一種鐳雕裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種鐳雕裝置，其中，包括：一底座；所述底座的上端面具有一鐳雕腔室，所述鐳雕腔室為中空結(jié)構(gòu)，并且所述鐳雕腔室的一端開口，所述開口與所述中空結(jié)構(gòu)相貫通；一位于所述底座上的滑臺，所述滑臺上安裝待鐳雕的工件，所述滑臺可滑動地通過所述開口置于所述鐳雕腔室的中空結(jié)構(gòu)中；所述鐳雕腔室的上端面設(shè)有一鐳雕儀，所述鐳雕儀具有一激光裝置，所述激光裝置貫穿所述鐳雕腔室的上端面，并且正對所述滑臺；一中央控制器，所述中央控制器與所述鐳雕儀電連接。使用本實用新型一種鐳雕裝置，通過鐳雕腔室和排氣管的使用，能夠有效地避免鐳雕過程中產(chǎn)生的廢氣隨意排放至大氣中，造成空氣污染。
【專利說明】—種鐳雕裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種鐳雕設(shè)備的【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種鐳雕裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]鐳雕也稱激光雕刻，是一種用光學(xué)原理進行表面處理的工藝?，F(xiàn)有技術(shù)中，鐳雕過程大多采用人工操作。先由作業(yè)人員逐一將產(chǎn)品放到工位上進行鐳雕，完成后人工將產(chǎn)品取出，然后再放下一個產(chǎn)品進行鐳雕，不斷循環(huán)，直至將所有產(chǎn)品鐳雕完成。但現(xiàn)有的鐳雕裝置由于沒有保護裝置，鐳雕過程中產(chǎn)生的廢氣直接向外界排放，造成空氣污染。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于提供一種鐳雕裝置，以解決現(xiàn)有鐳雕裝置由于沒有保護裝置，鐳雕過程中產(chǎn)生的廢氣直接向外界排放，造成空氣污染的問題。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取的技術(shù)方案為:
[0005]一種鐳雕裝置，其中，包括:一底座；所述底座的上端面具有一鐳雕腔室，所述鐳雕腔室為中空結(jié)構(gòu)，并且所述鐳雕腔室的一端開口，所述開口與所述中空結(jié)構(gòu)相貫通；一位于所述底座上的滑臺，所述滑臺上安裝待鐳雕的工件，所述滑臺可滑動地通過所述開口置于所述鐳雕腔室的中空結(jié)構(gòu)中；所述鐳雕腔室的上端面設(shè)有一鐳雕儀，所述鐳雕儀具有一激光裝置，所述激光裝置貫穿所述鐳雕腔室的上端面，并且正對所述滑臺；一中央控制器，所述中央控制器與所述鐳雕儀電連接。
[0006]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述鐳雕腔室的側(cè)端面還設(shè)有一用于排廢氣的排氣管。
[0007]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述排氣管內(nèi)具有用于控制排廢氣量大小的閥門。
[0008]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述排氣管還具有一用于控制閥門開或關(guān)的調(diào)節(jié)器。
[0009]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述鐳雕腔室的所述開口的一側(cè)樞設(shè)一腔室門，所述腔室門與所述開口匹配。
[0010]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述底座設(shè)有滑軌，所述滑軌的一部分延伸至所述鐳雕腔室的中空結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述滑臺與所述滑軌滑動連接。
[0011]上述的一種鐳雕裝置，其中，所述滑臺設(shè)置有用于固定待鐳雕工件的定位夾具。
[0012]本實用新型由于采用了上述技術(shù)，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的積極效果是:
[0013]通過鐳雕腔室和排氣管的使用，能夠有效地避免鐳雕過程中產(chǎn)生的廢氣隨意排放至大氣中，造成空氣污染。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的一種鐳雕裝置的示意圖。
【具體實施方式】[0015]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步說明，但不作為本實用新型的限定。
