一種版畫繡及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種版畫繡，包括基底、版畫和刺繡畫，版畫印刷于基底上，刺繡畫繡于帶有版畫的基底上，刺繡畫的面積大于、小于或等于版畫的面積，其制備方法為：在基底上進(jìn)行版畫印刷得到帶有版畫的基底，再在帶有版畫的基底上進(jìn)行刺繡，得到版畫繡。通過上述方式，本發(fā)明的版畫繡及其制備方法，將版畫與刺繡畫兩種藝術(shù)表現(xiàn)形式相結(jié)合，得到的版畫繡藝術(shù)價(jià)值更高，采用的基底選擇不受限制，印刷版畫方便簡單，既可以降低成本，也可以保持版畫的收藏價(jià)值，該版畫繡能滿足人們的需求，裝飾效果好，產(chǎn)品市場競爭力強(qiáng)。
【專利說明】 一種版畫繡及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種版畫繡及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在存在的刺繡品有通過將圖案打印或手繪于基底上，再在基底上面進(jìn)行刺繡而得到的。但采用打印圖案的方式使用的基底受限制，還容易褪色，通過手繪的圖案工期長，成本高，不能得到大范圍的推廣。版畫廣義上來講是一種用刀子或化學(xué)品等在銅版、鋅板、木板等版面上雕刻或蝕刻后印出來的圖畫，刺繡是針線在織物上繡制的各種裝飾圖案的總稱。版畫和刺繡均是深受消費(fèi)者喜愛的富有美感的藝術(shù)品，但沒有將二者相結(jié)合的藝術(shù)品出現(xiàn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種版畫繡及其制備方法，將兩種藝術(shù)相融合，藝術(shù)價(jià)值更高。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種版畫繡，包括基底、版畫和刺繡畫，所述版畫印刷于所述基底上，所述刺繡畫繡于帶有版畫的所述基底上，所述刺繡畫的面積大于、小于或等于所述版畫的面積。
[0005]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述版畫是通過凸版、凹版、平板或孔版印刷于所述基底上的。
[0006]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述基底的表面為平整表面或彎曲表面。
[0007]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述基底為硬質(zhì)基底或軟質(zhì)基底。
[0008]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述硬質(zhì)基底為金屬、塑料、木材、竹制或陶瓷，所述軟質(zhì)基底為纖維或紙。
[0009]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述刺繡畫的色彩與所述版畫的色彩相同或不同。
[0010]一種版畫繡的制備方法，包括步驟為:在基底上進(jìn)行版畫印刷得到帶有版畫的基底，再在所述帶有版畫的基底上進(jìn)行刺繡，得到版畫繡。
[0011]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，在所述基底上通過凸版、凹版、平板或孔版印刷得到帶有版畫的基底。
[0012]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的版畫繡及其制備方法，將版畫與刺繡畫兩種藝術(shù)表現(xiàn)形式相結(jié)合，得到的版畫繡藝術(shù)價(jià)值更高，采用的基底選擇不受限制，印刷版畫方便簡單，既可以降低成本，也可以保持版畫的收藏價(jià)值，該版畫繡能滿足人們的需求，裝飾效果好，產(chǎn)品市場競爭力強(qiáng)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中:
圖1是本發(fā)明的版畫繡第一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明的版畫繡第二較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是本發(fā)明的版畫繡第三較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
附圖中各部件的標(biāo)記如下:11、第一基底，12、第一版畫，13、第一刺繡畫,21、第二基底，22、第二版畫，23、第二刺繡畫，31、第三基底,32、第三版畫，33、第三刺繡畫。

【具體實(shí)施方式】
[0014]下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0015]實(shí)施例一:
請參閱圖1，本發(fā)明實(shí)施例包括:
一種版畫繡，包括第一基底11、第一版畫12和第一刺繡畫13。所述第一版畫2可以通過凸版、凹版、平板或孔版等多種方式印刷于所述第一基底11上，再在所述帶有第一版畫12的第一基底11上進(jìn)行刺繡，即所述第一刺繡畫13繡于帶有第一版畫12的所述第一基底11上。在本實(shí)施例中，所述第一刺繡畫3的面積與所述第一版畫12的面積相等，即在印刷有第一版畫12的圖案處均繡有所述第一刺繡畫13。所述第一基底11可以選用硬質(zhì)基底或軟質(zhì)基底。所述硬質(zhì)基底可以為金屬、塑料、木材、竹制或陶瓷等多種形式，所述軟質(zhì)基底可以為纖維或紙等多種形式。所述第一刺繡畫13的色彩與所述第一版畫12的色彩相同、相似或不同。
[0016]具體的制備方法包括步驟為:在所述第一基底11上進(jìn)行第一版畫12印刷得到帶有第一版畫12的第一基底11，再在所述帶有第一版畫12的第一基底11上進(jìn)行刺繡，得到版畫繡。
[0017]實(shí)施例二:
請參閱圖2,本發(fā)明實(shí)施例包括:
一種版畫繡及其制備方法，其結(jié)構(gòu)和方法大體與實(shí)施例一相同，區(qū)別在于本實(shí)例中的第二版畫22的圖案面積大于第二刺繡畫23的圖案面積，在第二基底21上有一部分的第二版畫22上進(jìn)行所述第二刺繡畫23的刺繡。
[0018]實(shí)施例三:
請參閱圖3，本發(fā)明實(shí)施例包括:
一種版畫繡及其制備方法，其結(jié)構(gòu)和方法大體與實(shí)施例一相同，區(qū)別在于本實(shí)例中的第三版畫32的圖案面積小于第三刺繡畫33的圖案面積，在第三基底31上有一部分的所述第三刺繡畫33是直接在所述第三基底31上刺繡的。
[0019]本發(fā)明的有益效果是:
一、所述版畫繡是將版畫與刺繡畫兩種藝術(shù)表現(xiàn)形式相結(jié)合而得到，其藝術(shù)價(jià)值更聞; 二、所述版畫繡采用的基底選擇不受限制，印刷版畫方便簡單，既可以降低成本，也可以保持版畫的收藏價(jià)值；
三、所述版畫繡能滿足人們的需求，裝飾效果好，產(chǎn)品市場競爭力強(qiáng)。
[0020]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種版畫繡，其特征在于，包括基底、版畫和刺繡畫，所述版畫印刷于所述基底上，所述刺繡畫繡于帶有版畫的所述基底上，所述刺繡畫的面積大于、小于或等于所述版畫的面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的版畫繡，其特征在于，所述版畫是通過凸版、凹版、平板或孔版印刷于所述基底上的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的版畫繡，其特征在于，所述基底的表面為平整表面或彎曲表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的版畫繡，其特征在于，所述基底為硬質(zhì)基底或軟質(zhì)基底。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的版畫繡，其特征在于，所述硬質(zhì)基底為金屬、塑料、木材、竹制或陶瓷，所述軟質(zhì)基底為纖維或紙。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的版畫繡，其特征在于，所述刺繡畫的色彩與所述版畫的色彩相同或不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的版畫繡的制備方法，其特征在于，包括步驟為:在基底上進(jìn)行版畫印刷得到帶有版畫的基底，再在所述帶有版畫的基底上進(jìn)行刺繡，得到版畫繡。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，在所述基底上通過凸版、凹版、平板或孔版印刷得到帶有版畫的基底。
【文檔編號(hào)】B44C1/24GK104385830SQ201410619404
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年11月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月7日
【發(fā)明者】劉詠波 申請人:劉詠波