      發(fā)明者蘇亞榮 申請(qǐng)人:蘇亞榮
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