[0016]圖1為本實用新型的一種鐳雕裝置的示意圖，請參見圖1所示。本實用新型的一種鐳雕裝置，包括有一底座1 ;在底座1的上端面具有一鐳雕腔室2，鐳雕腔室2為一中空結(jié)構(gòu)21，并且鐳雕腔室2的一端開口 22，開口 22與中空結(jié)構(gòu)21相互貫通。一滑臺3，滑臺3位于底座1的上端面，滑臺3上安裝有待鐳雕的工件，并且滑臺3可滑動地能夠通過鐳雕腔室2開口 22滑行至鐳雕腔室2的中空結(jié)構(gòu)21中。鐳雕腔室2的上端面設(shè)有一鐳雕儀4，鐳雕儀4具有一激光裝置41，激光裝置41貫穿鐳雕腔室2的上端面，當(dāng)滑臺3滑行至鐳雕腔室2的中空結(jié)構(gòu)21時，激光裝置4能夠正對滑臺3。一種鐳雕裝置還包括有一中央控制器(圖中未示出)，中央控制器與鐳雕儀4電連接，以此通過中央控制器來傳輸信號至鐳雕儀4。
[0017]本實用新型在上述基礎(chǔ)上還具有如下實施方式:
[0018]本實用新型的進一步實施例中，請繼續(xù)參見圖1所示。鐳雕腔室2的側(cè)端面還設(shè)置有一排氣管5。鐳雕儀4激光裝置41對滑臺3上的工件進行鐳雕時會產(chǎn)生大量廢氣，通過排氣管5能夠?qū)U氣排放至特定區(qū)域，防止影響外界空氣。
[0019]本實用新型的進一步實施例中，排氣管5內(nèi)安裝有一閥門(圖中未示出)，通過閥門來控制排氣管5中廢氣排量大小。
[0020]本實用新型的進一步實施例中，排氣管5還具有一調(diào)節(jié)器51，調(diào)節(jié)器51與閥門連接，以此通過調(diào)節(jié)器51調(diào)節(jié)閥門的開或關(guān)。
[0021]本實用新型的進一步實施例中，鐳雕腔室2的開口 22的一側(cè)樞設(shè)一腔室門23，腔室門23與開口 22匹配。當(dāng)鐳雕儀4激光裝置41對滑臺3上的工件進行鐳雕時，關(guān)閉腔室門23。
[0022]本實用新型的進一步實施例中，底座1的上端面設(shè)有滑軌11，并且滑軌11的一部分延伸至鐳雕腔室2的中空結(jié)構(gòu)21內(nèi)，滑臺3與滑軌11滑動連接。
[0023]本實用新型的進一步實施例中，滑臺3還設(shè)置定位夾具31，通過定位夾具31能夠有效地用于固定待鐳雕工件。
[0024]綜上所述，使用本實用新型一種鐳雕裝置，通過鐳雕腔室和排氣管的使用，能夠有效地避免鐳雕過程中產(chǎn)生的廢氣隨意排放至大氣中，造成空氣污染。
[0025]以上所述僅為本實用新型較佳的實施例，并非因此限制本實用新型的實施方式及保護范圍，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，應(yīng)當(dāng)能夠意識到凡運用本實用新型說明書及圖示內(nèi)容所作出的等同替換和顯而易見的變化所得到的方案，均應(yīng)當(dāng)包含在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種鐳雕裝置，其特征在于，包括:一底座；所述底座的上端面具有一鐳雕腔室，所述鐳雕腔室為中空結(jié)構(gòu)，并且所述鐳雕腔室的一端開口，所述開口與所述中空結(jié)構(gòu)相貫通；一位于所述底座上的滑臺，所述滑臺上安裝待鐳雕的工件，所述滑臺可滑動地通過所述開口置于所述鐳雕腔室的中空結(jié)構(gòu)中；所述鐳雕腔室的上端面設(shè)有一鐳雕儀，所述鐳雕儀具有一激光裝置，所述激光裝置貫穿所述鐳雕腔室的上端面，并且正對所述滑臺；一中央控制器，所述中央控制器與所述鐳雕儀電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述鐳雕裝置，其特征在于，所述鐳雕腔室的側(cè)端面還設(shè)有一用于排廢氣的排氣管。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述鐳雕裝置，其特征在于，所述排氣管內(nèi)具有用于控制排廢氣量大小的閥門。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述鐳雕裝置，其特征在于，所述排氣管還具有一用于控制閥門開或關(guān)的調(diào)節(jié)器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述鐳雕裝置，其特征在于，所述鐳雕腔室的所述開口的一側(cè)樞設(shè)一腔室門，所述腔室門與所述開口匹配。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述鐳雕裝置，其特征在于，所述底座設(shè)有滑軌，所述滑軌的一部分延伸至所述鐳雕腔室的中空結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述滑臺與所述滑軌滑動連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述鐳雕裝置，其特征在于，所述滑臺設(shè)置有用于固定待鐳雕工件的定位夾具。
【文檔編號】B44B1/06GK203511110SQ201320577688
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月17日
【發(fā)明者】胡光輝 申請人:和宏華進納米科技（上海）有限公司