陶瓷釉下影像工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種陶瓷制備工藝，特別是涉及一種陶瓷釉下影像工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]我國(guó)陶瓷具有悠久的歷史，是人類文明進(jìn)步的杰出代表，現(xiàn)今遍布我們生活的各領(lǐng)域，提高了我們的生活質(zhì)量。隨著工藝的進(jìn)步，陶瓷的質(zhì)地也在不斷地提升，市場(chǎng)上各種陶瓷制品種繁多玲瑯滿目，其實(shí)用性和裝飾性都比較強(qiáng)，為了提高美觀度多是從造型上來(lái)創(chuàng)新，也有通過(guò)表面圖案來(lái)提高觀賞性，如釉下影像，表面浮雕般的立體效果，但由于受工藝影響，圖案影像表面常會(huì)出現(xiàn)凹凸不平的現(xiàn)象，影響了其大面積推廣應(yīng)用，仍有待于技術(shù)改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種陶瓷釉下影像工藝。
[0004]本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種陶瓷釉下影像工藝，其特征在于工藝步驟如下:
a、制作石膏影像印章，將影像圖案雕于石膏表面制成印章；
b、圖案轉(zhuǎn)印，用印章將圖案轉(zhuǎn)印到未干的陶瓷坯體上；
C、上釉料，在圖案周圍的坯體上釉料，再在圖案處均勻涂撒上等熔塊粉末；d、燒制，將坯體放入窯爐按下面溫度曲線燒制:升溫第一階段2小時(shí)，溫度從室溫勻速升溫至400°C ;升溫第二階段2小時(shí)，溫度從400°C勻速升溫至900°C ;升溫第三階段1.5小時(shí)，溫度從900°C勻速升溫至1100°C ;升溫第四階段2.5小時(shí)，溫度從1100°C勻速升溫至1310°C ;保溫階段I至3小時(shí)，溫度范圍1310°C至1300°C ;然后降溫第一階段2小時(shí)，溫度勻速降至1100°C;降溫第二階段2.5小時(shí)，溫度勻速降至900°C;降溫第三階段2.5小時(shí)，溫度勻速降至500°C ;降溫第四階段3小時(shí)，溫度勻速降至室溫；出爐燒成。
[0005]進(jìn)一步的，所述工藝步驟c中圖案處在均勻涂撒上等熔塊粉末之前上一次與圖案周圍的坯體同樣的釉料。
[0006]本發(fā)明通過(guò)單獨(dú)在浮雕影像處施以上等熔塊粉末，燒制后的陶瓷釉下影像處表面光潔順滑，圖案晶瑩剔透，不僅表面浮雕般的立體效果，而且透光觀看顯影美觀大方，滿足美觀需求，還提高了實(shí)用性，使瓷面更易于清洗，不能淤積污垢。
【具體實(shí)施方式】
[0007]本發(fā)明陶瓷釉下影像工藝，具體工藝步驟如下:首先將構(gòu)思圖案通過(guò)陰雕和陽(yáng)雕手法雕刻于石膏表面，將影像圖案轉(zhuǎn)于石膏表面制成印章；再制作陶瓷坯體，用印章將圖案轉(zhuǎn)印到未干的陶瓷坯體上，在陶瓷坯體上形成立體雕刻圖像；然后先在圖案周圍的坯體上釉料，再在圖案處均勻涂撒上等熔塊粉末，上等熔塊粉末用量可以根據(jù)圖案凹陷體量來(lái)調(diào)節(jié)，凹陷體量大可以多撒一些，凹陷體量小就可以相對(duì)少撒一些；最后將坯體放入窯爐按下面溫度曲線燒制:升溫第一階段2小時(shí)，溫度從室溫勻速升溫至400°C ;升溫第二階段2小時(shí)，溫度從400°C勻速升溫至900°C ;升溫第三階段1.5小時(shí)，溫度從900°C勻速升溫至IlOO0C ;升溫第四階段2.5小時(shí)，溫度從1100°C勻速升溫至1310°C ;保溫階段I至3小時(shí)，溫度范圍1310°C至1300°C;然后降溫第一階段2小時(shí)，溫度勻速降至1100°C;降溫第二階段
2.5小時(shí)，溫度勻速降至900°C;降溫第三階段2.5小時(shí)，溫度勻速降至500°C;降溫第四階段3小時(shí)，溫度勻速降至室溫；出爐燒成。本發(fā)明通過(guò)單獨(dú)在浮雕影像處施以上等熔塊粉末，燒制后的陶瓷釉下影像處表面光滑，圖案晶瑩剔透，表面觀看浮雕般的立體效果，透光觀看顯影美觀大方，不僅滿足美觀需求，而且提高了實(shí)用性，使瓷面更易于清洗，不能淤積污垢。
[0008]石膏影像印章上雕刻造型的起伏深度要按陶瓷按透光量計(jì)算，透光顯影圖案需要灰度高的地方就坯體厚一點(diǎn)，透光顯影圖案需要灰度底的地方就坯體薄一點(diǎn)，透光顯影圖案就是靠坯體薄厚不同在光照射下光線透過(guò)不同造成的不同灰度組成的圖案。
[0009]本發(fā)明實(shí)施時(shí)圖案處也可在均勻涂撒上等熔塊粉末之前上一次與圖案周圍的坯體同樣的釉料，適用于填充體量較大的。
[0010]綜上所述僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例，凡依本申請(qǐng)所做的等效修飾和現(xiàn)有技術(shù)添加均視為本發(fā)明技術(shù)范疇。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種陶瓷釉下影像工藝，其特征在于工藝步驟如下: a、制作石膏影像印章，將影像圖案雕于石膏表面制成印章； b、圖案轉(zhuǎn)印，用印章將圖案轉(zhuǎn)印到未干的陶瓷坯體上； C、上釉料，在圖案周圍的坯體上釉料，再在圖案處均勻涂撒上等熔塊粉末； d、燒制，將坯體放入窯爐按下面溫度曲線燒制:升溫第一階段2小時(shí)，溫度從室溫勻速升溫至400°C ;升溫第二階段2小時(shí)，溫度從400°C勻速升溫至900°C ;升溫第三階段1.5小時(shí)，溫度從900°C勻速升溫至1100°C ;升溫第四階段2.5小時(shí)，溫度從1100°C勻速升溫至1310°C ;保溫階段I至3小時(shí)，溫度范圍1310°C至1300°C ;然后降溫第一階段2小時(shí)，溫度勻速降至1100°C;降溫第二階段2.5小時(shí)，溫度勻速降至900°C;降溫第三階段2.5小時(shí)，溫度勻速降至500°C ;降溫第四階段3小時(shí)，溫度勻速降至室溫；出爐燒成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷釉下影像工藝，其特征在于所述工藝步驟c中圖案處在均勻涂撒上等熔塊粉末之前上一次與圖案周圍的坯體同樣的釉料。
【專利摘要】本發(fā)明公布了一種陶瓷釉下影像工藝，其特征在于工藝步驟如下：先制作石膏影像印章，將影像圖案雕于石膏表面制成印章；再圖案轉(zhuǎn)印，用印章將圖案轉(zhuǎn)印到未干的陶瓷坯體上；然后上釉料，在圖案周圍的坯體上釉料，再在圖案處均勻涂撒上等熔塊粉末；最后裝爐燒制；本發(fā)明通過(guò)單獨(dú)在浮雕影像處施以上等熔塊粉末，燒制后的陶瓷釉下影像處表面光滑，圖案晶瑩剔透，不僅滿足美觀需求，而且提高了實(shí)用性，使瓷面更易于清洗，不能淤積污垢。
【IPC分類】B44C5/00, C04B41/89
【公開(kāi)號(hào)】CN105564121
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410536990
【發(fā)明人】林金東
【申請(qǐng)人】林金東
【公開(kāi)日】2016年5月11日
【申請(qǐng)日】2014年10月13日